一种混凝土地坪的平整度控制结构.pdf

本实用新型公开了一种混凝土地坪的平整度控制结构，包括可调节高度的支撑装置，支撑装置包括底座，支撑装置上设有用于固定槽钢模板的水平连接件，底座中心设有与可调螺杆配合使用的竖直螺纹孔，水平连接件固定设置在可调螺杆的外侧，水平连接件四周方向与槽钢模板底撑板上均设置相互配合的连接孔，所述槽钢模板顶撑板上设有标尺件。本实用新型通过可调螺杆调节槽钢模板的高度，当槽钢模板底撑板与底座之间缝隙较大时，打开活动挡板从而减少在浇筑时混凝土流入缝隙的可能性，保证地坪两侧槽钢模板标高一致，控制地坪的平整度。

1.一种混凝土地坪的平整度控制结构，其特征在于：包括可调节高度的支撑装置，所述支撑装置上设有用于固定槽钢模板的水平连接件，所述水平连接件四周方向与槽钢模板底撑板上均设置相互配合的连接孔，所述槽钢模板顶撑板上设有标尺件。2.根据权利要求1所述的一种混凝土地坪的平整度控制结构，其特征在于：所述支撑装置包括底座，底座中心设有与可调螺杆配合使用的竖直螺纹孔，水平连接件固定设置在可调螺杆的外侧。3.根据权利要求2所述的一种混凝土地坪的平整度控制结构，其特征在于：所述底座下部设有圆弧固定座。4.根据权利要求3所述的一种混凝土地坪的平整度控制结构，其特征在于：所述圆弧固定座设有与施工基础固定的固定孔。5.根据权利要求3所述的一种混凝土地坪的平整度控制结构，其特征在于：所述槽钢模板下边缘与敞口侧相对的一侧通过铰链连接挡板。6.根据权利要求4或5任一所述的一种混凝土地坪的平整度控制结构，其特征在于：所述槽钢模板底部中间安装卡扣。

一种混凝土地坪的平整度控制结构

技术领域

本实用新型涉及建筑施工领域，具体涉及一种混凝土地坪的平整度控制结构。

背景技术

目前，对于大面积建筑地坪的施工质量要求越来越高，而地坪的平整度，作为保证地坪施工质量的关键性指标之一，尤其受到人们的关注。

为保证地坪的平整度，传统的施工方式一般会采用木模板或钢模板，中国专利CN204059894U公开了一种混凝土地坪的平整度控制结构，但是该结构比较复杂，且根据说明书第39段，由于模板会在高度调节件作用下上升，这就导致底撑板的底面与施工基础之间形成缝隙，在浇筑时，混凝土就可能流入此缝隙中，进而影响浇筑地坪的质量。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种混凝土地坪的平整度控制结构，本实用新型有效解决了现有混凝土地坪的平整度控制结构结构复杂、容易漏浆的技术问题。

本实用新型通过以下技术方案实现：

一种混凝土地坪的平整度控制结构，包括可调节高度的支撑装置，所述支撑装置上设有用于固定槽钢模板的水平连接件，所述水平连接件四周方向与槽钢模板底撑板上均设置相互配合的连接孔，所述槽钢模板顶撑板上设有标尺件。

所述支撑装置包括底座，底座中心设有与可调螺杆配合使用的竖直螺纹孔，水平连接件固定设置在可调螺杆的外侧。

所述底座下部设有圆弧固定座。

所述圆弧固定座设有与施工基础固定的固定孔。

所述槽钢模板下边缘与敞口侧相对的一侧通过铰链连接挡板。

所述槽钢模板底部中间安装卡扣。

本实用新型与现有技术相比，具有以下明显优点：

本实用新型通过固定座上的固定孔与施工基础进行固定，通过可调螺杆调节槽钢模板的高度，通过水平连接件四周方向上的连接孔固定槽钢模板底撑板，挡板通过限位件固定在槽钢模板底部，当槽钢模板底撑板与底座之间缝隙较大时，打开限位件使挡板和施工基础垂直，减少在浇筑时混凝土流入缝隙的可能性，保证地坪两侧槽钢模板标高一致，控制地坪的平整度。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中，附图标记说明如下：

1、槽钢模板；2、水平连接件；3、底撑板；4、顶撑板；5、连接孔；6、底座；7、竖直螺纹孔；8、可调螺杆；9、固定孔；10、挡板；11、限位件；12、固定座。

具体实施方式

如图1所示，一种混凝土地坪的平整度控制结构，包括可调节高度的支撑装置，支撑装置上设有用于固定槽钢模板1的水平连接件2，水平连接件2沿四周方向间隔设置连接孔5，槽钢模板底撑板3上设置有相同孔径的连接孔5，槽钢模板顶撑板4上设有标尺件。支撑装置包括底座6，底座中心设有与可调螺杆8配合使用的竖直螺纹孔7，水平连接件2为环形结构，固定设置在可调螺杆8的顶部外侧。底座6下部设有除待浇筑地坪方向以外的270度圆弧固定座12，圆弧固定座12上间隔设置有与施工基础固定的固定孔9。槽钢模板1下边缘与敞口侧相对的一侧通过铰链连接挡板10，挡板10以底撑板的与敞口侧相对的一侧边缘为轴心在与底撑板呈0～90角的范围内转动。槽钢模板1底部中间安装限位件11。图1中限位件为卡扣，根据实际需要还可以设置为螺钉或其它活动连接件。挡板与底撑板也可通过在长度方向装设长合页连接在一起。

本实用新型方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段，还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。