容器内气体的外漏阻绝方法以及具备内部气体的 外漏阻绝构造的容器 【技术领域】
本发明涉及阻绝气体从容器内部向外泄漏的方法，以及具备内部气体的外漏阻绝构造的容器，该容器由上部开口且具有一定内容积的容器本体、以及载置于该容器本体上的闭塞上述开口部的盖体所构成。背景技术
例如，构成液晶基板的TFT基板是经过各种工序制造的，在各工序中，诸如显像液及抗蚀膜的涂布，及其剥离用地药液、蚀刻液或洗净液的涂布等，对TFT基板涂布各种处理液。
其中，例如，在蚀刻工序中会使用蚀刻装置，在该装置的给定容器内适当配设有支撑基板的支撑机构、以及配置于基板的上方且对基板喷射蚀刻液的蚀刻液喷射机构等。并且，在上述支撑机构中具有使所支撑的基板水平旋转的机构或水平搬运基板的机构等。
在该蚀刻装置中，需要定期清洁容器内部的污垢，以保持容器内部的清洁，并且，在构成上述支撑机构或蚀刻液喷射机构的零件等损坏时，需要更换零件。因此，为了进行保养作业，在构成上述蚀刻装置的容器具备上部开口的构造的同时，也具备利用盖体来闭塞该开口部的构造，如此即可从上部开口部进行保养作业。
然而，上述蚀刻过程中所使用的蚀刻液具有腐蚀性高且易于气化的性状，并且当蚀刻液从喷射机构喷射出之际将成为雾状。气化的蚀刻液气体或雾状蚀刻液一旦泄漏到容器外的话，将对装置周围的机械、器具或人员造成不良的影响。
因此，目前，在上述容器的开口部边缘与盖体的接触部加入密封件类等的密封构件，在此状态下，以许多螺栓把容器与盖体锁在一起，来防止气化的蚀刻液气体或雾状蚀刻液泄漏到容器外。
然而，以许多螺栓把上述容器与盖体锁在一起的构造上，虽然对于气化的蚀刻液气体或雾状蚀刻液泄漏到容器外一事有效，但在进行保养作业时需要进行许多螺栓的拆卸及再锁紧，使得该作业手续变得极为繁杂。因此，保养作业上会花费长时间，结果是造成蚀刻装置的运转率降低。发明内容
本发明是鉴于上述情况而开发出来的，其目的在于提供一种容器内气体的外漏阻绝方法以及具备内部气体的外漏阻绝构造的容器，以确实防止内部气体向外泄漏，且能够在短时间轻易地拆装盖体。
本发明涉及一种容器内气体的外漏阻绝方法，用来阻绝容器内的气体向外部泄漏出，该容器由上部开口且具有一定内容积的容器本体、以及载置于该容器本体上方的闭塞上述开口部的盖体所构成，其特征在于：在所述容器本体的上端部外周形成上部开口的环状的凹槽部，该凹槽部内可贮存液体，并且在所述盖体的边缘，形成从该边缘部向下垂的下垂部，将该下垂部以其下端部浸泡于所述凹槽部内液体中的方式外嵌于所述容器本体的上端部，通过所述凹槽内的液体来把容器内的环境与容器外的环境阻绝开。
另外，本发明涉及一种具备内部气体的外漏阻绝构造的容器，该容器由上部开口且具有一定内容积的容器本体、以及载置于该容器本体上方的闭塞上述开口部的盖体所构成，其特征在于：在所述容器本体的上端部外周形成上部开口的环状的凹槽部，在该凹槽部内可贮存液体，并且在盖体的边缘，形成从该边缘部向下垂的下垂部，该下垂部能以其下端部浸泡于所述凹槽部内液体中的状态外嵌于所述容器本体的上端部。
根据上述各项发明，把在盖体边缘所形成的下垂部，以其下端部浸泡于凹槽部内贮存的液体的方式，外嵌于容器本体的上端部，使得容器内环境与外部环境被凹槽部内的液体所阻绝开。虽容器内的环境有可能经由容器本体与盖体之间的间隙而接触凹槽部内的液体，但却不会直接与外部环境相连通。由此，将确实防止容器内的气体泄漏到外部。还有，盖体因仅载置在容器本体上，故其拆卸容易且在短时间内即可完成拆卸的动作。
当容器内部有气化气体或液体变成雾状的东西存在时，若该气化气体或雾状物相对于凹槽内的液体具有可溶性的话，当接触凹槽内液体时就会溶入，容器内气化气体或雾状物将不会泄漏到外部。因此即使是腐蚀性极高的液体，诸如显像液、蚀刻液或剥离液等，也不会对容器周围的机械、器具或人员造成不良的影响。
在这种情况下，进一步在盖体外边缘的内侧下面，沿上述下垂部形成从上述下面向下垂的第2下垂部，该第2下垂部可内嵌于容器本体的上端部。如此一来，便形成一种迷宫构造，即容器本体的上端部插入上述盖体的下垂部与第2下垂部之间，容器本体内的气化气体或雾状物就难以到达上述凹槽内的液体。
并且，在上述外漏阻绝方法及具备漏出阻绝构造的容器中，也可在上述容器本体的上缘部，设置一种由弹性体构成、且以气密状接触于上述盖体内面的环状密封构件，利用该密封构件来防止容器本体内气体泄漏到外部。
若是如此，通过设在容器本体的上缘部的环状密封构件，将防止容器本体内的气体向外部泄漏出。因此，即使在容器内部有气化气体或雾状物，该气化气体或雾状物更难到达上述凹槽内的液体。
并且，也可对上述凹槽内不断地供应液体，并且将凹槽内的液体不断地排出，使上述凹槽内液体不断地被更换且其贮存量保持一定。
如上所述，当容器内部有气化气体或雾状物存在时，若气化气体或雾状物相对于凹槽内的液体具有可溶性的话，则接触凹槽内的液体时就会溶入。因此，若不予理会的话，溶进凹槽内液体的气化气体成分或雾状物成分的浓度都将增加。
如上述那样，因上述凹槽内的液体不断地被更换为新的液体，所以可防止溶进凹槽内液体的气化气体成分或雾状物成分的浓度都增加。
还有，上述所谓外嵌，是指下垂部相对于在容器本体的上端部，除了确实地被嵌合的情形之外，并含有以留有相当间隙的方式被嵌合的情形，而内嵌也同样，第2下垂部相对于容器本体的上端部，除了有确实地被嵌合的情形之外，并含有以留有相当间隙的方式被嵌合的情形。附图说明
图1是表示本发明的优选的蚀刻装置的俯视图。
图2是图1中的B-B方向的剖视图。
图3是表示图2中的A部的放大图。
图4是本发明另一实施方式的闭盖及缘板的说明图。具体实施方式
以下，根据附图更详细说明本发明。
本发明的蚀刻装置1是对TFT基板施以蚀刻处理的装置，如图1及图2所示，包括：由上部开口的容器本体(以下称槽本体)3和使此槽本体3的开口部11闭塞的闭盖20所形成的容器(以下称蚀刻槽)2；配设于该槽本体3内的蚀刻液喷射装置40；以及以水平方向搬运基板K的搬运装置50等。并且，如图1所示，以直线状设置相连的多个本实施例的蚀刻装置1。
如图1至图3所示，上述槽本体3由矩状形的底板8、立设于该底板8的边缘的侧面板4、5、6、7、以及在底板8的上方并与其相对向的顶板9所构成，具有由底板8、侧面板4、5、6、7与顶板9所围绕的给定的内容积。
把上述侧面板4、5、6、7设为分别从顶板9向上延伸的状态，在图1及图2中，各延伸部的符号为4a、5a、6a、7a。并且，顶板9具备矩形开口部11，在此开口部11的边缘立设缘板10。通过延伸部4a、5a、6a、7a、顶板9及缘板10，在上述开口部11的周围形成一环状凹槽12。并且，在上述缘板10的上端部装设截面呈H状的密封件30，并且在密封件30上槽30a内安装O型环31。
上述闭盖20由矩形的盖本体21、在盖本体21的边缘向下垂的第1下垂部22、在上述盖本体21的边缘的内侧下面且与上述第1下垂部22平行而垂下的第2下垂部23所构成。而且，此闭盖20，在第1下垂部22、第2下垂部23之间插入有上述槽本体3的缘板10的状态下，即，在第1下垂部22外嵌于缘板10、且第2下垂部23内嵌于缘板10的状态下，载置于O型环31上方，以使其下面与O型环31气密性地接触，使槽本体3的开口部11闭塞。
还有，在盖本体21上面设有把手24，以便可以握持此把手24将闭盖20在槽本体3上进行拆装。并且，在盖本体21上形成被透明板材所关闭着的检窗口25，从该检窗口25可以观察槽本体3内的情形。
在上述槽本体3的凹槽12内配设有连接于给水源(未图示)的出水部35，水从该出水部35流至凹槽12内。并且，在该凹槽12处设有排水部36，从上述出水部35流向凹槽12内并贮存的水从该排水部36排出。而且，凹槽12内所贮存的水量的水位被保持在上述第1下垂部22下端的上方。
如图2所示，上述搬运装置50具备上下并排着且与纸面垂直的方向上多列配设的搬运滚轮装置51、52，在把基板K夹持于搬运滚轮51、52之间的状态下，以与纸面垂直的方向(图1箭头所示的C方向)搬运。
如图2所示，上述蚀刻液喷射装置40由多个蚀刻液喷嘴41、以及把已加压的蚀刻液供给上述蚀刻液喷嘴41的蚀刻液供给机构(未图示)等所组成。蚀刻液喷嘴41在由搬运滚轮51、52所搬运的基板K的上方，沿着其宽度方向和搬运方向来排列，并对由搬运滚轮51、52所搬运的基板K的上方喷射蚀刻液。还有，在沿着基板K搬运方向的基板K的两侧，分别排列有与适当洗净液供给装置(未图示)连接的洗净液喷嘴42，从该洗净液喷嘴42向上述盖本体21的下面及第2下垂部23喷射洗净液。
根据具备以上结构的本实施例的蚀刻装置1，基板K被搬运滚轮51、52往其搬运方向所搬运，蚀刻液从蚀刻液喷嘴41向基板K上面喷出。并且，基板K依次被搬运到相连成一直线的蚀刻装置1，并分别在各蚀刻装置1上受到蚀刻。
蚀刻液具有易于气化的性状，并且，当从蚀刻液喷嘴41喷出时会呈雾状。并且，气化的蚀刻液气体或雾状物将充满整个槽本体3内。该气化的蚀刻液气体或雾状物具有极高的腐蚀性，它若从槽本体3向外部泄漏的话，将对装置周围的机械、器具与人体造成不良的影响。
根据本实例的蚀刻装置1，在构成槽本体3的缘板10的上端部装有密封件30，在装好的密封件30的上槽30a内装有O型环31，在气密性地与该O型环31接触的状态下，由于成为在该O型环31上载置闭盖20的结构，故槽本体3内的环境与外部环境均被此O型环31所阻绝开。因此，当气化的蚀刻液气体或雾状物要从槽本体3内向外部泄漏出时，则可由该O型环进行第一阶段的外漏防止。
另外，在本实施例的蚀刻装置1中，因在槽本体3的开口部11周围形成环状的凹槽12，并且在此凹槽12内贮存水，把闭盖20第1下垂部22的下端浸泡在水内，故槽本体3内的环境与外部环境被凹槽12内的水所阻绝开。因仅闭盖20载置于O型环31的上方，故盖本体21与O型环31之间的气密性未必足够，从盖本体21下面与O型环31之间所产生的间隙中有可能会有槽本体3内的蚀刻液气体或雾向外部泄漏出。然而，在本实例的蚀刻装置1中，如上所述，由第1下垂部22、缘板10、密封件30及O型环31所包围的环境会被凹槽12内所贮存的水阻绝于外部环境之外，故从盖本体21下面与O型环31之间的间隙所泄漏出的蚀刻液气体或雾状物会被凹槽12内的水进行第2阶段阻绝。因此，由于凹槽12内的水及上述O型环31的共同作用，而可确实防止存在于槽本体3内的蚀刻液气体或雾状物向外部泄漏。
若从盖本体21下面与O型环31之间的间隙所泄漏出的蚀刻液气体或雾状物相对于凹槽12内的水具有可溶性的话，在与凹槽12内的水接触时，就可溶解于水中，故蚀刻液气体或雾状物绝不会向外部泄漏。因此，即使是腐蚀性极高的物品，也不会对容器周围的机械、器具或人员造成不良的影响。
另一方面，若放着不管的话，溶解于凹槽12内水的蚀刻液气体或雾状物的成分的浓度会增加。在本实施例中，在由出水部35向凹槽12内供给水的同时，也把贮存于凹槽12内的水通过排水部36向外排出，因不断地把凹槽12内的水更换为新的水，故可防止溶解于凹槽12内的水中的蚀刻液气体或雾状物的成分的浓度增加。
并且，由于成为在上述闭盖20的第1下垂部22与第2下垂部23之间插入有槽本体3的缘板10的状态，所以由此形成迷宫构造，如此槽本体3内的蚀刻液气体或雾状物会更难抵达盖本体21下面与O型环31之间的间隙。因此，这种构造也可防止槽本体3内的蚀刻液气体或雾状物向外部泄漏。
并且，在本实施例中，在将盖本体21拆卸下来之前，洗净液会从洗净液喷嘴42向盖本体21下面及第2下垂部23上喷射。附着于盖本体21下面及第2下垂部23的蚀刻液将被冲掉，而防止在盖本体21卸下时蚀刻液被带出到外部。
而且，因闭盖20载置于槽本体3上方，故容易拆卸且能在短时间内即可完成拆卸。因此蚀刻装置1内的保养作业能够容易地进行。
以上已就本发明的实施方式作了说明，但本发明可采取的具体方式并没有什么限制。
例如，如上所述，通过设置上述第2下垂部23、密封件30及O型环31，就可更有效地防止内部气体的泄漏，另外，也可以不设置这些，而变成缘板10的上端部与盖本体21的下面接触的结构。
若是如此的话，槽本体3内的气体有可能从盖本体21下面与缘板10的上端面之间的间隙中泄漏出，但由于凹槽12内有水贮存其中，故槽本体3内的气体将不可能向外部泄漏。
在这种情形下，供给凹槽12水的出水部35也可以省略。即，如上所述，盖本体21的下面因被从洗净液喷嘴42喷出的洗净液所洗净，该洗净液将从盖本体21下面与缘板10上端面之间的间隙中泄漏出并贮存于凹槽12内。其意思是，如图4所示，也可在缘板10的上端部形成凹部10a，尽量使洗净液从该凹部10a泄漏出。产业上利用的可能性
如上所述，本发明除可应用于上述的蚀刻装置外，也可应用于其它各种装置，例如显像液涂布装置、抗蚀膜形成装置、抗蚀膜剥离装置或洗净装置等。