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本发明涉及对基片制造方法的改进,所述基片可以以各种形状和尺寸应用于各种验证和安全领域,这种方法结合了由对防伪元件进行金属化或者脱金属所形成标记的优点和液晶材料的色彩偏移效果的优点。因此,本发明提供了一种制造基片的方法,包括下述步骤:在基本透明的聚合薄膜的一个侧面上将一种深色抗蚀剂涂敷在金属层的至少一部分上;将金属从没有被所述抗蚀剂覆盖的区域中去除,以形成脱金属区域;以及在所述抗蚀剂和脱金属区域的上。