无掩模应用中指示衬底上故障的系统和方法.pdf

用于指示衬底上故障的方法和系统。本发明的方法包括以下步骤。确定数据是否包括至少一个可疑位。利用所述数据控制图案发生器。利用所述图案发生器使辐射束具有图案。将具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分。将具有图案的辐射束中的一个或多个标记投射到所述衬底上，指示与至少一个可疑位相对应的目标部分。

1.  一种用于指示衬底上故障的方法，所述方法包括：
(a)确定数据是否包括至少一个可疑位；
(b)利用所述数据控制图案发生器；
(c)利用所述图案发生器使辐射束具有图案
(d)将所述具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分上；以及
(e)将所述具有图案的辐射束中的一个或多个标记投射到所述衬底上，指示与在步骤(a)中所确定的至少一个可疑位相对应的所述目标部分。

2.  如权利要求1所述的方法，其中步骤(a)包括：
使用差错检测算法来确定所述数据是否包括至少一个可疑位。

3.  如权利要求1所述的方法，其中步骤(a)包括：
将差错准则与所述数据进行比较。

4.  如权利要求3所述的方法，其中所述差错准则包括：
如果所述数字二进制数的一个或多个最低有效位是1，则确定不存在至少一个可疑位；以及
如果所述数字二进制数的一个或多个最高有效位是1，则确定存在至少一个可疑位。

5.  如权利要求3所述的方法，其中还包括：
手动输入所述差错准则。

6.  如权利要求1所述的方法，其中所述衬底包括平板显示器，并且其中所述标记起所述平板显示器的平板上至少一个可疑部分的坐标的作用，所述至少一个可疑部分对应于所述至少一个可疑位。

7.  如权利要求1所述的方法，其中还包括：
检验包括所述标记的所述衬底区域，以便确定与所述标记相关联的所述特征是否在预定规范之内。

8.  如权利要求1所述的方法，其中步骤(d)(e)中所述衬底包括半导体衬底、平板显示器衬底和聚合物衬底中的至少一种。

9.  一种系统，它包括：
控制模块，它检测数据是否包括至少一个可疑位并产生可疑位信息；
图案发生器，它使辐射束具有图案，其中所述数据和可疑位信息用来控制所述图案发生器；以及
投射系统，它将所述具有图案的辐射束投射到衬底的目标部分。

10.  如权利要求9所述的系统，其中所述控制模块包括：
存储器，它存储所述数据和与所述至少一个可疑位有关的任何可疑位信息；以及
光栅化器，它将所述数据和任何可疑位信息发送到所述图案发生器。

11.  如权利要求9所述的系统，其中所述具有图案的射束包括：
与所述数据相关联的图案；以及
至少一个与所述可疑位信息相关联的标记，所述可疑位信息与所述图案相关联。

12.  如权利要求9所述的系统，其中所述控制模块包括：
检测器，它将差错准则与所述数据进行比较，以便确定所述数据中是否存在至少一个可疑位。

13.  如权利要求12所述的系统，其中还包括：
用于输入所述差错准则的输入装置。

14.  如权利要求11所述的系统，其中所述至少一个标记起所述至少一个可疑位在所述衬底上的坐标的作用。

15.  如权利要求9所述的系统，其中还包括：
检验系统，它检验由所述标记标出的所述衬底上的潜在问题区域，以便确定关联的图案是否在预定规范之内。

16.  如权利要求9所述的系统，其中所述衬底包括半导体衬底、玻璃衬底和聚合物衬底中的至少一种。

无掩模应用中指示衬底上故障的系统和方法
技术领域
本发明针对光图案形成装置及其使用方法。
背景技术
图案形成装置用于使输入的光线具有图案。静态图案形成装置可以包括掩模母版或掩模。动态图案形成装置可以包括通过接收模拟或数字信号而产生图案的单独可控元件阵列。模拟或数字信号通过数据通路传送。用于控制动态图案形成装置使得其单独可控元件处于形成所需图案的正确状态的算法称为光栅化算法或光学光栅化算法。使用图案形成装置的环境实例可以是(但不限于)：光刻设备、投影仪、投影显示设备等等。
通过数据通路处理和传送大量用于控制动态图案形成装置的单独可控元件阵列的数据，这使得有可能在数据通路中的某些地方产生位错。这些位错可能导致由具有图案的光线曝光的图案中的差错。
所以，需要一种方法和系统来检测数据通路中是否有位错存在。如果检测到位错，还应确定所述位错是否已导致已曝光图案中的差错。
发明内容
按照本发明的一个方面，提供一种方法，所述方法包括以下步骤。确定数据是否包括至少一个可疑位。利用所述数据来控制图案发生器。图案发生器使辐射束具有图案。将具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分。将具有图案的辐射束中的一个或多个标记投射到衬底上，指示因一个或多个可疑位而导致的可能图案差错的位置。
按照本发明的另一方面，提供一种系统，它包括控制模块、图案发生器和投射系统。控制模块检测数据是否包括至少一个可疑位并产生可疑位信息。图案发生器使辐射束具有图案。数据和可疑位信息用来控制图案发生器。投射系统将具有图案的辐射束投射到衬底的目标部分上。
以下参阅附图对本发明的其他实施例、特征和优点以及本发明各种实施例的结构和操作进行详细说明。
应理解，此”发明内容”代表本发明的一个或多个实施例和/或实例，但不是其全部实施例和/或实例，所以绝不应认为是限制本发明或所附权利要求书。
附图说明
包括在本文中并构成本说明书一部分的附图图解说明本发明，并和说明书一起用于解释本发明的原理，使本专业的技术人员能够制作并使用本发明。
图1示出按照本发明实施例的示范光刻设备。
图2示出按照本发明实施例的示范控制模块。
图3示出按照本发明实施例的方法流程图。
现参阅附图对本发明加以说明。在各图中，相同的标号表示相同或功能类似的元件。
具体实施方式
I.概述
虽然在本文中具体参考了光刻设备在集成电路制造中的应用，但应理解，本文所述的光刻设备可有其它应用，例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、薄膜磁头、微型和大型射流装置等。
本发明的方法和系统可以用来确定数据通路中的可疑位是否已导致衬底上曝光图案中的差错。本发明各方面的优点包括用户有较高的产量、较易于诊断以及用户对数据通路有较高的信心。
“具体实施方式”分成六个小节。小节II公开在本文件中使用的词汇。小节III说明按照本发明实施例的示范光刻设备。小节IV说明按照本发明实施例的示范方法。小节V包括对本发明实施例优点的讨论。最后，在小节IV，讨论了结论意见。
II.词汇
本文中使用的词汇”晶片”或”管芯”可以认为分别和更通用的词语”衬底”或”目标部分”同义。本文称作的衬底可以在曝光前或曝光后在例如导轨(track)(通常将光刻胶层加到衬底上并显影已曝光光刻胶的工具)或计量或检验工具中进行加工处理。在适用处，本文公开的内容可以用于这些和其它的衬底加工工具。而且，例如为了创建多层IC，衬底可以加工不止一次，所以本文所用的词语衬底也可以指已含有多加工层的衬底。
本文所用的词语”辐射”和”射束”包括所有类型的电磁辐射，包括紫外(UV)辐射(例如具有的波长为365、248、193、157或126nm)和远紫外(EUV)辐射(例如具有的波长在5-20nm的范围内)，以及粒子束，例如离子束和电子束。
本文所采用的词语”单独可控元件阵列”应广义解释为能用于将具有图案的截面赋予输入辐射束的任何装置，以便在衬底的目标部分上创建所需图案。在这个意义上，也可以使用词语”光阀”和”空间光调制器”(SLM)。这些图案形成装置的实例将在下面讨论。
本文中所用的词语”投射系统”应广义解释为涵盖各种类型的投射系统，包括适合于所使用的曝光辐射，或适合于其它因素(例如使用浸没流体或使用真空)的例如折射光学系统、反射光学系统以及反射折射光学系统。本文使用的词语”透镜”在任何时候都可以认为和更通用的词语”投射系统”同义。
III.示范光刻设备
图1为按照本发明实施例的光刻投影设备100的示意图。设备100包括辐射系统102、图案发生器104、投射系统108(“透镜”)和载物台106(例如衬底台)。以下是光刻设备100的工作概述。概述之后讨论光刻设备100地可供选择的实施例。在光刻设备100的概述和可供选择的实施例之后，对设备100中每个元件的详情和可供选择的
实施例加以说明。
A.概述和可供选择的实施例
辐射系统102可以用于提供辐射束110(例如UV辐射)。在此特定情况下，辐射系统102还包括辐射源112。在利用分束器118引导之后，射束110接着与图案发生器104相交。图案发生器104(例如可编程镜面阵列)可以用来将图案加到射束110上。射束110被图案发生器104反射后，穿过投射系统108，投射系统108将射束110聚焦到衬底114的目标部分120上。衬底由载物台106支撑，以下详述。
在另一实施例中(未示出)，光刻设备100可以是具有两个(例如双级)或多个衬底台(和/或两个或多个掩模台)的类型。在这种多级设备中，附加台可以并行使用，即，准备步骤在一个或多个台上进行，而另一个或多个台用于曝光。
光刻设备100还可以是以下类型，其中衬底浸没在折射率较高(如水)的液体(未示出)中，以便填满投射系统的最终元件和衬底之间的空间。浸没液体也可以加到光刻设备的其它空间中，例如衬底和投射系统的第一元件之间。浸没技术在业界众所周知可以用于增大投射系统的数值孔径。
此外，光刻设备100还可以配备有流体处理单元，以便允许流体和衬底的被辐射部分之间的相互作用(例如选择性地将化学物附着到衬底上或选择性地修改衬底的表面结构)。
虽然在本文中把按照本发明实施例的光刻设备描述为用于曝光衬底上的光刻胶，但是应理解，本发明不限于此应用，设备100可以用来投影用于无光刻胶光刻中的具有图案的射束110。
B.辐射系统
辐射系统102可以包括辐射源112、调节装置126和照射源(照射器)124。而且，照射器124一般会包括各种其它部件，例如积分器130和冷凝器132。
辐射源112(例如，准分子激光器)能产生辐射束122。辐射束122或直接或经过调节装置126(例如射束扩展器)后被馈入照射源(照射器)124。调节装置128可以用来设定射束122中强度分布的外和/或内轴向广延(通常分别称为σ外和σ内)。这样，打到图案发生器104上的射束110在其截面就具有所需的均匀度和强度分布。
应当指出，在图1中，辐射源112可以在光刻投影设备100的机壳中(例如，当辐射源112是汞灯时常是这种情况)。在不同的实施例中，辐射源112也可以远离光刻投影设备100。在这种情况下，应当把辐射束122引入设备100中(例如借助于适当的导向镜面)。当辐射源112是准分子激光器时，常是后面这种情况。应理解，这两种情况都应认为属于本发明的范围之内。
照射源还可以包括各种类型的光学部件，包括折射、反射和反射折射光学部件，用于引导、成形或控制辐射束，这些部件在下文中可以统称或单独称为”透镜”。
C.图案发生器
图案发生器104包括空间光调制器(SLM)，可以认为它代替了传统的掩模母版。除了SLM外，图案发生器104还包括用于SLM像素和数据通路的驱动电子线路。输入的图像数据被转换成适当的格式并由控制模块150(以下将详述)经数据通路馈入到SLM。驱动电子线路在SLM图案更新时依次寻址每个SLM像素，亦即，可以通过正则矩阵寻址来装入每个新的SLM图像帧。帧速率，亦即每个新图像帧装入SLM所需的时间，是设备生产能力的决定性因素。
目前的技术不允许构建能够提供在许多应用中给出所需产量所需要的大规模像素阵列的单一SLM。所以，将多个SLM阵列(MSA)并联使用来提供所需的像素数量。例如，将来自MSA中不同SLM的像素”缝合”在一起，在衬底上形成内聚(cohesive)图像。这可以利用运动控制和灰度定标技术来实现。在以下说明中，提到SLM处可以理解为包括MSA。
一般来说，图案发生器104的位置可以相对于投射系统108固定。但在另一种结构中，图案发生器104可以连接到定位装置(未示出)上，以便使其相对于投射系统108精确定位。如图1所示，图案发生器104是反射型，例如可编程镜面阵列。
应理解，作为另一方案，滤波器可滤去折射光，留下未折射光到达衬底。也可以以相应方式使用衍射光学微型机电系统(MEMS)器件阵列。每个衍射光学MEMS器件可以包括多个反射条带，它们可以彼此相对地变形，形成将入射光反射为衍射光的光栅。
另一可供选择的实施例可以包括采用微小镜面矩阵结构的可编程镜面阵列，通过施加适当的局部电场或通过采用压电激励装置，可以使每个微小镜面围绕轴线单独倾斜。镜面也是可矩阵寻址的，使得已寻址镜面沿不同方向将入射的辐射束反射到未寻址镜面；这样，反射的射束就按照所述可矩阵寻址镜面的寻址图案被图案化。可以使用适当的电子装置进行所需的矩阵寻址。
在上述情况下，单独可控元件阵列可以包括一个或多个可编程镜面阵列。有关此处提到的镜面阵列的更多信息，可以查阅例如美国专利5,296,891和5,523,193，以及PCT专利申请WO 98/38579和WO 98/33096，它们的全部内容已作为参考包括在本文内。
还可以使用可编程LCD阵列。这种构造的实例在美国专利5,229,872中给出，其全部内容已作为参考包括在本文内。
其它类型的图案发生器可以包括(但不限于)：倾斜反射装置、活塞式反射装置、灰色调透射装置以及灰色调反射装置。
D.控制模块
控制模块150包括数据通路，且通常包括存储装置，用于存储”掩模文件”和光栅化器。存储装置含有要印刷到衬底上的整个图像。光栅化器将加载到SLM上的适当部分的图像转换为SLM像素值的位图，后者代表将所需图像传递到衬底上所需的图案。控制模块150还包括一个或多个帧缓冲器以及每次加载新SLM帧时进行SLM矩阵寻址所需要的其它传统部件。适当的图像数字化以及SLM驱动电子线路对有关的技术人员来说是显而易见的。例如，控制模块150可以非常类似于基于位图的掩模写入器，但具有用于寻址所使用的特定类型SLM的各个SLM像素的适合的矩阵寻址驱动电路。
如上所述，控制模块150将数据提供到图案发生器104，图案发生器104控制图案发生器104中各个SLM的激励状态(例如电压或倾斜角)。所以，在获得所需的衬底扫描速度(下述)以及生产率方面，能否以足够高的速率发送数据的能力是一个重要的考虑因素。例如，如果是平板显示器(FPD)生产，设备通常工作在脉冲扫描方式，激光器用50KHz的脉冲，脉冲持续时间为10/20nsec。由于为生产FPD而必需扫描的衬底面积很大，所以使用高频来提供可接受的产量。要在此频率的脉冲之间加载SLM帧，就要求数据传递速率在大约10到100G像素/秒或更大的数量级。需要有非常复杂和昂贵的数据处理和驱动系统来处理这种高数据传递速率。此外，在这样高的传递速率时，发生数据错误的可能性就相应地不可忽视。
除非另有说明，在本说明的其余部分中，词语”数据传递要求”应理解为：为更新图像帧而必需传递到SLM的数据数量。
图2示出控制模块150的示范实施例。在所述实施例中，控制模块150包括输入装置(任选)208、检测器204、存储器202(任选)以及光栅化器206。
输入装置208可以用于输入差错准则。例如，输入装置208可以包括用户接口，使系统操作员能定义差错准则。
不论差错准则是否由手工输入，检测器204接收所述差错准则并检查是否符合所述差错准则，以便确定数据是否包括一个或多个可疑位，即，可能会导致曝光图像中差错的位或位组合。用于数据流或数据块中位错的检测器的典型实现机制包括(但不限于)：循环冗余校验(CRC)、校验和或奇偶校验位。应理解，数据通路中的可疑位不必与曝光图像中发生的差错相对应。就是说，检验已曝光图像(借助于印刷的标记)可能证明可疑位不太严重，没有将投影的图像损坏到不可接受的程度。如果检测到可疑位，检测器204可以用来产生可疑位信息。
存储器202可以用于存储可疑位信息。但可疑位的信息不需要存储在存储器中。就是说，可疑位信息例如可以作为元信息与数据相关联，直接发送到光栅化器206。
光栅化器206将数据和可疑位信息发送到图案发生器104。数据和可疑位信息用来控制图案发生器104中的单独可控元件。具体地说，数据可以对应于要投射到衬底114上的图案，而可疑位信息可以对应于投影在衬底114上的一个或多个标记，指示其上曝光的图案中潜在的差错。
应理解，图2所示仅为说明，而非限制。有关的技术人员会理解，在控制模块150中可以以不同方式设置检测器204和光栅化器206。例如，在可供选择的实施例中，检测器204和光栅化器206可以串行工作(如图2所示)、同时工作或以它们的某种组合的方式工作。应理解，这些不同的实施例均应认为属于本发明的范围之内。
E.投射系统
投射系统108(例如石英和/或CaF₂透镜系统，或包括利用这些材料制成的透镜元件的反射折射系统或镜面系统)可以用于将从分束器118接收的具有图案的射束投射到衬底114的目标部分120上(例如一个或多个管芯)。投射系统108可以把图案发生器104的图像投射到衬底114上。或者，投射系统108可以投影次级源的图像，而图案发生器104的元件则作为次级源的遮光器。投射系统108还可以包括微型透镜阵列(MLA)，以形成次级源并将微型光点投射到衬底114上。
F.载物台
载物台116可以配备有衬底支座(未具体示出)，用于固定衬底114(例如涂有光刻胶的硅晶片、投影系统显示器、半导体衬底、玻璃衬底、聚合物衬底或投影电视显示器)。此外，载物台116可以连接到用于将衬底114相对于投射系统108精确定位的定位装置116。
借助于定位装置116(以及基板136上的通过分束器140接收干涉射束138的任选的干涉测量装置134)，载物台116可以精确移动，以便把不同的目标部分120定位在射束110路径中的适当位置。使用时，图案发生器104的定位装置可以用来精确校正图案发生器104例如在扫描时相对于射束110路径的位置。一般来说，载物台106的移动是借助于长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)来实现的，它们在图1中均未直接示出。类似系统也可以用来定位图案发生器104。应理解，可供选择地/附加地，射束110也可以是可移动的，而载物台106和/或图案发生器104具有固定位置，这样来提供所需的相对移动。
在所述实施例的另一配置中，载物台106可以是固定的，而衬底114可以在载物台106上移动。这样工作时，载物台106在最上面的平表面上配备有多个开口，气体通过这些开口馈入，提供能支持衬底114的气垫。这通常称为气浮结构。使用能相对于射束110的路径精确定位衬底114的一个或多个激励器(未示出)使衬底114在载物台106上移动。或者，通过选择性地开启和停止气体通过开口的通路，可以使衬底在载物台106上移动。
在一个实例中，光刻设备100可以包括检验装置(未具体地示出)，后者可以检验衬底114上曝光的图像。在另一实例中，衬底114可以由人工检验。
应理解，在使用例如特征预偏置、光学邻近校正特征、相变技术和多次曝光技术时，在图案发生器104上”显示”的图案可能与最终转移到衬底层或衬底上的图案大不相同。同理，衬底上最终产生的图案不会对应于在图案发生器104上任一瞬间所形成的图案。在以下这种安排时会有这种情况，即，在衬底每个部分上所形成的最终图案是在给定的时段内或给定曝光次数后构成的，而在此期间，图案发生器104上的图案和/或衬底的位置有所改变。
此外，可疑位信息可以用以下述方式使射束具有图案，即，投射的射束将一个或多个标记投射到衬底上。例如，具有图案的射束可以包括图案(与待曝光的图像相关联)和至少一个标记(与可疑位信息相关联)。所述至少一个标记可由投射系统108投射到根据可疑位信息怀疑有差错的衬底114的邻近部分。就是说，所述一个或多个标记会出现在与待曝光图像相关联的图案中，或出现在与待曝光图像相关联的图案以外的衬底边界上。
G.示范的工作方式
所示设备100可以用于四种优选方式：
1.光学分步重复方式：一次(即单次”闪光”)将图案发生器104上整个图案投射在目标部分120上。然后载物台106沿x和/或y方向移动至不同位置，使各个目标部分120被具有图案的辐射束110照射。
2.扫描方式：除了给定目标部分120不是在单次”闪光”中曝光以外，其他基本上与光学分步重复方式相同。不同的是，图案发生器104在给定方向(所述”扫描方向”，例如y方向)以速度v移动，以便扫描图案发生器104，产生具有图案的辐射束110。并行地，载物台106同时沿相同方向或相反方向以速度V＝Mv(式中M是投射系统108的放大率)移动。这样，可以曝光较大的目标部分120，而不损害分辨率。
3.脉冲方式：图案发生器104保持基本上静止，利用脉冲辐射系统102将整个图案投射在衬底114的目标部分120上。载物台106以基本上恒定的速度移动，这样使具有图案的辐射束110横过衬底106扫描一行。在辐射系统102的脉冲之间按需要更新图案发生器104上图案，并且将脉冲这样定时，以便将衬底114上所需位置的顺序的目标部分120曝光。因此，具有图案的辐射束110可以横过衬底114扫描，以便将完整的图案曝光在一条衬底114上。重复所述过程，直至整个衬底114被逐行曝光。
4.连续扫描方式：基本上与脉冲方式相同，不同之处在于使用基本上不变的辐射系统102，并且随着具有图案的投影束110横过衬底114扫描和曝光衬底而更新图案发生器104上的图案。
不论使用哪种工作方式，由图案发生器104的SLM或MSA产生的图案(即，每个单独可控元件的”通”或”断”状态(以下称为”SLM”像素))被周期性地更新，以便将所需图像转移到衬底上。例如，在光学分步重复方式和扫描方式下，图案可以在每步或每次扫描操作之间更新。在脉冲方式下，SLM图案根据需要在辐射系统的脉冲之间更新。在连续扫描方式下，SLM图案在射束扫描衬底时更新。
也可以采用上述使用方式的组合和/或变型或完全不同的使用方式。
IV.示范方法
图3示出按照本发明实施例的示范方法流程图300。流程图300从步骤310开始，在此步骤中确定数据是否包括至少一个可疑位。例如检测器204可以将数据集与差错准则进行比较，以便确定数据中是否存在可疑位或可疑位组合。差错准则实例可以包括(但不限于)以下各点：(i)如果数字二进制数的最低有效位是1，则不存在至少一个可疑位；以及(ii)如果数字二进制数的最高有效位是1，则存在至少一个可疑位。
在一个实例中，差错准则可以手工输入，例如通过输入装置208输入。在另一实例中，把差错准则与数据中的每一位进行比较。在又一实例中，检测可疑位可以包括使用差错检测算法。差错检测算法的实例可以包括(但不限于)：奇偶校验算法、误码检测算法(例如循环冗余校验)、它们的组合或其它差错检测算法。
在步骤320，数据用于控制图案发生器。例如，光栅化器206可以将数据发送到图案发生器104。在一个实例中，如果在数据中检测到可疑位，则可以将可疑位信息与数据相关联并与数据一起发送。在另一实例中，将可疑位信息先存储在存储器(例如存储器202)中，然后与数据一起发送到图案发生器104。
在步骤330，图案发生器使辐射束具有图案。例如，图案发生器104可以如上述使辐射束具有图案。
在步骤340，将具有图案的辐射束中的特征投射到衬底的目标部分上。例如，投射系统108可以将具有图案的射束投射到衬底114的一部分上。衬底的实例包括(但不限于)：半导体衬底、玻璃衬底、平板显示器衬底、聚合物衬底或在无掩模应用中使用的其它衬底。
在步骤350，在步骤310检测到可疑位时，将具有图案的射束中的一个或多个标记分别投射到衬底的所述各目标部分中邻近的相应的目标部分上。例如，在平板显示器(FPD)装置中，可以将标记印刷在FPD装置面板的各部分旁边，使得标记起对应于可疑位的坐标的作用。例如，可以将X坐标上的标记和Y坐标上的标记(在图案内或外)印刷在面板上；也可以使用图案内的单一标记。
可以检测具有标记的衬底区域，以便确定与标记相关联的特征是否在预定规范之内。可以检测的特征实例包括(但不限于)：特征的布局、图像对比度、图像对数斜度、关键尺寸均匀度、焦点失调性能或其它特征。
V.优点
本发明的优点包括(但不限于)以下各点：
●用户有较高的成品率，因为可以识别因位错而超出规范的产品，而不把它们发送给用户；此外，如果同一衬底上印刷有多个产品(相同或不同)，可以区分良品和劣品。良品就可发运。没有本发明，用户可能不得不丢弃整个衬底。
●较易于诊断，因为有一个或多个标记印刷在衬底上可以指示潜在的问题区域。
●用户对数据通路有较高的信心，因为数据通路中的位错可以检测和识别。
VI.结论
虽然以上对本发明的各种实施例作了说明，但应理解这些实施例是以举例而非限制的方式提出的。对本专业的技术人员来说，显然，在不背离本发明的精神和范围的前提下可以进行各种形式上和细节上的改变。所以，本发明的广度和范围不应受任何上述示范实施例的限制，而应仅仅根据以下权利要求书及其等效物来限定。
应理解，”具体实施方式”部分(不是”发明内容”和”摘要”部分)是用来解释权利要求的。”发明内容”和”摘要”部分提出了发明人所考虑到的一个或多个但不是全部的示范实施例，绝不是为了限制本发明以及所附权利要求书。