等离子显示板及其制造方法.pdf

本发明揭示一种等离子显示板及其制造方法，其中，通过防止错误放电，图像的质量能够被改善。一种按照本发明的实施例的具有许多放电单元的等离子显示板包括：多个屏蔽肋，通过屏蔽肋，放电空间被确定在上衬底和下衬底之间；和一个形成在每一个屏蔽肋上的低介电常数的氧化物膜。一种按照本发明的实施例制造等离子显示板的方法包括步骤：形成屏蔽肋在下衬底上，以使得放电空间被在上衬底和下衬底之间的屏蔽肋确定；和形成一个低介电常数的氧化物膜在每一个屏蔽肋上。按照本发明的一种PDP及其制造方法，因为错误放电不发生，所以，等离子显示板的图像质量被改善。

1、  一种具有多个放电单元的等离子显示板，包括：
屏蔽肋，通过屏蔽肋，放电空间被确定在上衬底和下衬底之间；和
形成在每一个屏蔽肋上的低介电常数的氧化物膜。

2、  如权利要求1中所述的等离子显示板，其中，氧化物膜至少包括氧化硅和氧化镁之一。

3、  如权利要求1中所述的等离子显示板，还包括：
形成在上衬底的下侧面上的第一电极；和
以在第一电极上延伸的方式形成在上衬底的下侧面上的第二电极。

4、  如权利要求3中所述的等离子显示板，其中，屏蔽肋包括：
第一屏蔽肋，第一屏蔽肋安置成与第一和第二电极平行，并具有辅助放电空间；和
第二屏蔽肋，第二屏蔽肋安置成与第一屏蔽肋交叉。

5、  一种制造等离子显示板的方法，包括步骤：
形成屏蔽肋在下衬底上，使得放电空间被在上衬底和下衬底之间的屏蔽肋确定；和
形成低介电常数的氧化物膜在每一个屏蔽肋上。

6、  如权利要求5中所述方法，其中，氧化物膜至少包括氧化硅和氧化镁之一。

7、  如权利要求5中所述方法，还包括步骤：
形成第一电极在上衬底上；和
以在第一电极上延伸的方式形成第二电极在上衬底的下侧面上。

8、  如权利要求7中所述的方法，其中，形成屏蔽肋的步骤包括步骤：
形成第一屏蔽肋，第一屏蔽肋安置成与第一和第二电极平行，并具有一个辅助放电空间；和
形成第二屏蔽肋，第二屏蔽肋与第一屏蔽肋交叉。

等离子显示板及其制造方法
本正式申请要求2003年7月16日在韩国提交的专利申请No.10-2003-0048732的优先权，其全部内容在此引入以作参考。
技术领域
本发明涉及到等离子显示板及其制造方法，尤其涉及到等离子显示板及其制造方法，其中，通过防止错误放电，图像的质量能够被改善。
背景技术
现在各种平板显示设备已经被开发，它们能够减少由于阴极射线管的缺点造成的大重量和大体积。这些平板显示设备包括液晶显示器(LCD)、场致发射显示器(FED)、等离子显示板(以后称为“PDP”)、电致发光(EL)显示设备等等。
在它们中间，PDP是使用气体放电的显示设备并，在能够被容易地制造成大尺寸的面板上具有竞争优势。典型PDP的实例包括具有三个电极和用AC电压驱动的三电极AC表面放电型PDP，如在图3中所示。
在图1中表示的PDP的放电单元包括：一个形成在下衬底18上的编址电极12X，和形成在上衬底10的下侧面上的一对维持电极，即：一个扫描/维持电极12Y和一个普通维持电极12Z。图1中，下衬底18以它旋转180°表示。
用于累积壁电荷的下介电层22被形成在下衬底18上，下衬底18具有形成在上面的编址电极12X。屏蔽肋24被形成在下介电层22上。磷层20被覆盖在下介电层22和屏蔽肋24的表面上。屏蔽肋24用于防止放电生成的紫外线和可见光线向着邻近的放电单元泄漏。磷层20被在气体放电时生成的紫外线激励，以生成红、绿和蓝色可见光线中的任何一种。一种惰性气体被注入设置在上/下衬底10和18以及屏蔽肋24之间的放电空间中。
形成在上衬底10的下侧面上的一对维持电极12Y和12Z，由透明电极12a和总线电极12b组成并与编址电极12X交叉。
为了屏蔽由放电单元提供的光线，透明电极12a由透明导电材料形成。总线电极12b补偿透明电极12a的导电率，由于相对高的阻抗性能，透明电极12a具有低的导电率。
上介电层14和保护膜16被形成在上衬底10上，在衬底10中一对维持电极12Y和12Z被形成。上介电层14具有在放电时累积在上面的壁电荷。保护膜16用于防止由于等离子放电时产生的溅射对上介电层14的破坏，并且也增加二级电子的放电效率。保护膜通常由氧化镁(MgO)形成。
具有上述结构的这样的放电单元被在编址电极12X和扫描/维持电极12Y之间的相对着的放电选择，并且通过在一对维持电极12Y和12Z之间的表面放电的装置维持放电。
在这一放电单元中，通过在维持放电时生成的紫外线磷层20被发光，使得可见光线被发射到放电单元的外边。结果，放电单元控制放电被维持的时间长度以实现灰度级(也称为“灰度”)，因而其放电单元被安排成矩阵形式的PDP显示图像。
图4到7说明用于制造常规的等离子显示板的下衬底的方法。
通过光学方法、印刷方法等手段，如在图4中所示，编址电极12X被形成在下衬底18上。具有按照一个混合比率细粉末状态的氧化物与PbO或非PbO玻璃细粉混合的混合粉末与有机溶剂混合的糊剂，被覆盖在下衬底18上，在其下衬底18中，通过丝网印刷方法形成编址电极12X。此后，在给定的温度下，覆盖在下衬底18上的糊剂被烧结形成下介电层22在下衬底18上，下衬底18具有形成其上的编址电极12X，如在图5中所示。
通过丝网印刷方法、喷砂方法、压制方法等等，屏蔽肋24被形成在下介电层22上，如在图6中所示。
此后，磷层20被形成在通过丝网印刷方法、印刷方法及其类似的方法形成屏蔽肋24和下介电层22的衬底上，如在图7中所示。
通过密封处理(未示出)，如此形成的PDP的下衬底被紧密地粘接到上衬底。
为了使得在重置放电时的壁电荷的形成容易，常规的PDP的上介电层包括高介电常数的材料，例如Pb(铅)、Zr(锆)、TiO₃、等等，并且，屏蔽肋也包含高介电常数的材料，例如Pb(铅)、Zr(锆)、TiO₃等等。因此，在重置放电时，许多壁电荷被形成在屏蔽肋24的侧面以及上介电层14上。然而，因为不需要的壁电荷被形成在PDP的屏蔽肋上，并且，形成在扫描/维持电极12Y中的壁电荷通过这些壁电荷被去除，错误的放电频繁发生。
更具体地说，在重置期间，放电发生在扫描/维持电极12Y和普通维持电极12Z之间以及在扫描/维持电极12Y和编址电极12X之间。因此，在重置期间，分别地，负极性的壁电荷被形成在扫描/维持电极12Y中，正极性的壁电荷被形成在普通维持电极12Z中，并且，正极性的壁电荷被形成在编址电极12X中。
上述中，屏蔽肋24由具有高介电常数的材料形成。因此，在重置期间，壁电荷甚至被形成在屏蔽肋24中，如在图8中所示。在这种情况中，形成在屏蔽肋24上的壁电荷45，以与邻接的电极相反的极性形成。于是，它用于抵销电极的壁电荷55。即：通过形成在屏蔽肋24上的壁电荷45，形成在电极上的壁电荷55的量被减少。
于是，因为在重置期间壁电荷不是充足地形成在电极上，所以不稳定的编址放电发生。因为这一原因，光地波形A由于该编址放电发生抖动，如在图9中所示。因此，发生一个问题：因为错误的放电发生在PDP中，所以图像的质量被降低，这影响面板的图像质量。
发明内容
于是，本发明的一个目的是至少要解决背景技术存在的问题和缺点。
本发明的一个目的是提供一种PDP及其制造方法，其中，通过防止错误放电，图像的质量被改善。
为了获得上述的目的，按照本发明的一个方面，提供一种具有多个放电单元的等离子显示板，包括屏蔽肋，通过屏蔽肋放电空间被确定在上衬底和下衬底之间；和形成在每一个屏蔽肋上的低介电常数的氧化物膜。
按照本发明的另一个方面，还提供一种制造等离子显示板的方法，包括步骤：形成屏蔽肋在下衬底上，使得放电空间被在上衬底和下衬底之间的屏蔽肋确定；和形成低介电常数的氧化物膜在每一个屏蔽肋上。
按照本发明的PDP及其制造方法，因为错误放电不发生，所以等离子显示板的图像的质量被改善。
附图说明
参考下面的附图将详细描述本发明，其中，相似的标记指相似的部件。
图1是表示常规的三电极AC型等离子显示板的结构的截面图。
图2表示常规的等离子显示板的条型屏蔽肋。
图3表示常规的等离子显示板的格子型屏蔽肋。
图4到7说明用于制造常规的等离子显示板的下衬底的方法。
图8表示形成在常规的等离子显示板的屏蔽肋上的壁电荷的构成。
图9表示由图8中所示的形成在屏蔽肋上的壁电荷产生的光的波形的抖动。
图10是表示按照本发明的实施例的等离子显示板的放电单元的结构的横截面图。
图11说明具有在图10中所示的辅助放电空间的格子型屏蔽肋。
图12到15表示制造在图10中所示的等离子显示板的上衬底的方法。
图16到20表示制造在图10中所示的等离子显示板的下衬底的方法。
具体实施方式
参考附图，以更详细的方式，将说明本发明的优选的实施例。
根据本发明的一个方面，提供一种具有多个放电单元的等离子显示板，包括屏蔽肋，通过屏蔽肋，放电空间被确定在上衬底和下衬底之间；和形成在每一个屏蔽肋上的低介电常数的一个氧化物膜。
该等离子显示板的氧化物膜至少包括氧化硅和氧化镁之一。
该等离子显示板还包括：一个形成在上衬底的下侧面上的第一电极；和一个以在第一电极上延伸的方式形成在上衬底的下侧面上的第二电极。
该等离子显示板屏蔽肋包括：第一屏蔽肋，第一屏蔽肋安置成与第一和第二电极平行，并具有一个辅助放电空间；和第二屏蔽肋，第二屏蔽肋安置成与第一屏蔽肋交叉。
根据本发明的另一个方面，还提供一种制造等离子显示板的方法，包括步骤：形成屏蔽肋在下衬底上，使得放电空间被在上衬底和下衬底之间的屏蔽肋确定；和形成一个低介电常数的氧化物膜在每一个屏蔽肋上。
该方法的氧化物膜至少包括氧化硅和氧化镁之一。
该方法还包括步骤：形成第一电极在上衬底上；和以在第一电极上延伸的方式形成第二电极在上衬底的下侧面上。
该方法的形成屏蔽肋的步骤包括步骤：形成第一屏蔽肋，第一屏蔽肋安置成与第一和第二电极平行，并具有一个辅助放电空间，和形成第二屏蔽肋，第二屏蔽肋与第一屏蔽肋交叉。
下面，参考附图10到20，将以更详细的方式说明本发明的优选实施例。
图10是表示按照本发明的实施例的PDP(等离子显示板)的放电单元的结构的横截面图。图11说明具有在图10中所示的辅助放电空间的格子型屏蔽肋。
参考图10，按照本发明的实施例的PDP的放电单元包括：形成在下衬底118上的编址电极112X，和形成在上衬底110的下侧面上的一对维持电极，即：扫描/维持电极112Y和普通维持电极112Z。
用于壁电荷累积的下介电层122被形成在下衬底118的表面上，编址电极112X被形成在下衬底118上。与总线电极112b重叠的格子型屏蔽肋124被形成在下介电层122上。氧化物膜145被形成在格子型屏蔽肋124上。磷层120被覆盖在氧化物膜145和下介电层122之间的表面上。
如在图11中所示，格子型屏蔽肋124用于防止放电产生的紫外线和可见光线由向着邻近的放电单元泄漏。格子型屏蔽肋124包括平行于维持电极对112Y和112Z的水平屏蔽肋124a，和与维持电极对112Y和112Z交叉的垂直屏蔽肋124b。在格子型屏蔽肋124的水平屏蔽肋124a中，上下彼此相邻的放电单元被插入在它们之间的辅助放电单元115分开。垂直屏蔽肋124b分开左右相互邻接的放电单元。
在编址放电时，由于在邻接放电单元中的扫描/维持电极112Y和普通维持电极112Z之间的电压差，起动粒子(priming particle)被产生在辅助放电单元115中，并且，随后被提供到下次将被选取的邻接的放电单元。壁电荷充分地形成在放电单元中，对此，起动粒子通过起动效应被提供，因此，有助于编址放电。即：由常规的屏蔽肋抵消的壁电荷的量被起动粒子补偿。因此，由于常规的不稳定的编址放电造成的PDP的错误放电不会发生。
氧化物膜145由具有低的介电常数的氧化硅(SiO₂)和氧化镁(MgO)中的至少之一形成。它使得形成在屏蔽肋124的侧边上的壁电荷的量最少。实际上，包含高的介电常数材料的屏蔽肋124被连续地连接到低的介电常数的材料的氧化物膜145。换言之，当屏蔽肋124和氧化物膜145被连续地连接时，屏蔽肋124和氧化物膜145的电荷的总量被减少。因此，由于与现有技术相比较形成在屏蔽肋124上的壁电荷的量显著地减少，所以，形成在电极中的壁电荷也被减少或最少化。于是，由于不稳定的编址放电造成的PDP的错误放电不会产生。
磷层120被在等离子放电时生成的紫外线激励，以产生红、绿和蓝的可见光线中的任何一种。一种用于气体放电的惰性气体被注入形成在上/下衬底110和118以及屏蔽肋124之间的放电空间中。
形成在上衬底110的下侧面上的维持电极对112Y和112Z中的每一个，由透明电极112a和总线电极112b组成并与编址电极112X交叉。
由放电单元提供的光线通过的透明电极112a由透明导电材料形成。总线电极112b，以在透明电极112a上延伸的方式，形成在上衬底110的下侧面上，并补偿透明电极112a的导电率，由于相对高的阻抗性能，透明电极12a具有低的导电率。
形成在水平屏蔽肋124a里的辅助放电空间115之间的总线电极112b之间的距离d2，窄于在每一个放电单元内，即在主放电空间内，的透明电极112a之间的距离d1。通过形成在辅助放电空间115里的总线电极112b之间的距离d2窄于在主放电空间里的透明电极112a之间的距离d1，就能够容易地甚至以相对低的电压形成起动粒子。
上介电层114和保护膜116被形成在维持电极对112Y和112Z被形成在上面的上衬底110上。在等离子放电时生成的壁电荷被累积在上介电层114上。保护膜116用于防止由于在等离子放电时产生的溅射对上介电层114的损坏，并增加二级电子的放电效率。保护膜116通常由氧化镁(MgO)制成。
这样结构的放电单元被在编址电极112X和扫描/维持电极112Y之间的相对放电选择，并且通过在一对维持电极112Y和112Z之间的表面放电维持放电。在这一放电单元中，通过在维持放电时生成的紫外线，磷层120发光，使得可见光线被发射到放电单元的外边。结果，放电单元控制放电被维持的时间长度以实现灰度，并且，放电单元被安排成矩阵形式的PDP显示图像。
如果，在按照本发明的实施例的PDP中，辅助放电空间115被形成在格子型屏蔽肋124的水平屏蔽肋124a里。因此，通过在扫描/维持电极112Y和普通维持电极112Z之间的电压差，起动粒子被生成。起动粒子被提供到下一次将被选取的邻接的放电单元，由常规的屏蔽肋抵销的壁电荷的量被起动粒子补偿。
另外，在按照本发明的实施例的PDP中，低介电常数的氧化物膜145被形成在高介电常数的屏蔽肋124上。因此，形成在屏蔽肋124的侧边上的壁电荷的量被最小化。
如此，通过使得形成在屏蔽肋124上的壁电荷的量最少，并由辅助放电空间115生成的起动粒子补偿被减少的壁电荷的量，PDP不生成由于不稳定的编址放电引起的错误放电。于是，因为错误放电被防止，所以，在PDP中的图像质量能够被改善。
图12到15表示制造在图10中所示的等离子显示板的上衬底的方法。
参考图12，透明导电材料被沉积在上衬底110上，并且，然后，被形成图案以形成透明电极112a。总线电极材料被形成在具有形成在上面的透明电极112a的上衬底110上，并且，然后，被形成图案以形成总线电极112b，总线电极112b在透明电极112a上延伸，如在图13中所示。参考图14，通过丝网印刷方法等，上介电层114被形成在具有形成在上面的总线电极112b的上衬底110上。作为保护层材料的氧化镁被覆盖在上介电层114上，形成保护膜116，如在图15中所示。
图16到20表示制造在图10中所示的等离子显示板的下衬底的方法。
通过光学方法、印刷方法等，如在图16中所示，编址电极112X首先被形成在下衬底118上。具有与PbO或非PbO玻璃细粉末混合的细粉末状态的氧化物的混合粉末按照一个混合比率与有机溶剂混合，所得的糊剂，被覆盖在具有通过丝网印刷方法形成在上面的编址电极112X的下衬底118上。此后，在给定的温度下，覆盖在下衬底118上的糊剂被烧结形成下介电层122在具有形成在上面的编址电极112X的下衬底118上，如在图17中所示。
参考图18，通过丝网印刷方法、喷砂方法、压制方法等，具有辅助放电空间115的屏蔽肋124被形成在下介电层122被形成在上面的衬底118上。
此后，通过丝网印刷方法等，至少包括氧化硅(SiO₂)和氧化镁(MgO)之一的氧化物膜145被形成在格子型屏蔽肋124上，如在图19中所示。
通过丝网印刷方法等，磷层120被形成在氧化物膜145被形成在上面的衬底118上，如在图20中所示。
通过密封处理(未示出)，如此形成的PDP的下衬底被紧密地粘接到上衬底。
按照上述的本发明的PDP及其制造方法，低介电常数的氧化物膜被形成在格子型屏蔽肋上。形成在屏蔽肋中形成的壁电荷的量因此被最小化。另外，被形成在屏蔽肋中的壁电荷减少的形成在电极中的壁电荷的量，被生成在辅助放电空间中的起动粒子补偿。因此，由于不稳定编址放电引起的PDP的错误放电不会发生，所以PDP的图像质量被改善。
虽然本发明如此被描述，但这是显而易见的：它可以以多种方法进行变化。这样的变化并不认为偏离了本发明的精神和范围。对本领域熟练技术人员而言所有这些修改是显而易见的，将被包括在权利要求限定的范围之内。