用于UV涂料的新型消光剂.pdf

1、10申请公布号CN102031035A43申请公布日20110427CN102031035ACN102031035A21申请号201010222680322申请日20100630102009045104820090929DEC09D7/12200601C09C1/28200601C09C3/1220060171申请人赢创德固赛有限公司地址德国埃森72发明人K贝纳HD克里斯汀GG林德纳K梅尔74专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人宓霞54发明名称用于UV涂料的新型消光剂57摘要本发明涉及经消光的含有二氧化硅的UV涂料，其表面通过用含多重键的有机基聚硅氧烷处理而如下改性

2、，使得其尤其好地适于用作UV涂料的消光剂，以及涉及其制备方法。30优先权数据51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书23页CN102031038A1/2页21UV涂料，其特征在于，其含有至少一种经表面改性的二氧化硅，其中至少部分所述二氧化硅粒子用至少一种有机基聚硅氧烷覆盖，并且至少一种有机基聚硅氧烷包含至少一个多重键。2根据权利要求1的UV涂料，其特征在于，所述二氧化硅是指沉淀法二氧化硅或热解法二氧化硅或半凝胶或硅胶，优选沉淀法二氧化硅。3根据权利要求1或2之一的UV涂料，其特征在于，所述经表面改性的二氧化硅具有至少一种下述物理化学参数D50150M，

3、优选140M，尤其优选130M，特别优选220M和非常特别优选315MDBP100600G/100G，优选150500G/100G，尤其优选200450G/100G和特别优选250400G/100GC含量120重量，优选110重量和尤其优选28重量。4根据权利要求1至3中任一项的UV涂料，其特征在于，所述经表面改性的二氧化硅将折射率ND2014000至15000的包含5重量该经改性的经表面改性的二氧化硅的UV涂料的透射率，与包含5重量用聚乙烯蜡处理的参比二氧化硅的等同UV涂料相比改进至少20。5根据权利要求4的UV涂料，其特征在于，所述参比二氧化硅是指OK607。6根据权利要求1至5中任一项的

4、UV涂料，其特征在于，所述有机基聚硅氧烷包含至少一个碳碳双键和/或至少一个碳碳三键。7根据权利要求6的UV涂料，其特征在于，所述有机基聚硅氧烷是指有机硅聚醚丙烯酸酯聚合物和/或有机硅聚醚甲基丙烯酸酯聚合物，优选羟基官能的硅氧烷和/或聚亚烷基改性的硅氧烷的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。8根据权利要求7的UV涂料，其特征在于，所述聚硅氧烷具有5至50重量，优选5至40重量，尤其优选10至30重量和非常尤其优选10至20重量的聚醚过量。9根据权利要求1至8中任一项的UV涂料，其特征在于，其是指清漆或色漆。10根据权利要求1至9中任一项的UV涂料，其特征在于，其含有基于反应性单体或低聚物的粘结剂，所述反

5、应性单体或低聚物优选是丙烯酸酯或经取代的丙烯酸酯，尤其优选环氧、聚酯、聚醚、低聚醚或聚氨酯丙烯酸酯。11根据权利要求1至10中任一项的UV涂料，其特征在于，其含有3至30重量，优选5至20重量和非常尤其优选8至15重量的经有机基聚硅氧烷改性的二氧化硅和/或至少一种选自光敏引发剂、流平剂、抗氧化剂、颜料、微晶蜡、有机溶剂和水的组分。12制备按照权利要求1至8中任一项中定义的经表面改性的二氧化硅的方法，其特征在于，将经干燥的二氧化硅或二氧化硅的悬浮液或滤饼与至少一种包含至少一个多重键的有机基聚硅氧烷接触。13根据权利要求12的方法，其特征在于，其包括至少一个下述步骤A将碱金属硅酸盐溶液与酸化剂，优

6、选在碱性至弱酸性条件下反应，B进一步加入酸化剂，以调节7至2的PH值，从而获得二氧化硅悬浮液，C过滤出所沉淀出的固体和权利要求书CN102031035ACN102031038A2/2页3D借助长时间干燥，例如转筒式干燥器或盘式干燥器，或者借助快速干燥，例如喷雾干燥器、旋转闪蒸干燥器，而干燥所述固体，使得产物具有小于10的残余湿度，E用至少一种包含至少一个多重键的有机基聚硅氧烷来处理如此获得的二氧化硅。14根据权利要求12的方法，其特征在于，加入0530重量的根据权利要求68中任一项的表面改性用聚硅氧烷。15根据权利要求13或14的方法，其特征在于，按照步骤C过滤出来并任选地用去离子水洗涤的二氧

7、化硅用水或硫酸或水与硫酸的混合物重新悬浮，随后将根据权利要求68中任一项的表面改性用有机基聚硅氧烷加入悬浮液中，将如此获得的悬浮液干燥，优选喷雾干燥，尤其优选使得产物具有小于10重量的残余湿度。16根据权利要求13或14的方法，其特征在于，向步骤D之后的二氧化硅中掺入根据权利要求68中任一项的表面改性用有机基聚硅氧烷并将其充分混合，优选持续0至120分钟。17根据权利要求16的方法，其特征在于，将所述二氧化硅和所述有机基聚硅氧烷继续混合02H和/或在20至150下进行热处理。18根据权利要求12至17中任一项的方法，其特征在于，在经表面改性的二氧化硅的干燥之后进行研磨和/或分离出直径大于50M

8、的粒子。19根据权利要求12的方法，其特征在于，将二氧化硅，优选沉淀法二氧化硅或热解法二氧化硅或半凝胶或硅胶在研磨设备，优选喷射磨中，同时进行研磨和表面改性。20根据权利要求19的方法，其特征在于，研磨气体具有4巴绝对的压力和/或小于或等于180，优选小于100的温度。21制备UV涂料的方法，其特征在于，其包括按照权利要求12至20中任一项的方法步骤。22根据权利要求21的方法，其特征在于，将按照权利要求1至8中任一项中定义的经有机基聚硅氧烷改性的二氧化硅或按照权利要求12至20中任一项制备的经有机基聚硅氧烷改性的二氧化硅掺入UV涂料组合物中。权利要求书CN102031035ACN102031

9、038A1/23页4用于UV涂料的新型消光剂技术领域0001本发明涉及经消光的含有二氧化硅的UV涂料，其表面通过用含多重键的有机基聚硅氧烷处理而如下所述进行改性，使得其尤其好地适于作为UV涂料的消光剂使用，以及制备所述涂料或经表面改性的二氧化硅的方法。背景技术0002UV涂料的消光一直以来都是重大问题。与其它涂料体系相反，对于UV涂料来说在固化期间不会发生收缩。由此不能形成粗糙表面和作为消光剂加入的粒子不能发挥其消光作用。0003在广泛的研究中参见RADTECHEUROPE2005CONFERENCEANDEXIPITION，HDCHRISTIAN测试了在UV涂料中作为消光剂的各种不同的热解法

10、和沉淀法二氧化硅不仅测试了未经处理的二氧化硅而且还测试了用PE蜡涂覆的二氧化硅以及用聚硅氧烷涂覆的二氧化硅。CHRISTIAN得到的结果是，UV涂料的消光仍旧是复杂的问题，并且在该研究中未能表明哪种消光剂是选择用于UV涂料的消光剂。0004因此，仍旧非常需要专门针对UV涂料的消光开发的基于二氧化硅的消光剂。发明内容0005因此，本发明的任务是，提供经表面改性的二氧化硅，其在用作UV涂料的消光剂，尤其是UV固化性清漆中的消光剂的情况下，相比于迄今已知的基于二氧化硅的消光剂显示更佳的应用技术性能。同样意于提供制备经表面改性的二氧化硅的方法，以及提供制备所述涂料的方法。0006其它并未明确提及的任务

11、产生自后续说明书、实施例和权利要求书的总的上下文。0007令人惊讶地发现，采用含多重键的有机基聚硅氧烷对二氧化硅进行的表面改性导致产生优异地适于作为UV涂料，特别是UV固化性清漆的消光剂的产物。0008除了特别难于消光的UV涂料以外，采用根据本发明的产物还可以优异地将所有其它涂料体系消光。0009根据本发明的UV固化性清漆由于新的根据本发明的消光剂而还具有这样的优点其尤其在液态下与用经PE蜡涂覆的二氧化硅消光的UV涂料相比具有改进的透明性。此处，聚硅氧烷改性的二氧化硅的沉降性能至少与聚乙烯蜡PE蜡改性二氧化硅的沉降性能一样好。因此，根据本发明使用的用包含多重键的聚硅氧烷涂覆的二氧化硅相对于经常

12、导致清漆起雾的用PE蜡覆盖的消光剂具有优点。0010已发现，可以通过用含多重键的有机基聚硅氧烷涂覆来使二氧化硅改性，使得折射率为14000至15000的其中掺入根据本发明的二氧化硅的UV涂料具有优异的透明性。相比于包含常规的用PE蜡覆盖的二氧化硅作为消光剂并且折射率为14000至15000的UV涂料，包含根据本发明的二氧化硅作为消光剂的等同涂料显示显著改进的透明性，甚至说明书CN102031035ACN102031038A2/23页5在液态下也如此，其中沉降性能优异。用常规消光剂消光的清漆在液态下通常是浑浊的，与此相反用根据本发明的沉淀法二氧化硅消光的清漆甚至在液态下也是基本上澄清和透明的。0

13、011本发明的主题因此是UV涂料，优选UV固化性清漆，其含有至少一种经表面改性的二氧化硅，其特征在于，至少部分所述二氧化硅粒子用至少一种有机基聚硅氧烷覆盖，并且至少一种有机基聚硅氧烷包含至少一个多重键。0012本发明的主题此外是制备根据本发明使用的经表面改性的二氧化硅的方法，其特征在于，将经干燥的二氧化硅或二氧化硅的悬浮液或滤饼与至少一种包含至少一个多重键的有机基聚硅氧烷接触。0013所述根据本发明使用的经表面改性的二氧化硅优选是指无定形二氧化硅，尤其优选是指沉淀法二氧化硅、热解法二氧化硅、半凝胶或硅胶。所述二氧化硅类型之间的区别是本领域技术人员已知的并且可以查阅例如ULLMANNSENCYC

14、LOPEDIAOFCHEMISTRY乌尔曼工业化学大全，第5版，第23卷。由于经济原因和其表面性质，也即对于聚硅氧烷而言的偶联位置的数目，尤其优选沉淀法二氧化硅、半凝胶和硅胶。特别尤其优选使用沉淀法二氧化硅。0014术语“沉淀法二氧化硅”和“沉淀二氧化硅”在本发明范围内同义地使用。同样同义地使用术语“有机基聚硅氧烷”和“聚有机基硅氧烷”。0015根据本发明使用的二氧化硅优选通过至少一种下述物理化学参数来表征0016已经表明，根据本发明使用的二氧化硅的DBP值在某种程度上可以与消光效率相关联。再者，DBP值是重要的，以保证有机基聚硅氧烷的最佳吸收。因此，根据本发明使用的二氧化硅的DBP值优选为1

15、00600G/100G，尤其优选150500G/100G，特别尤其优选200450G/100G和特别优选250400G/100G。0017为了能够实现尤其好的消光作用，但是同时也使得可以实现不过分粗糙的涂层表面，根据本发明使用的经表面改性的二氧化硅的平均粒子尺寸D50优选为150M，尤其优选140M，非常尤其优选130M，特别优选220M和非常特别优选315M。平均粒子尺寸可以根据涂层的层厚而改变。0018表面改性影响了根据本发明使用的经表面改性的二氧化硅的沉降行为。已经表明，尤其有利的是，根据本发明使用的经表面改性的二氧化硅的碳含量为120重量，尤其优选110重量和非常尤其优选28重量。00

16、19作为表面改性用的有机基聚硅氧烷，使用包含多重键，优选包含至少一个碳碳双键和/或三键的有机基聚硅氧烷。不受特定理论束缚，本发明的发明人的观点是，多重键在UV固化中交联在一起，这对消光作用产生有利影响。0020尤其优选使用有机硅聚醚丙烯酸酯聚合物或有机硅聚醚甲基丙烯酸酯聚合物。非常尤其优选使用羟基官能的硅氧烷和/或聚亚烷基改性的硅氧烷的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。特别优选使用有机基聚硅氧烷，其通过丙烯酸和/或甲基丙烯酸或丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯在存在酯化或酯交换催化酶的情况下与通式I的羟基官能的和/或聚氧化亚烷基改性的硅氧烷衍生物进行酯化或酯交换而获得0021说明书CN102031035AC

17、N102031038A3/23页60022其中0023R1和/或R7R2或R4WR5XR6YR8，0024R2R3或R3表示相同或不同的具有1至24个碳原子的烷基或亚烷基或具有最多至24个碳原子的任选经取代的苯基，0025R4式O、NH、NR2、S的二价基团或式OSICH32U的基团，其中0026U1至200，0027R5相同或不同的具有1至24个碳原子的烷基或亚烷基，或0028CNH2NFR2FR4CMH2MGR2G，其中0029F0至12，0030G0至12，0031N1至18，0032M1至18，0033R6OC2H4AR2AOBCCH2COD，其中0034A0至3，0035B0至100

18、，0036C2至12，0037D0至100，0038BD的和1至2000039和单个聚氧化亚烷基链段C2H4AR2AOB和CCH2COD的顺序可以是任意的，和特别包括嵌段共聚物，如无规聚合物，及其组合，或0040R6OECHH2HCIH2IJR9J，其中说明书CN102031035ACN102031038A4/23页70041E0或1，0042H0至24，0043I0至24，0044J1至3，0045WE的和0至10046和R9在每种情况下代表式O的二价基团、羟基、式CHH2H基团或式CKH2K1OH1的基团，其中0047K0至24和0048L1至3，0049R8氢基或一价有机基团，当Y等于1

19、时，其中每分子必须存在至少一个氢基，或表示OH基或一价有机基团，当Y0时，其中每分子存在至少一个OH基，0050V0至200，0051W0或1，0052X0或1，0053Y0或1，0054Z0至2000055和WXY的和1至30056和当Z0时，R1和/或R7等于R4WR5XR6YR80057和当X0时，那么W也0，0058本领域技术人员熟悉的是，所述化合物以混合物形式存在，该混合物具有基本上由统计学定律调节的分布。特别是指数B、D、U、V和Z的值因此代表平均值。0059根据本发明通过酶催化的丙烯酸和/或甲基丙烯酸或丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的酯化或酯交换可以反应的硅氧烷衍生物的实例是0060

20、0061说明书CN102031035ACN102031038A5/23页80062说明书CN102031035ACN102031038A6/23页90063说明书CN102031035ACN102031038A7/23页100064说明书CN102031035ACN102031038A8/23页110065丙烯酸和/或甲基丙烯酸或丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯与上述化合物在低温，特别是20至100，优选40至70和温和条件下的酶催化酯化或酯交换由于以下原因是有利的产物的较浅颜色，避免形成可能在其它情况下例如源自化学催化剂的副产物，从产物中不复杂地去除酶催化剂，和避免不希望且不受控制的丙烯酰基和/或

21、甲基丙烯酰基化合物的自由基聚合。0066按照这种方式可获得的丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基官能的硅氧烷衍生物的特征在于，所有初始存在的羟基的5至100已经反应生成丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。0067用丙烯酸和/或甲基丙烯酸的酯，特别是甲基丙烯酸甲酯、乙酯或丁酯和/或丙烯酸甲酯、乙酯或丁酯作为供体分子的情况下，丙烯酰基化和/或甲基丙烯酰基化以高收率最佳地进行。0068优选可以作为催化剂使用的酶是水解酶，特别是酯酶、脂肪酶和蛋白酶。其具体实例是435。所述酶可以以纯物质形式或在载体上的固定化的形式使用，所述酶在所述载体上以化学或物理方式结合。酶催化剂的量基于所用经改性的硅氧烷计特别是，01至20重量，

22、优选1至10重量。反应时间取决于酶催化剂的用量和活性并为例如最多至48小时，优选最多至24小时。0069为了在简单反应条件下快速达到高转化度，有利的是在反应混合物中使用过量为至少10重量的丙烯酸或甲基丙烯酸和/或其相应的酯作为供体。0070生产系统的特征可以是搅拌釜式反应器或固定床反应器。该搅拌釜式反应器可以装有用于蒸除从丙烯酸和/或甲基丙烯酸供体释放的链烷醇或由丙烯酸和/或甲基丙烯酸释放的水的装置。0071优选进行反应直到达到所希望的转化率。优选采用同时蒸馏的反应进程，原因是反应水或反应链烷醇的去除导致由于反应平衡的移动而在较短的反应时间内达到较高的转化率。说明书CN102031035ACN

23、102031038A9/23页120072为了达到最可能高的转化度，推荐去除反应水或反应链烷醇。0073在反应结束之后，酶催化剂可以通过合适手段，例如过滤或倾析来分离，并任选多次使用。0074所述固定床反应器配备了固定化酶，其中反应混合物被泵送通过填充有催化剂的柱。采用在载体上固定化的酶，也可以将反应在沸腾床中进行。0075反应混合物可以连续地泵送通过柱，其中采用流速来控制停留时间并由此控制希望的转化率。还可以将反应混合物循环地泵送通过柱，其中也可以在真空下同时蒸除反应水或反应链烷醇。0076也可以使用除去反应水或反应链烷醇的其它方法，例如吸收或全蒸发。0077在本发明的特定实施方式中，有机基

24、聚硅氧烷的特征在于，其具有5至50重量，优选5至40重量，尤其优选10至30重量和非常尤其优选10至20重量的聚醚过量。这些有机基聚硅氧烷对涂料的流变学性能产生特别有利的影响，和可以同样地按照上述方法制备。0078根据本发明使用的经表面改性的二氧化硅在特定实施方式中的特征尤其在于，与包含5重量的用聚乙烯蜡处理的参比二氧化硅的等同UV涂料相比，其将折射率ND2014000至15000的包含5重量该经改性的二氧化硅的UV固化性清漆的透射率改进至少20。透射率优选改进至少25，特别是30。用聚乙烯蜡处理的参比二氧化硅优选是指ACEMATTOK607，一种EVONIKDEGUSSA公司的具有根据产品信

25、息12/02的规格的商品，该信息由此明确地引入本发明说明书的内容中。作为参比二氧化硅，也可以使用具有相同的未经处理的二氧化硅并用聚乙烯蜡涂覆的二氧化硅。0079按照产品信息12/02，OK607具有下述PC数据0080表10081说明书CN102031035ACN102031038A10/23页1300821按经干燥的物质计00832按经灼烧的物质计0084在表1中所列的值是平均值，其可以在固有生产波动或测量方法的误差极限附近变化。0085为了检测经改进的透明性，原则上可以使用折射率在上述范围内的每种UV涂料，在一种情况下向其中加入根据本发明的二氧化硅和在另一种情况下向其中加入经PE蜡涂覆的二

26、氧化硅。0086根据本发明使用的消光剂可以按照这样的方法制备，该方法中将经干燥的二氧化硅或二氧化硅的悬浮液或滤饼与包含至少一个多重键的至少一种有机基聚硅氧烷接触。0087因此，本发明不仅包括湿涂覆法而且包括干涂覆方法。0088优选方法包括下述步骤中的至少一种0089A将碱金属硅酸盐溶液与酸化剂优选在碱性至弱酸性条件下反应，0090B任选地进一步加入酸化剂，以调节7至2的PH值，从而获得二氧化硅悬浮液，说明书CN102031035ACN102031038A11/23页140091C任选地过滤出沉淀出的固体和0092D任选地，借助长时间干燥，例如转筒式干燥器或盘式干燥器，或者借助快速干燥，例如喷雾

27、干燥器、旋转闪蒸干燥器，而干燥所述固体，使得产物具有小于10的残余湿度，0093E用有机基聚硅氧烷来处理如此获得的二氧化硅。0094在所述根据本发明的方法的步骤A和B中，作为碱金属硅酸盐水溶液优选使用硅酸钠水玻璃，其密度约为1343KG/L，重量比例为273SIO2和79NA2O。作为酸化剂可以使用每种无机酸，特别是浓硫酸96H2SO4或CO2。0095在步骤A中0096可以将硅酸盐溶液和酸化剂，按例如DE3144299中所描述，在搅拌下彼此反应。DE3144299的内容是本发明的主题。任选地，酸化剂或酸化剂与水玻璃一起的加入可以在水或硅酸钠储料容器中进行。优选应注意，在保持弱酸性至碱性的PH

28、值下进行沉淀。PH值特别是612。沉淀任选可以在恒定PH值或恒定碱值下进行。0097在步骤B中0098优选通过加入酸化剂，此处特别是已用于沉淀的酸化剂，调节在酸性或中性范围PH7至2内的PH值。0099在步骤C中0100悬浮液中包含的二氧化硅任选地在0至90分钟，优选15至60分钟的等待时间之后，可以过滤出来，并用去离子水洗涤至中性。0101在步骤D中0102固体优选借助快速干燥，例如喷雾干燥器、旋转闪蒸干燥器，或者长时间干燥，例如转筒式干燥器或盘式干燥器来干燥，使得产物具有小于10的残余湿度。0103表面改性步骤E可以在上文描述的方法中在各种不同的时间点进行。0104在根据本发明的方法的实施

29、方式1中，0105将0530重量表面改性用的有机基聚硅氧烷引入在步骤B中调节至PH72的二氧化硅悬浮液中。加入过程优选以持续时间1至30分钟，特别是5至15分钟而进行，和优选在步骤A中的反应的反应温度下，也即特别在50至90，优选5065下进行。随后将经表面改性的二氧化硅如对于步骤C和D所描述那样过滤出并干燥。0106在本发明的实施方式2中，0107将按照步骤A和B获得的二氧化硅如对于步骤C所描述那样过滤出，任选地用去离子水洗涤，此后再次用水或硫酸或水与硫酸的混合物重新悬浮。随后将0530重量表面改性用的有机基聚硅氧烷加入悬浮液中和将如此获得的悬浮液喷射入喷雾干燥器中，使得表面改性在干燥过程期

30、间进行。此外还可以想到同时通过喷嘴引入二氧化硅悬浮液和硅氧烷。喷雾干燥在200500下进行，使得产物具有小于10的残余湿度。要喷射的悬浮液的固体含量可为最多至25重量。0108在根据本发明的方法的实施方式3中，0109将二氧化硅如步骤AD中所描述那样制备和干燥。随后向经干燥的二氧化硅中掺入0530重量表面改性用的聚合物并将其充分混合。聚合物的加入在0至120分钟内，优选在0至60分钟内，最优选在0至30分钟内进行。混合物在20150下继续混合说明书CN102031035ACN102031038A12/23页1502H。混合优选在20100，尤其优选2080下进行。混合过程进行优选01H和尤其优

31、选030分钟。0110任选地，可以在实施方式1和2的情况下还加入乳化助剂，例如LAS687TEGOGMBH公司。这尤其表现在非水溶性的有机硅化合物的情况下。0111为了达到所希望的粒子分布，在实施方式1至3中值得推荐的是，在干燥经表面改性的二氧化硅之后进行研磨，优选同时进行分选。所述研磨可以在商业上常见的横流磨例如ALPINE公司，NETZSCHCONDUX公司中进行。0112为了避免过大粒OBERKORN或斑点STIPPEN，适当的是在干燥经表面改性的沉淀法二氧化硅之后或在研磨之后或研磨期间分离出直径大于50M，优选大于30M，特别是大于20M的粒子。这可以根据消光剂的细度而例如通过相应的筛

32、或也可以整合入磨机中的分选器装置来进行。0113除了前文所描述的方法变型1至3以外，本发明还包括其中表面改性以研磨涂覆的形式进行的方法。该方法的特征在于，将二氧化硅，优选沉淀法二氧化硅或热解法二氧化硅或半凝胶或硅胶在研磨设备，优选喷射磨中，同时进行研磨和表面改性。0114为此优选使用采用静态分选的椭圆管式磨或螺旋喷射磨，或另选流化床对喷磨或浓相床喷射磨，尤其优选具有动态风力分选器。非常尤其优选使用具有整合的分选器的喷射磨，如在DE102006048850中所描述的那些。本领域技术人员已知可以如何运行这样的磨机和通过喷嘴引入涂覆剂。0115经证明尤其有利的是，研磨气体具有4巴绝对的压力和/或小于

33、或等于180，优选小于100的温度的情况。0116尤其当使用有机基聚硅氧烷时，干涂覆方法相对于上文描述的湿涂覆方法具有优势，所述有机基聚硅氧烷具有5至50重量的，优选5至40重量的，尤其优选10至30重量的和非常尤其优选1020重量的聚醚过量。所述聚醚在湿涂覆方法中大部分被洗脱。相反地，在干涂覆方法中聚醚在很大程度上直到完全地沉积在二氧化硅上。因此获得具有不同性能的产物，在此包含根据本发明的聚醚的产物赋予涂料有利的流变学特性。0117作为经表面改性的有机基聚硅氧烷可以使用上文更详细描述的物质。0118在根据本发明的制备方法中，优选如此进行有机基聚硅氧烷的加入，使得在有机基聚硅氧烷与二氧化硅的反

34、应期间调节有机基聚硅氧烷与二氧化硅的比例为05G100G至30G100G，尤其是2G100G至20G100G，特别3G100G至13G100G。0119表面改性可以如前文所描述在研磨或干燥之前、期间或之后进行。这里表面改性剂可以未经稀释地作为纯物质形式或以经稀释的形式作为含水乳液形式加入。0120在特定实施方式中如此选择有机基聚硅氧烷的量和类型，使得与包含5重量用聚乙烯蜡处理的参比二氧化硅的等同涂料相比，所述改性的二氧化硅可以将折射率ND2014000至15000的包含5重量这种改性的二氧化硅的UV清漆的透射率改进至少20。0121UV固化性涂料在本发明的范畴内在用UV光照射之后，经过化学反应

35、，优选在几分之一秒内变为固态。在此形成固体且干燥的薄膜。可以使用本领域技术人员已知的所有UV涂料体系或UV涂料体系的组分，只要包含前文更详细描述的经有机基聚硅氧烷改性的二氧化硅作为消光剂。其中可以查阅相应的组合物的参考文献的实例是0122PETRYV20042004WHATISTHEINFLUENCEOFPHOTOINITIATORSON说明书CN102031035ACN102031038A13/23页16MATTINGOFUVCUREDCOATINGSFATIPEC编者20040123BASFAG1999THEHARTOFCOATINGSLAROMERUNDLUCIRINROHSTOFFEF

36、R0124MEICHSNER，G2003GRUNDLAGENDERUV在MEICHSNER，G编者2003SPEZIELLETECHNOLOGIEUV演讲稿0125KPSCHOTTENLOHERMATTIERUNGVONLACKEN，HSESSLINGEN毕业论文20040126本发明的UV固化性涂料含有作为粘结剂的反应性单体或低聚物。优选的是丙烯酸酯或经取代的丙烯酸酯或不饱和的聚酯树脂，优选使用环氧、聚酯、聚醚、低聚醚或聚氨酯丙烯酸酯作为粘结剂。0127经证明为尤其适合的丙烯酸系聚合物的还有基于丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯和/或其经烷基AKYL取代的衍生物的共聚物。这些丙烯酸系聚合物可以因此是例如

37、丙烯酸酯与甲基丙烯酸酯的共聚物或丙烯酸酯与丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的经烷基取代的衍生物的共聚物。尤其适宜还有丙烯酸甲酯与甲基丙烯酸酯的经烷基取代的衍生物的共聚物。尤其适宜的共聚物是例如由甲基丙烯酸甲酯和丙烯酸甲酯构成的那种PLEX8671F，GMBH。不言而喻地，前文所述的共聚物的混合物也适合作为用于根据本发明的组合物的丙烯酸系聚合物。0128除了粘结剂和消光剂以外，根据本发明的UV涂料还可以包含助剂，例如光敏引发剂、流平剂、抗氧化剂、颜料、微晶蜡、有机溶剂或水。0129光敏引发剂在光照的情况下形成自由基并且引发聚合。作为光敏引发剂，在根据本发明的UV固化性涂料中优选使用选自羟基酮或其衍生物，优

38、选羟基环己基苯基酮类别的引发剂。这些光敏引发剂可以例如作为IRGACURE184、IRGACURE500、IRGACURE2959或DAROCURE1173CIBASPECIALTYCHEMICALS，BASEL形式商购。然而，对于根据本发明的组合物还可以选择其他已知的光敏引发剂。例如氨基酮、酰基氧化膦和其各自的衍生物作为这样的引发剂也是合适的。0130根据本发明的UV固化性组合物可以包含至少一种有机溶剂，其中作为溶剂考虑许多对于这样的组合物而言通常已知的溶剂，例如萜类、烷烃、芳族化合物、醇、酮、酯、醚或其混合物。溶剂优选是乙醇、乙酸丁酯、异丙醇、异丁醇，甲氧基丙醇、甲基乙基酮或其混合物。01

39、31所用溶剂在组合物中的量可以在常用限度内自由变化，并且通常考虑在各自的应用中所要求的流变学和成膜和在UV固化之前对于应用特定的排气条件和干燥条件而调节。0132根据本发明的组合物也可以包含至少一种流平添加剂，例如BYK3510，一种经聚醚改性的聚二甲基硅氧烷，其优选可以最多至06至12重量的重量比例来使用。0133根据本发明的UV固化性组合物还可以取决于各自条件在涂覆过程期间包含至少一种消泡添加剂。消泡剂通常是离子型或非离子型的表面活性剂，并且能够有助于改进成膜。一种示例性消泡剂是BYK088，一种破坏泡沫性的聚合物与聚硅氧烷的组合，其为了减少或为了避免涂层材料中的干扰性空气夹杂物而以01至

40、05重量使用。0134根据本发明的UV涂料包含优选3至30重量，优选5至20重量和非常尤其优说明书CN102031035ACN102031038A14/23页17选8至15重量的经有机基聚硅氧烷改性的二氧化硅。0135正如前文已经指明的那样，在根据本发明的UV涂料中使用的和上文更详细描述的经表面改性的二氧化硅可以用来消光不同涂料类型，例如家具涂料、绘画涂料、卷材涂料、CN涂料。0136根据本发明的沉淀二氧化硅的物理/化学数据用下述方法测定0137涂料透射率的测定0138透射率的测量使用ANALYTIKJENAGMBH公司的UV/VIS分光光度计SPECORD200，在1CM石英池中于室温下用空

41、气作参比来进行。狭缝宽度和步长为2NM。0139为此，预先置入折射率ND2014000至15000的UV涂料并加入25G相应的消光剂经表面改性的二氧化硅。在这种情况下，将消光剂在室温下用叶片式搅拌器在2000转/分下经过10分钟分散入50GUV涂料中。该分散过程在180ML的PE混合杯中于室温下进行。搅拌器的叶片直径为43MM。随后将新制备的分散体填充入1CM石英池中并在190至1100NM之间的透射中记录UV/VIS光谱。0140DBP吸收0141DBP吸收DBP值，其是二氧化硅的吸收能力的度量，依据标准DIN53601如下测定0142实施过程0143将1250G粉末状或球状的具有010湿含

42、量湿含量任选地通过在干燥箱中于105下干燥来调节的二氧化硅加入BRABENDER吸收计E的捏合器腔商品编码279061中。在颗粒的情况下使用315至1MM的筛粒度级RETSCH公司的不锈钢筛通过用塑料刮勺轻柔地将颗粒压过315MM孔尺寸的筛。在持续混合捏合器叶片的旋转速度为125U/分下，在室温下通过“DOSIMATENBRABENDERT90/50”将邻苯二甲酸二丁酯以4ML/MIN的速度滴加入混合物中。仅需低的力量进行所述混入过程，并且基于数字显示进行监测。接近测定结束时混合物变为糊状，这借助所需力量的快速升高来指示。在显示600数位转矩06NM的情况下，通过电触头关掉捏合器和DBP计量加

43、入装置两者。用于DBP供料的同步电动机与数字计数机构相连接，使得可以ML计读出DBP的消耗。0144评价0145DBP吸收以G/100G计表示，并借助下式从所测得的DBP消耗来计算。DBP的密度在20下通常为1047G/ML。0146DBP吸收G/100GDBP消耗MLDBP密度G/ML100/125G0147所述DBP吸收是针对不含水的经干燥的二氧化硅所定义的。在使用湿二氧化硅的情况下借助下述校正表来校正该值。相应于含水量的校正值加至实验测定的DBP值上；例如含水量为58意味着DBP吸收有33G/100G的增加。0148表2邻苯二甲酸二丁酯吸收的校正表不含水说明书CN102031035ACN

44、102031038A15/23页1801490150二氧化硅的湿度的测定0151根据该方法，依据ISO7872在105下干燥2小时之后来确定二氧化硅的挥发性比例为简单起见下文称为“湿度”。这种干燥损失一般主要由水分组成。0152实施过程0153向干燥的具有磨口塞的称量玻璃瓶直径8CM，高度3CM中称量入10G粉末状、球状或颗粒状的二氧化硅起始重量E，精确至01MG。试样在开盖状态下在干燥箱中于1052下干燥2H。随后将称量玻璃瓶密封并在用硅胶作为干燥剂的保干器箱中冷却至室温。用重量分析法确定最终重量A。0154按照EGAG100/EG，来确定湿度。0155测量作为双重测定形式来进行。0156灼

45、烧损失的测定0157在1000下2H，在干燥后，DIN55921/34，ISO3262D50测定0158通过激光衍射COULTER测定聚集体尺寸分布0159仪器0160激光衍射仪LS230，COULTER公司0161超声棒BANDELIN，HD2200型，配有DH13G焊头0162冷却浴80ML0163EPPENDORF吸管5ML0164离心玻璃瓶，高度7CM，0165培特利式培养皿，高度4CM，0166真空瓶，高度21CM，0167数字温度计，精度01K0168化学品0169乙醇，分析纯，MERCK公司说明书CN102031035ACN102031038A16/23页190170TRITON

46、X100，MERCK公司0171六偏磷酸钠，BAKER公司0172试样预备0173将颗粒加入研钵中，压碎粗粒状颗粒块，不研碎。将1G未陈化的二氧化硅距制成的时间间隔最多10天称量入30ML卷边玻璃容器中，并掺入20ML分散溶液20G六偏磷酸钠，用脱盐水填充至1000ML。随后将试样置于冷却浴中，这防止悬浮液的显著加热，并用超声处理1分钟20W功率，80脉冲。每种二氧化硅均相继制备三种分散溶液样品。将悬浮液放入配有磁力搅拌器的培特利式培养皿中，以防止可能发生的沉降，直到在流体模块中进行试样添加。0174实施过程0175测量开始之前，让仪器和流体模块预热运行至少30分钟，并自动冲洗模块菜单栏“控制

47、/冲洗”10分钟。0176在COULTER软件的控制栏中，经由菜单项“测量”选择文件窗口“计算OPT模型”和确定折射率液体折射率实部1332；材料折射率实部146，虚部01。在文件窗口“测量循环”中将泵速度水平调节为26，将超声功率调节为3。激活超声项“在试样添加期间”、“在每次测量前”和“在测量期间”。0177另外，在该文件窗口中选择下述项0178偏移测量1X每天0179调节0180背景测量0181调节测量浓度0182输入样品信息0183输入测量信息0184起动双重测量0185自动冲洗0186采用PIDS数据0187校准完成之后，进行试样添加。一直添加经分散的二氧化硅，直到达到吸光度为约45

48、且仪器显示OK。测量采用FRAUNHOFER模型来进行，此处使用COULTER公司的激光衍射仪LS230的标准软件。0188对每个试样添加，进行三次60秒的双重测定。所述软件从原始数据曲线，基于体积分布计算粒子尺寸分布。0189C含量的测定0190仪器0191INSTRUMENTS公司的CMAT5000192分析天平0193带盖的瓷舟皿0194镊子0195量匙0196试剂说明书CN102031035ACN102031038A17/23页200197EURO分析对照试样0772INSTRUMENTS公司氧0198实施过程0199对照试样的测量0200首先测量对照试样。为此，在分析天平上将0140

49、18G称量加入经灼烧且经冷却的瓷舟皿上。因为天平与“CMAT”相连接，所以在操作起动按钮时接受重量。必须将舟皿在30秒内推入燃烧管中部。燃烧结束之后将测量值转化为脉冲并由计算机评价。进行2次以上测定。可能必须重新调节仪器因子。该因子按照下式计算02010202二氧化硅试样的测量0203在确定所述因子之后测量二氧化硅试样。为此，在每种情况下将004005G二氧化硅称量加入瓷舟皿中并用瓷盖盖住瓷舟皿。随后与对照试样类似地测量二氧化硅试样。在偏差0005的情况下进行第三次并任选地进行另外的测量，并计算平均值。0204评价0205碳含量按下式计算02060207在此0208I脉冲0209F因子0210E起始重量G0211结果报告0212结果以2个小数位以C来报告。0213注释0214“CMAT500”的操作可以参见INSTRUMENTS公司的操作指南。0215反射仪值的测定02161基础0217消光二氧化硅的优异性能是通过有目的地使涂膜表面粗糙而影响反射能力。因此，反射仪值是表征