感光性元件、抗蚀图案的形成方法、印刷电路布线板的制造方法及印刷电路布线板.pdf

1、10申请公布号CN102331684A43申请公布日20120125CN102331684ACN102331684A21申请号201110195917822申请日20110713158721/201020100713JP134440/201120110616JPG03F7/09200601G03F7/00200601G03F7/004200601G03F7/032200601H05K3/06200601H05K3/1820060171申请人日立化成工业株式会社地址日本东京72发明人久保田雅夫74专利代理机构永新专利商标代理有限公司72002代理人王灵菇白丽54发明名称感光性元件、抗蚀图案的形成

2、方法、印刷电路布线板的制造方法及印刷电路布线板57摘要本发明涉及一种感光性元件，其是具备支撑薄膜和形成于上述支撑薄膜上的感光性树脂组合物层的感光性元件，其中，上述支撑薄膜的雾度为00120，并且上述支撑薄膜中所含的直径为5M以上的粒子及直径为5M以上的凝聚物的总数为5个/MM2以下，上述感光性树脂组合物层含有粘合剂聚合物、具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物及光聚合引发剂，上述粘合剂聚合物的酸值X为60130MGKOH/G，重均分子量MW满足下述式I所示的关系。10000MW4000E002XI。30优先权数据51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书22

3、页附图2页CN102331697A1/2页21一种感光性元件，其是具备支撑薄膜和形成于所述支撑薄膜上的感光性树脂组合物层的感光性元件，其中，所述支撑薄膜的雾度为00120，并且所述支撑薄膜中所含的直径为5M以上的粒子及直径为5M以上的凝聚物的总数为5个/MM2以下，所述感光性树脂组合物层含有粘合剂聚合物、具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物及光聚合引发剂，所述粘合剂聚合物的酸值X为60130MGKOH/G，重均分子量MW满足下述式I所示的关系，10000MW4000E002XI式I中，X表示粘合剂聚合物的酸值，MW表示粘合剂聚合物的重均分子量。2根据权利要求1所述的感光性元件，其中，所述光聚合性

4、化合物包含下述通式II所示的化合物，通式II中，R1及R2各自独立地表示氢原子或甲基，Y表示碳原子数为26的亚烷基，N1及N2分别表示正的整数，N1N2为440，多个存在的Y可以彼此相同或不同。3根据权利要求1或2所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物具有下述通式III、IV或V所示的2价基团，通式III、IV及V中，R3、R4及R6各自独立地表示氢原子或甲基，R5表示碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基或卤素原子，R7表示碳原子数为110的烷基，P表示05的整数，P为2以上时，多个存在的R5可以彼此相同或不同。4根据权利要求3所述的感光性元件，其中，所述粘合剂聚合物还具有下述

5、通式VI所示的2价基团，权利要求书CN102331684ACN102331697A2/2页3通式VI中，R15表示氢原子或甲基，R16表示碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基或卤素原子，Q表示05的整数，Q为2以上时，多个存在的R16可以彼此相同或不同。5根据权利要求14中任一项所述的感光性元件，其中，所述光聚合引发剂含有2，4，5三芳基咪唑二聚物。6一种抗蚀图案的形成方法，其包含以下工序将权利要求15中任一项所述的感光性元件按照所述感光性树脂组合物层、所述支撑薄膜的顺序层叠到电路形成用基板上的层叠工序；隔着所述支撑薄膜对所述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线，以在所述感光

6、性树脂组合物层中形成光固化部的曝光工序；以及将所述光固化部以外的所述感光性树脂组合物层除去的显影工序。7一种印刷电路布线板的制造方法，其具有对通过权利要求6所述的抗蚀图案的形成方法而形成有抗蚀图案的电路形成用基板实施蚀刻或镀覆的工序。8一种印刷电路布线板，其是通过权利要求7所述的制造方法而制造的。9权利要求15中任一项所述的感光性元件在印刷电路布线板中的用途。权利要求书CN102331684ACN102331697A1/22页4感光性元件、抗蚀图案的形成方法、印刷电路布线板的制造方法及印刷电路布线板技术领域0001本发明涉及感光性元件、使用了该感光性元件的抗蚀图案的形成方法、印刷电路布线板的制

7、造方法及印刷电路布线板。背景技术0002以往，在印刷电路布线板的制造领域及金属的精密加工领域中，作为用于蚀刻、镀覆等的抗蚀材料，广泛使用由感光性树脂组合物层以下称为“感光层”、支撑薄膜及保护薄膜构成的感光性元件参照日本特开平01221735号公报、日本特开平02230149号公报、日本特公昭56040824号公报、日本特开昭55501072号公报、日本特开昭47000469号公报、日本特开昭59097138号公报、日本特开昭59216141号公报、日本特开昭63197942号公报。0003印刷电路布线板例如如下所述来制造。首先，将感光性元件的保护薄膜从感光层上剥离后，在电路形成用基板的导电膜上

8、层压感光层。接着，在对感光层实施图案曝光后，将感光层的未曝光的部分未曝光部分用显影液除去，从而形成抗蚀图案。然后，基于该抗蚀图案，使导电膜形成图案，由此来形成印刷电路布线板。0004近年来，伴随着印刷电路布线板的高密度化，电路形成用基板与作为抗蚀材料的感光层的接触面积变小。因此，对于用于形成感光层的感光性树脂组合物，要求在进行蚀刻或镀覆的工序中具有优异的机械强度、耐药品性及柔软性。此外，还要求与电路形成用基板的优异的粘附性和图案形成中的优异的清晰度。例如，出于镀覆耐性优异的目的，公开了一种含有具有特定结构的粘合剂聚合物的感光性树脂组合物参照日本特开2006234995号公报、日本特开20080

9、39978号公报。0005通常，使用感光性元件来形成抗蚀膜时，在基板上层压感光层后，隔着支撑薄膜对感光层进行曝光。因此，为了在图案形成中获得高析像度，不仅需要考虑感光性树脂组合物，还需要考虑所使用的支撑薄膜的性质。0006为了获得高析像度，例如提出了一种方法，其通过使支撑薄膜的一个最外表面含有平均粒径为0015M左右的无机或有机微粒来降低支撑薄膜的雾度，即使隔着支撑薄膜对感光层进行曝光也能够实现高析像度化例如参照日本专利第4014872号、国际公开第08/093643号、日本特开平07333853号公报、国际公开第00/079344号。发明内容0007但是，通过以往的方法，虽然能够在一定程度上

10、抑制因支撑薄膜的影响而导致的感光层的析像度的降低、以及固化后的抗蚀膜形状的缺损抗蚀膜缺损，但为了满足近年来的感光性元件所要求的特性，需要进一步的改善。0008此外，仅通过将以往的感光性树脂组合物与日本专利第4014872号、国际公开第08/093643号、日本特开平07333853号公报、国际公开第00/079344号中记载的支撑薄膜说明书CN102331684ACN102331697A2/22页5组合，对于达成近年来所要求的显影性及析像度是有限的，仍有进一步改善的余地。0009本发明是鉴于上述情况而完成的，目的是提供一种能够充分降低抗蚀膜缺损、并且在图案形成中具有优异的显影性及析像度的感光性

11、元件。0010本发明提供一种感光性元件，其是具备支撑薄膜和形成于支撑薄膜上的感光性树脂组合物层的感光性元件，其中，支撑薄膜的雾度为00120，并且支撑薄膜中所含的直径为5M以上的粒子及直径为5M以上的凝聚物的总数为5个/MM2以下，上述感光性树脂组合物层含有粘合剂聚合物、具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物及光聚合引发剂，上述粘合剂聚合物的酸值X为60130MGKOH/G，重均分子量MW满足下述式I所示的关系。001110000MW4000E002XI0012式I中，X表示粘合剂聚合物的酸值，MW表示粘合剂聚合物的重均分子量。0013本发明所述的感光性元件通过具备具有上述构成的支撑薄膜，从而能够

12、充分降低抗蚀膜缺损。此外，本发明所述的感光性元件通过具备具有上述构成的感光性树脂组合物层，从而能够充分降低抗蚀膜缺损，在图案形成中具有优异的显影性及析像度。0014上述具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物可以包含下述通式II所示的化合物。00150016通式II中，R1及R2各自独立地表示氢原子或甲基，Y表示碳原子数为26的亚烷基，N1及N2分别表示正的整数，N1N2为440，多个存在的Y可以彼此相同或不同。0017通过含有上述通式II所示的化合物，从而使得粘附性、清晰度及耐药品性的平衡变得良好，进而能够形成极细线的抗蚀图案。0018此外，本发明的感光性元件通过粘合剂聚合物具有下述通式III、I

13、V及V所示的2价基团，从而使得粘附性、清晰度及剥离性的平衡变得更良好，进而能够形成极细线的抗蚀图案。0019说明书CN102331684ACN102331697A3/22页60020通式III、IV及V中，R3、R4及R6各自独立地表示氢原子或甲基，R5表示碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基或卤素原子，R7表示碳原子数为110的烷基，P表示05的整数，P为2以上时，多个存在的R5可以彼此相同或不同。0021此外，本发明的感光性元件通过粘合剂聚合物还具有下述通式VI所示的2价基团，从而使得粘附性、清晰度及剥离性的平衡变得进一步良好。00220023通式VI中，R15表示氢原子或甲

14、基，R16表示碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基或卤素原子，Q表示05的整数，Q为2以上时，多个存在的R16可以彼此相同或不同。0024此外，本发明的感光性元件中，光聚合引发剂可以含有2，4，5三芳基咪唑二聚物。由此，能够维持光感度，并且粘附性及清晰度更优异，能够形成极细线的抗蚀图案。0025此外，本发明提供一种抗蚀图案的形成方法，其包含以下工序将上述感光性元说明书CN102331684ACN102331697A4/22页7件按照上述感光性树脂组合物层、上述支撑薄膜的顺序层叠到电路形成用基板上的层叠工序；隔着支撑薄膜对感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线，以在感光性树脂组合

15、物层中形成光固化部的曝光工序；以及将光固化部以外的感光性树脂组合物层除去的显影工序。根据本发明的抗蚀图案的形成方法，由于使用上述本发明的感光性元件，所以能够高效地获得极细线的抗蚀图案。0026此外，本发明提供具有对形成有抗蚀图案的电路形成用基板实施蚀刻或镀覆的工序的印刷电路布线板的制造方法、以及通过上述制造方法制造的印刷电路布线板。根据本发明的印刷电路布线板的制造方法，由于采用使用了上述本发明的感光性元件的抗蚀图案的形成方法，所以能够获得具有极细线的布线图案的高密度的印刷电路布线板。0027根据本发明的感光性元件，能够提供能充分降低抗蚀膜缺损、并且在图案形成中具有优异的显影性及析像度的感光性元

16、件。附图说明0028图1是表示本发明的感光性元件的优选实施方式的示意剖面图。0029图2是观察具有直径为5M以上的粒子等的支撑薄膜的表面得到的偏光显微镜照片。0030图3是使用在具有多个直径为5M以上的粒子等的支撑薄膜上具备感光层的感光性元件而形成的抗蚀图案的扫描型显微镜照片。具体实施方式0031以下，边根据需要参照附图，边对本发明的优选实施方式进行详细说明。需要说明的是，附图中，只要没有特别说明，上下左右等位置关系是基于附图中所示的位置关系。进而，附图的尺寸比率并不限定于图示的比率。此外，本说明书中的“甲基丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”及与其对应的“甲基丙烯酸酯”。同样地“甲基丙烯基”是指“丙烯

17、基”及与其对应的“甲基丙烯基”，“甲基丙烯酰基”是指“丙烯酰基”及与其对应的“甲基丙烯酰基”。0032图1是表示本发明的感光性元件的优选的一个实施方式的示意剖面图。图1所示的感光性元件1由支撑薄膜10和感光层感光性树脂组合物层20构成。感光层20被设置于支撑薄膜10的第1主表面12上。此外，支撑薄膜10在与第1主表面12相反的一侧具有第2主表面14。0033支撑薄膜0034支撑薄膜10的雾度为00120，并且支撑薄膜10中所含的直径为5M以上的粒子及直径为5M以上的凝聚物以下简称为“粒子等”的总数为5个/MM2以下。这里，支撑薄膜10中所含的直径为5M以上的粒子等中包含从支撑薄膜10的第1主表

18、面12及第2主表面14突出的粒子等、以及存在于薄膜10的内部的粒子等这两者。此外，直径为5M以上的粒子等中包含直径为5M以上的一次粒子及直径不到5M的一次粒子的凝聚物。0035从降低曝光及显影后的抗蚀膜的部分缺损的角度出发，直径为5M以上的粒子等的总数优选为5个/MM2以下，更优选为3个/MM2以下，进一步优选为1个/MM2以下。如说明书CN102331684ACN102331697A5/22页8果在印刷电路布线板的制造中使用该粒子等的总数超过5个/MM2的感光性元件，则成为蚀刻时发生开口缺陷、镀覆时发生短路缺陷的一个原因，存在印刷电路布线板的制造成品率降低的倾向。0036另外，即使支撑薄膜1

19、0中包含很多直径不到5M的粒子等，对光散射的影响也不大。其主要原因是，在后述的曝光工序中，对感光层20照射光时，感光层20的光固化反应不仅在光照射部进行，而且在没有光直接照射的横向与光照射方向垂直的方向上也进行，尽管只有一些。因此可以认为，当粒径小时，粒子正下部的光固化反应充分进行，但随着粒径变大，由于粒子正下方的光固化反应进行得不充分，所以产生抗蚀膜的缺口抗蚀膜缺损。0037这里，支撑薄膜10中所含的直径为5M以上的粒子等是起因于构成支撑薄膜10的成分例如聚合物的凝胶状物、作为原料的单体、制造时所使用的催化剂、根据需要所包含的无机或有机微粒在制作薄膜时凝聚而形成的凝聚物、在薄膜上涂布含润滑剂

20、的层时因润滑剂与粘接剂而产生的膨起、薄膜中所含的直径为5M以上的粒子等而产生的。为了使直径为5M以上的粒子等的总数为5个/MM2以下，只要选择性使用这些粒子等中粒径较小的粒子或分散性优异的粒子即可。0038上述直径为5M以上的粒子等的总数可以使用偏光显微镜进行测定。另外，将直径为5M以上的一次粒子与直径不到5M的一次粒子凝聚而形成的凝聚物计为1个。图2是观察具有直径为5M以上的粒子等的支撑薄膜的表面而得到的偏光显微镜照片。图2中，用圆圈围成的部分表示相当于直径为5M以上的粒子等的部分的一个例子。并且，图3是使用在具有大量直径为5M以上的粒子等的支撑薄膜上具备感光层的感光性元件而形成的抗蚀图案的

21、扫描型显微镜照片。用框围成的部分表示抗蚀膜缺损的地方。这样，如果在支撑薄膜的表面存在大量直径为5M以上的粒子等，则产生抗蚀膜缺损。0039支撑薄膜10的材料只要是直径为5M以上的粒子等的总数达到5个/MM2以下的材料，则没有特别限制。作为支撑薄膜10，例如可列举出包含选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯以下表述为“PET”等聚酯、以及聚丙烯及聚乙烯等聚烯烃组成的组中的1种以上树脂材料的薄膜。0040支撑薄膜10可以是单层也可以是多层。例如，当使用由2层构成的双层支撑薄膜时，优选使用在双轴取向聚酯薄膜的一个面上层叠含有微粒的树脂层而成的双层薄膜作为支撑薄膜，并在与形成有上述含有微粒的树脂层的面相反的一侧的

22、面上形成感光层20。此外，作为支撑薄膜10，也可以使用由3层构成的多层支撑薄膜例如A层/B层/A层。多层支撑薄膜的构成没有特别限制，从薄膜的光滑性等立场出发，最外层上述由3层构成时为A层优选均为含有微粒的树脂层。0041以往的双层支撑薄膜由于通过将具有微粒的树脂层涂布到双轴取向聚酯薄膜上来制造，所以在感光层的层压时含有微粒的树脂层容易剥离，剥离后的上述树脂层有可能附着在感光层上而成为缺陷的原因。因此，本实施方式中，优选使用由含有微粒的树脂层和双轴取向聚酯薄膜构成的3层所形成的多层支撑薄膜。0042本实施方式中，将支撑薄膜10中所含的直径为5M以上的粒子等的总数调整为5个/MM2以下、同时具备含

23、有这样的微粒的树脂层的多层支撑薄膜是特别合适的。由此，能够使薄膜的光滑性变好，并且能够平衡良好地、以更高水平实现曝光时的光散射的抑制。微说明书CN102331684ACN102331697A6/22页9粒的平均粒径优选为含有微粒的树脂层的层厚的0110倍，更优选为025倍。平均粒径不到01倍时，存在光滑性差的倾向，超过10倍时，存在感光层特别容易产生凹凸的倾向。0043上述微粒在含有微粒的树脂层中以树脂的质量为基准优选含有00150质量。并且，作为上述微粒，例如可以使用利用各种成核剂在聚合时生成的微粒、凝聚物、二氧化硅的微粒凝聚二氧化硅等、碳酸钙的微粒、氧化铝的微粒、氧化钛的微粒及硫酸钡的微粒

24、等无机微粒、交联聚苯乙烯树脂的微粒、丙烯酸树脂的微粒及酰亚胺树脂的微粒等有机微粒、以及它们的混合物。0044在3层以上的多层支撑薄膜中，被含有微粒的最外层夹持的1个以上的中间层可以含有上述微粒，也可以不含有上述微粒，从清晰度的立场出发，优选不含有上述微粒。当中间层含有上述微粒时，中间层中的含量优选为最外层的含量的1/3以下，更优选为1/5以下。0045从清晰度优异的角度出发，含有上述微粒的树脂层的层厚优选为0015M，更优选为0053M，特别优选为012M。并且，最外层的不与中间层相对的面优选具有12以下的静摩擦系数。静摩擦系数超过12时，在薄膜制造时及感光性元件制造时容易引入皱褶，此外，由于

25、容易产生静电，所以存在容易附着杂质的倾向。本实施方式中，静摩擦系数可以根据ASTMD1894来进行测定。0046另外，为了将支撑薄膜10中所含的直径为5M以上的粒子等的总数调整为5个/MM2以下，含有微粒的树脂层所含有的微粒的粒径优选不到5M。并且，为了进一步降低曝光时的光散射，优选根据微粒的粒径来适当调整含有微粒的树脂层的层厚。0047另外，在不损害感光层20的感光性的范围内，支撑薄膜10可以根据需要包含抗静电剂等。0048从光感度及清晰度优异的角度出发，支撑薄膜10的雾度优选为20以下，更优选为15以下，进一步优选为10以下，特别优选为05以下。这里，“雾度”是指模糊度曇度。本实施方式中的

26、支撑薄膜10的雾度是指根据JISK7105中规定的方法，使用市售的雾度计浊度计测定得到的值。上述雾度例如可以用NDH1001DP日本电色工业株式会社制、商品名的市售的浊度计来测定。从光感度及清晰度优异的角度出发，上述雾度的下限值优选接近于零，但从制作支撑薄膜10时的卷取性等立场出发，优选将上述雾度设定为001以上。当上述雾度不到001时，由于支撑薄膜中不含微粒等，存在在制造支撑薄膜时的卷取中发生故障、或产生皱褶的倾向。0049支撑薄膜10的厚度优选为540M，更优选为835M，特别优选为1030M，进一步优选为1225M。当厚度不到5M时，存在从感光性元件剥离支撑薄膜时，支撑薄膜容易破裂的倾向

27、。此外，当厚度超过40M时，存在析像度降低的倾向，并且存在廉价性变得不充分的倾向。0050此外，支撑薄膜10可以从市售的一般工业用薄膜中获得能够用作感光性元件1的支撑薄膜10的薄膜，并适当加工后使用。作为能够用作支撑薄膜10的市售的一般工业用薄膜，例如可列举出最外层含有微粒的3层结构的PET薄膜即“QS48”东丽株式会社制、商品名。0051感光层说明书CN102331684ACN102331697A7/22页100052感光层20是由感光性树脂组合物形成的层。构成感光层20的感光性树脂组合物含有A粘合剂聚合物以下称为“A成分”、B具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物及C光聚合引发剂以下称为“C成

28、分”。以下对上述各成分进行详细说明。0053粘合剂聚合物0054作为A成分即粘合剂聚合物，只要酸值X为60130MGKOH/G，重均分子量MW满足下述式I所示的关系，则可以没有特别限制地使用。005510000MW4000E002XI0056通过粘合剂聚合物的酸值X与重均分子量MW的关系满足上述式的关系，从而能够提供固化后的诸特性显影性、粘附性、清晰度、抗蚀膜侧面的形状及抗蚀膜缺损优异的感光性树脂组合物。0057粘合剂聚合物的酸值X为60130MGKOH/G，但从均衡地满足上述诸特性的角度出发，优选为65130MGKOH/G，更优选为90130MGKOH/G，进一步优选为110130MGKOH

29、/G。0058作为与酸值中和1G试样所需要的氢氧化钾KOH的MG数同样的指标，可列举出酸当量具有1当量的羧酸的聚合物的G数，它们可以互相换算。0059粘合剂聚合物的重均分子量满足上述式I所示的关系。粘合剂聚合物的MW的下限值为10000以上，从感光层的韧性优异的角度出发，优选为15000以上，更优选为20000以上，进一步优选为25000以上。此外，粘合剂聚合物的MW的上限值为4000E002X以下，从均衡地满足固化后的诸特性的角度出发，优选为4000E002X的90以下，更优选为80以下，进一步优选为70以下。另外，上述重均分子量通过凝胶渗透色谱法以下表述为“GPC”来进行测定，使用换算成标

30、准聚苯乙烯后的值，测定条件与后述的实施例中记载的条件相同。0060作为粘合剂聚合物，例如可列举出丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、酰胺树脂、酰胺环氧树脂、醇酸树脂及酚醛树脂。这些当中，从碱显影性的立场出发，优选丙烯酸树脂。它们可以单独使用1种或组合2种以上使用。0061粘合剂聚合物例如可以通过使聚合性单体发生自由基聚合来制造。作为聚合性单体，可列举出苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲基苯乙烯、对氯苯乙烯、甲基苯乙烯及甲基苯乙烯衍生物等能够聚合的苯乙烯衍生物、丙烯酰胺、丙烯腈及乙烯基正丁基酯等乙烯基醇的酯类、甲基丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸四氢糠酯、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸二乙基氨

31、基乙酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、2，2，2三氟乙基甲基丙烯酸酯及2，2，3，3四氟丙基甲基丙烯酸酯等甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸、溴甲基丙烯酸、氯甲基丙烯酸、呋喃基甲基丙烯酸及苯乙烯基甲基丙烯酸等甲基丙烯酸衍生物、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯及马来酸单异丙酯等马来酸衍生物、富马酸、肉桂酸、氰基肉桂酸、衣康酸、巴豆酸、以及丙炔酸。它们可以单独使用1种，或组合2种以上使用。0062从对显影液的耐性显影液耐性与剥离性的平衡的立场出发，粘合剂聚合物优选包含下述通式III、IV及V所示的结构单元。另外，由于显影液耐性的提高，存在粘附性及清晰度提高的倾向。0063说明书CN102331684AC

32、N102331697A8/22页110064通式III、IV及V中，R3、R4及R6各自独立地表示氢原子或甲基，R5表示碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基或卤素原子，R7表示碳原子数为16的烷基，P表示05的整数，P为2以上时，多个存在的R5可以彼此相同或不同。0065上述通式III所示的结构单元是基于甲基丙烯酸的结构单元，优选为基于甲基丙烯酸的结构单元R3甲基。0066A粘合剂聚合物包含上述通式III所示的结构单元时，关于其含有比例，以作为共聚物的A粘合剂聚合物的固体成分总量为基准，从显影性及剥离性优异的角度出发，优选为10质量以上，更优选为15质量以上，进一步优选为20质量

33、以上。此外，从粘附性及清晰度优异的角度出发，优选为50质量以下，更优选为40质量以下，进一步优选为35质量以下。0067上述通式IV所示的结构单元是基于苯乙烯R4氢原子、P0、苯乙烯衍生物、甲基苯乙烯R4甲基、P0及甲基苯乙烯衍生物的结构单元。本实施方式中，“苯乙烯衍生物”及“甲基苯乙烯衍生物”是指苯乙烯及甲基苯乙烯的苯环上的氢原子被取代基R5碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基、卤素原子取代而得到的化合物。作为上述苯乙烯衍生物，例如可列举出甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、叔丁基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、羟基苯乙烯及氯苯乙烯，优选对位取代有R5的结构单元。作为甲基苯乙烯衍生物，

34、可列举出上述苯乙烯衍生物中，乙烯基的位的氢原子被甲基取代而得到的化合物。0068A粘合剂聚合物包含上述通式IV所示的结构单元时，关于其含有比例，以作为共聚物的A粘合剂聚合物的固体成分总量为基准，从粘附性及清晰度优异的角度出发，优选为3质量以上，更优选为10质量以上，进一步优选为15质量以上，特别优选为20质量以上。此外，从剥离性及固化后的抗蚀膜的柔软性优异的角度出发，优选为60质量以下，更优选为55质量以下，进一步优选为50质量以下，特别优选为45质量说明书CN102331684ACN102331697A9/22页12以下。0069上述通式V所示的结构单元是基于甲基丙烯酸烷基酯的结构单元。作为

35、上述甲基丙烯酸烷基酯，可列举出通式V中R7为碳原子数为112的烷基的化合物。碳原子数为112的烷基可以为直链状也可以为支链状，也可以具有羟基、环氧基及卤素原子等取代基。作为所述甲基丙烯酸烷基酯，例如可列举出甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸庚酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸2乙基己酯及它们的结构异构体。从析像度的提高及剥离时间的缩短的观点出发，其中，R7优选为碳原子数为16的烷基，更优选为不具有取代基的碳原子数为16的烷基，进一步优选为甲基。0070A粘合剂聚合物包含上述通式V所示的结构单

36、元时，关于其含有比例，以作为共聚物的A粘合剂聚合物的固体成分总量为基准，从剥离性优异的角度出发，优选为1质量以上，更优选为5质量以上，进一步优选为10质量以上，特别优选为15质量以上。此外，从清晰度优异的角度出发，优选为55质量以下，更优选为50质量以下，进一步优选为45质量以下，特别优选为40质量以下。0071此外，从粘附性及清晰度与剥离性的平衡的立场出发，A粘合剂聚合物优选还包含下述通式VI所示的结构单元。00720073通式VI中，R15表示氢原子或甲基，R16表示碳原子数为14的烷基、碳原子数为13的烷氧基、羟基或卤素原子，Q表示05的整数，当Q为2以上时，多个存在的R16可以彼此相同

37、或不同。0074上述通式VI所示的结构单元是基于甲基丙烯酸苄酯及甲基丙烯酸苄酯衍生物的结构单元。作为上述甲基丙烯酸苄酯衍生物，例如可列举出甲基丙烯酸4甲基苄酯、甲基丙烯酸4乙基苄酯、甲基丙烯酸4叔丁基苄酯、甲基丙烯酸4甲氧基苄酯、甲基丙烯酸4乙氧基苄酯、甲基丙烯酸4羟基苄酯、甲基丙烯酸4氯苄酯。从保持显影性、蚀刻耐性、镀覆耐性及固化膜的挠性的观点出发，上述通式VI所示的结构单元尤其优选为基于甲基丙烯酸苄酯Q0时的结构单元。0075A粘合剂聚合物包含上述通式VI所示的结构单元时，关于其含有比例，以作为共聚物的A粘合剂聚合物的固体成分总量为基准，从粘附性优异的角度出发，优选为5质量以上，更优选为1

38、0质量以上，进一步优选为20质量以上。此外，从剥离性及固化后的抗蚀膜的柔软性优异的角度出发，优选为60质量以下，更优选为55质量以下，说明书CN102331684ACN102331697A10/22页13进一步优选为50质量以下，特别优选为45质量以下。0076这些粘合剂聚合物可以单独使用1种或组合2种以上使用。作为组合2种以上使用时的粘合剂聚合物的组合，例如可列举出由不同的共聚成分构成的包含不同的结构单元作为构成成分2种以上的粘合剂聚合物、不同的重均分子量的2种以上的粘合剂聚合物、具有不同的分散度的2种以上的粘合剂聚合物。此外，也可以使用日本特开平11327137号公报中记载的具有多模分子量

39、分布的聚合物作为粘合剂聚合物。0077另外，在后述的显影工序中用有机溶剂进行显影时，优选少量制备具有羧基的聚合性单体。此外，根据需要粘合剂聚合物也可以具有感光性的官能团。0078以A成分及后述的B成分的总量100质量份为基准，A成分即粘合剂聚合物的配合量优选为4070质量份，更优选为4565质量份，进一步优选为5060质量份。该配合量不到40质量份时，存在通过曝光而固化的感光层变脆的倾向，超过70质量份时，存在析像度及光感度变得不充分的倾向。0079具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物0080B成分即具有烯键式不饱和键的光聚合性化合物优选包含下述通式II所示的化合物。00810082上述通式II

40、中，R1及R2各自独立地表示氢原子或甲基，优选为甲基。Y表示碳原子数为26的亚烷基。N1及N2分别表示正的整数，N1N2为440的整数，优选为634的整数，更优选为830的整数，进一步优选为828的整数，特别优选为820的整数，极其优选为816的整数，最优选为812的整数。当N1N2的值不到4时，与粘合剂聚合物的相容性降低，在电路形成用基板上层压感光性元件时存在容易剥离的倾向，当N1N2的值超过40时，感光层的亲水性增加，在显影时抗蚀膜容易剥离，存在耐镀覆性降低的倾向。另外，分子内多个存在的Y可以彼此相同也可以不同。0083作为上述碳原子数为26的亚烷基，例如可列举出亚乙基、亚丙基、异亚丙基、

41、亚丁基、亚戊基及亚己基。这些当中，从提高清晰度及耐镀覆性的观点出发，优选亚乙基及异亚丙基，更优选亚乙基。0084此外，上述通式II中的芳香环也可以具有取代基。作为这些取代基，例如可列举出卤素原子、碳原子数为120的烷基、碳原子数为310的环烷基、碳原子数为618的芳基、苯酰甲基、氨基、碳原子数为110的烷基氨基、碳原子数为220的二烷基氨基、硝基、氰基、羰基、巯基、碳原子数为110的烷基巯基、烯丙基、羟基、碳原子数为120的羟基烷基、羧基、烷基的碳原子数为110的羧基烷基、烷基的碳原子数为110的酰基、碳原子数为120的烷氧基、碳原子数为120的烷氧基羰基、碳原子数为210的烷基羰基、碳原子数

42、为210的链烯基、碳原子数为210的N烷基氨基甲酰基及包含杂环的基团、以及被这些取代基取代的芳基。上述取代基也可以形成缩合环，此外，这些取代基中的氢原子也可以被卤素原子等上述取代基等取代。另外，当取代基的数量分别为2以上时，2个以上的取代基可以彼此相同也可以不同。说明书CN102331684ACN102331697A11/22页140085作为上述通式II所示的化合物，例如可列举出2，2双4甲基丙烯酰氧基聚乙氧基苯基丙烷、2，2双4甲基丙烯酰氧基聚丙氧基苯基丙烷、2，2双4甲基丙烯酰氧基聚丁氧基苯基丙烷及2，2双4甲基丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基苯基丙烷等双酚A系甲基丙烯酸酯化合物。0086作为

43、上述通式II所示的化合物的具体例子，例如可列举出R1及R2为氢原子、Y为亚乙基、N1N210平均值的EO改性双酚A二丙烯酸酯日立化成工业株式会社制、商品名FA321M。0087B成分中的亲水性成分与疏水性成分的配合的平衡会影响清晰度、粘附性、固化后的剥离特性等。从这样的观点出发，为了获得清晰度、粘附性、固化后的剥离特性等优异的感光性元件，作为B成分，优选包含聚亚烷基二醇二甲基丙烯酸酯。作为聚亚烷基二醇二甲基丙烯酸酯，例如优选下述通式VII、VIII或IX所示的化合物。00880089通式VII中，R8及R9各自独立地表示氢原子或甲基，EO表示氧亚乙基，PO表示亚丙基氧基，S1表示130的整数，

44、R1及R2分别表示030的整数，R1R2平均值为130的整数。00900091通式VIII中，R10及R11各自独立地表示氢原子或甲基。EO表示氧亚乙基，PO表示氧亚丙基，R3表示130的整数，S2及S3分别表示030的整数，S2S3平均值为130的整数。00920093通式IX中，R12及R13各自独立地表示氢原子或甲基，优选为甲基。EO表示氧亚乙基，PO表示氧亚丙基。R4表示130的整数，S4表示130的整数。0094上述通式VII、VIII及IX中，当存在多个氧亚乙基的结构单元EO、氧亚乙基单元及氧亚丙基的结构单元PO、氧亚丙基单元时，多个氧亚乙基单元及氧亚丙基单元可以分别连续地嵌段存在

45、，也可以无规存在。进而，当氧亚丙基单元为氧异亚丙基的结构单元时，可以是亚丙基的仲碳键合在氧原子上，也可以是伯碳键合在氧原子上。0095上述通式VII、VIII及IX中的氧亚乙基单元的总数R1R2、R3及R4各自独立地为130的整数，但优选为4以上的整数，更优选为5以上的整数。此外，从张拉可靠性及抗蚀膜形状优异的角度出发，优选为10以下的整数，更优选为9以下的整数，进一步说明书CN102331684ACN102331697A12/22页15优选为8以下的整数。0096上述通式VII、VIII及IX中的氧亚丙基单元的总数S1、S2S3及S4各自独立地为130的整数，但从清晰度及低淤渣性SLUDGE

46、优异的角度出发，优选为5以上的整数，更优选为8以上的整数，进一步优选为10以上的整数。此外，从清晰度及低淤渣性优异的角度出发，优选为20以下的整数，更优选为16以下的整数，进一步优选为14以下的整数。0097作为上述通式VII所示的化合物的具体例子，例如可列举出R8及R9为甲基、R1R26平均值、S112平均值的乙烯基化合物日立化成工业株式会社制、商品名FA023M。0098作为上述通式VIII所示的化合物的具体例子，例如可列举出R10及R11为甲基、R36平均值、S2S312平均值的乙烯基化合物日立化成工株式会業社制、商品名FA024M。0099作为上述通式IX所示的化合物的具体例子，例如可

47、列举出R12及R13为氢原子、R41平均值、S49平均值的乙烯基化合物新中村化学工业株式会社制、NKESTERHEMA9P。0100另外，它们可以单独使用1种或组合2种以上使用。0101此外，作为B成分，从张拉性TENTING优异的角度出发，优选包含具有氨基甲酸酯键的甲基丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯单体。0102作为上述氨基甲酸酯单体，例如可列举出位具有羟基的甲基丙烯酸单体与异佛尔酮二异氰酸酯、2，6甲苯二异氰酸酯、2，4甲苯二异氰酸酯及1，6六亚甲基二异氰酸酯等二异氰酸酯化合物的加成反应物、三甲基丙烯酰氧基四乙二醇异氰酸酯六亚甲基异氰脲酸酯、EO改性氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯、以及EO、PO改性

48、氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯。另外，EO改性的化合物具有氧亚乙基的嵌段结构。此外，PO改性的化合物具有氧亚丙基的嵌段结构。作为EO改性氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯，例如可列举出新中村化学工业株式会社制、商品名“UA11”。此外，作为EO、PO改性氨基甲酸酯二甲基丙烯酸酯，例如可列举出新中村化学工业株式会社制、商品名“UA13”。它们可以单独使用1种或组合2种以上使用。0103此外，从粘附性、清晰度及剥离性优异的角度出发，B成分优选包含使多元醇与，不饱和羧酸反应而获得的化合物。作为这些化合物，例如可列举出三羟甲基丙烷二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、PO改性

49、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、EO、PO改性三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯及二季戊四醇六甲基丙烯酸酯。作为EO改性三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯，例如可列举出SARTOMER公司制、商品名“SR454”。它们可以单独使用1种或组合2种以上使用。0104从粘附性、清晰度及剥离性优异的角度出发，B成分还优选包含具有一个烯键式不饱和键的光聚合性化合物。作为具有一个烯键式不饱和键的光聚合性化合物，优选含有下述通式X所示的化合物。0105说明书CN102331684ACN102331697A13/22页160106通式X中，R14为氢原子或甲基，优选为氢原子。Z与上述通式II中的Y含义相同，优选为亚乙基。K表示420的整数，从显影性的立场出发，优选为518的整数，更优选为612的整数，进一步优选为610的整数。此外，上述通式X中的芳香环也可以具有取代基