金属图案的形成方法及蒸镀用金属掩模的制造方法.pdf

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1、(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202180059636.1(22)申请日 2021.06.28(30)优先权数据2020-130530 2020.07.31 JP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2023.01.18(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/024392 2021.06.28(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/024633 JA 2022.02.03(71)申请人 富士胶片株式会社地址 日本国东京都(72)发明人 石坂壮二汉那慎一(74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 110。

2、21专利代理师 薛海蛟(51)Int.Cl.G03F 7/004(2006.01)(54)发明名称金属图案的形成方法及蒸镀用金属掩模的制造方法(57)摘要一种金属图案的形成方法及具有利用上述金属图案的形成方法而获得的金属图案的蒸镀用金属掩模的制造方法，该金属图案的形成方法包括：准备在基材上具有负型感光性树脂层的层叠体的工序；从上述负型感光性树脂层中的设置有上述基材的一侧的相反一侧照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光，隔着上述曝光掩模将上述负型感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经上述图案曝光的上述负型感光性树脂层进行显影而形成具有锥形形状的树脂图案的工序；以及形成与上述树脂图案的形状。

3、对应的锥形形状的金属图案的工序。权利要求书2页 说明书37页 附图4页CN 116157740 A2023.05.23CN 116157740 A1.一种金属图案的形成方法，其包括：准备在基材上具有负型感光性树脂层的层叠体的工序；从所述负型感光性树脂层中的与设置有所述基材的一侧相反的一侧照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光，隔着所述曝光掩模将所述负型感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经所述图案曝光的所述负型感光性树脂层进行显影而形成具有锥形形状的树脂图案的工序；以及形成与所述树脂图案的形状对应的锥形形状的金属图案的工序。2.根据权利要求1所述的金属图案的形成方法，其中，在进行所述图。

4、案曝光的工序中，在所述曝光掩模的与所述负型感光性树脂层侧相反的一侧依次配置扩散透射率为5以上的散射层及曝光光源，从所述曝光光源隔着所述散射层而照射散射光。3.根据权利要求2所述的金属图案的形成方法，其中，所述散射层含有基体材料及存在于所述基体材料中的粒子，所述基体材料与所述粒子的折射率之差为0.05以上。4.根据权利要求2或3所述的金属图案的形成方法，其中，所述散射层含有基体材料及存在于所述基体材料中的粒子，所述粒子的平均一次粒径为0.3 m以上。5.根据权利要求2至4中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述散射层在至少一个面上具有凹凸。6.根据权利要求5所述的金属图案的形成方法，其中，所。

5、述凹凸具有多个凸部，相邻的凸部与凸部的顶部之间的距离为10 m50 m。7.根据权利要求2至6中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述散射层与所述曝光掩模配置于不相互接触的位置。8.根据权利要求2至7中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述散射层与所述曝光掩模接触、且配置于所述曝光掩模中的与所述负型感光性树脂层侧相反的一侧。9.根据权利要求2至6中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述曝光掩模为在与形成有遮光图案的面相反的一侧的面上形成有所述散射层的散射性的曝光掩模。10.根据权利要求1至9中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述准备的工序包括使用具有临时支承体及在所述临时支承。

6、体上配置的负型感光性树脂层的转印材料、将所述转印材料所具有的所述负型感光性树脂层转印到所述基材上以形成所述层叠体的工序。11.根据权利要求10所述的金属图案的形成方法，其中，在进行所述图案曝光的工序中的所述图案曝光为使所述临时支承体与所述曝光掩模接触以进行曝光的接触曝光。12.根据权利要求10所述的金属图案的形成方法，其中，在进行所述图案曝光的工序中的所述图案曝光为剥离了所述临时支承体之后、使所述权利要求书1/2 页2CN 116157740 A2曝光掩模与具有所述负型感光性树脂层的所述层叠体接触以进行曝光的接触曝光。13.根据权利要求1至12中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述基材为。

7、导电性基材。14.根据权利要求1至13中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述金属图案为利用镀敷法而形成的金属图案。15.根据权利要求1至14中任一项所述的金属图案的形成方法，其在形成所述金属图案的工序之后，进一步包含去除所述树脂图案的工序。16.根据权利要求15所述的金属图案的形成方法，其中，通过药液来进行所述树脂图案的去除。17.根据权利要求1至16中任一项所述的金属图案的形成方法，其进一步包括从所述金属图案去除所述基材的工序。18.根据权利要求1至17中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所述树脂图案包括角锥台状或圆锥台状的树脂图案。19.根据权利要求1至18中任一项所述的金属图案。

8、的形成方法，其中，所述负型感光性树脂层的厚度为10 m以上。20.根据权利要求1至19中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所获得的金属图案为蒸镀用金属掩模用金属图案。21.一种蒸镀用金属掩模的制造方法，其包括利用权利要求1至20中任一项所述的金属图案的形成方法来形成金属图案的工序。权利要求书2/2 页3CN 116157740 A3金属图案的形成方法及蒸镀用金属掩模的制造方法技术领域0001本发明涉及一种金属图案的形成方法及蒸镀用金属掩模的制造方法。背景技术0002在静电电容型输入装置等具备触控面板的显示装置(有机电致发光(EL)显示装置及液晶显示装置等)中，对应于视觉辨认部的传感器的电极。

9、图案、边缘配线部分及取出配线部分的配线等的导电层图案被设置于触控面板内部。0003通常由于在形成经图案化的层时，用于获得所需的图案形状的工序数少，因此对使用感光性转印部件而在任意基材上设置的感光性树脂组合物的层，隔着具有所希望的图案的掩模进行曝光之后进行显影的方法被广泛使用。0004并且，作为形成有机EL显示装置的像素的方法，已知如下方法：使包含贯穿孔的金属掩模(蒸镀掩模)与有机EL显示装置用基材密接之后，投入到蒸镀装置，通过有机材料等的蒸镀而形成像素的方法。0005并且，作为现有的金属掩模的制造方法，已知在日本特开2006152396号公报或日本特开2017226918号公报中记载。0006。

10、在日本特开2006152396号公报中记载了一种金属掩模的制造方法，该方法的特征在于：在基于电铸用掩模原版而制作的金属掩模的制造方法中，在涂布有抗蚀剂的第1基板上，使用以预定形状形成了相似的转印图案的多个光掩模而依次曝光之后进行显影，在上述第1基板上形成具有倾斜侧壁的预定形状凸部，在上述第1基板的上述预定形状凸部形成侧的整个面形成第1导电膜，通过镀敷而使金属在上述第1导电膜的上表面析出，将经上述析出的金属从上述第1导电膜剥离而制作具有预定形状凹部的主原版，在第2基板的具有导电性的上表面上通过树脂而形成基于上述主原版的上述预定形状凹部而与上述预定形状凸部大致相同的凸部，从上述主原版剥离具有基于上。

11、述树脂的上述凸部的上述第2基板以制作上述电铸用掩模原版，在被暴露于上述电铸用掩模原版的上述第2导电膜上，通过镀敷而析出和形成所希望的金属的膜直至设置有具有与上述掩模原版的上述预定形状凹部的倾斜侧壁大致相同的侧壁的开孔的厚度为止，通过从上述电铸用掩模原版剥离上述金属的膜而制作。0007在日本特开2017226918号公报中记载了一种利用电铸镀敷法的微细金属掩模的制造方法，该微细金属掩模的制造方法包括：(a)准备载子玻璃，在上述载子玻璃上蒸镀牺牲层的工序；(b)蒸镀用于电铸镀敷的电极金属以形成电极层的工序；(c)在上述电极层上涂布光致抗蚀剂的工序；(d)利用光微影法来对上述光致抗蚀剂进行曝光和显影。

12、以进行图案化的工序；(e)在经图案化的上述光致抗蚀剂上通过电铸镀敷以形成电铸镀敷层的工序；(f)通过去除上述光致抗蚀剂以形成金属图案的工序；(g)在上述电极层上通过形成与上述金属图案对应的图案以形成掩模图案的工序；(h)为了提高经图案化的上述电铸镀敷层及上述电极层的刚性而进行热处理的工序；(i)检查上述电铸镀敷层及在上述电极层形成的上述掩模图案的工序；及(j)从上述载子玻璃中分离上述电铸镀敷层和上述电极层的工序。说明书1/37 页4CN 116157740 A40008并且，作为现有的带基板的蒸镀掩模，已知在日本特开2019173181号公报中记载。0009在日本特开2019173181号公报。

13、中记载了带基板的蒸镀掩模，其特征在于，具备玻璃制基板及在基板上通过镀敷处理而形成且由具有有孔区域和围绕该有孔区域的无孔区域的镀敷层构成的多个蒸镀掩模，多个蒸镀掩模在每个多个段和多个列上配置。发明内容0010发明要解决的技术课题0011本发明的一实施方式所要解决的课题为提供一种锥形形状优异的金属图案的形成方法。0012本发明的另一实施方式所要解决的课题为提供一种锥形形状优异的蒸镀用金属掩模的制造方法。0013用于解决技术课题的手段0014本发明包含以下方式。0015一种金属图案的形成方法，其包括：准备在基材上具有负型感光性树脂层的层叠体的工序；从上述负型感光性树脂层中的与设置有上述基材的一侧相反。

14、的一侧照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光，隔着上述曝光掩模将上述负型感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经上述图案曝光的上述负型感光性树脂层进行显影而形成具有锥形形状的树脂图案的工序；以及形成与上述树脂图案的形状对应的锥形形状的金属图案的工序。0016根据所述的金属图案的形成方法，其中，在进行上述图案曝光的工序中，在上述曝光掩模的与上述负型感光性树脂层侧相反的一侧依次配置扩散透射率为5以上的散射层及曝光光源，从上述曝光光源隔着上述散射层而照射散射光。0017根据所述的金属图案的形成方法，其中，上述散射层含有基体材料及存在于上述基体材料中的粒子，上述基体材料与上述粒子的折射率之差为0。

15、.05以上。0018根据或所述的金属图案的形成方法，其中，上述散射层含有基体材料及存在于上述基体材料中的粒子，上述粒子的平均一次粒径为0.3 m以上。0019根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述散射层在至少一个面上具有凹凸。0020根据所述的金属图案的形成方法，其中，上述凹凸具有多个凸部，相邻的凸部与凸部的顶部之间的距离为10 m50 m。0021根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述散射层与上述曝光掩模配置于不相互接触的位置。0022根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述散射层与上述曝光掩模接触、且配置于上述曝光掩模中的与上述负型感光性树脂层侧相反的一侧。

16、。0023根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述曝光掩模为在与形成有遮光图案的面相反的一侧的面上形成有上述散射层的散射性的曝光掩模。0024根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述准备的工序包括使用具有临时支承体及在上述临时支承体上配置的负型感光性树脂层的转印材料、将说明书2/37 页5CN 116157740 A5上述转印材料所具有的上述负型感光性树脂层转印到上述基材上以形成上述层叠体的工序。0025根据所述的金属图案的形成方法，其中，在进行上述图案曝光的工序中的上述图案曝光为使上述临时支承体与上述曝光掩模接触以进行曝光的接触曝光。0026根据所述的金属图案的形成方法，。

17、其中，在进行上述图案曝光的工序中的上述图案曝光为剥离了上述临时支承体之后、使上述曝光掩模与具有上述负型感光性树脂层的上述层叠体接触以进行曝光的接触曝光。0027根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述基材为导电性基材。0028根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述金属图案为利用镀敷法而形成的金属图案。0029根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其在形成上述金属图案的工序之后，进一步包含去除上述树脂图案的工序。0030根据所述的金属图案的形成方法，其中，通过药液来进行上述树脂图案的去除。0031根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其进一步包括从上述金属图案去除上述基。

18、材的工序。0032根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述树脂图案包括角锥台状或圆锥台状的树脂图案。0033根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，上述负型感光性树脂层的厚度为10 m以上。0034根据至中任一项所述的金属图案的形成方法，其中，所获得的金属图案为蒸镀用金属掩模用金属图案。0035一种蒸镀用金属掩模的制造方法，其包括利用至中任一项所述的金属图案的形成方法来形成金属图案的工序。0036发明效果0037根据本发明的一实施方式，能够提供一种锥形形状优异的金属图案的形成方法。0038根据本发明的另一实施方式，能够提供一种锥形形状优异的蒸镀用金属掩模的制造方法。附图说明00。

19、39图1是表示本发明的金属图案的形成方法的优选的一例的示意图。0040图2是表示在图案曝光工序的光照射中，散射层的配置位置的第1方式的概略剖视图。0041图3是表示在图案曝光工序的光照射中，散射层的配置位置的第2方式的概略剖视图。0042图4是表示在图案曝光工序的光照射中，使用成为散射层的配置位置的第3方式的光散射性曝光掩模的一例的概略剖视图。0043图5是表示1个树脂图案的一例中的各部分的长度的位置的示意剖视图。说明书3/37 页6CN 116157740 A60044图6是表示1个金属图案的一例中的各部分的长度的位置的示意剖视图。0045图7是表示曝光掩模的图案形状的一例的示意图。具体实施。

20、方式0046以下，对本发明的内容进行说明。另外，一边参考附图一边进行说明，但有时省略符号。0047并且，本说明书中，使用“”表示的数值范围是指包含记载于“”的前后的数值作为下限值及上限值的范围。0048并且，本说明书中，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸和甲基丙烯酸这两者或任一者，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯这两者或任一者。0049并且，本发明中，在组合物中存在多种对应于各成分的物质的情况下，只要无特别说明，则组合物中的各成分的量是指组合物中存在的所对应的多种物质的总量。0050本说明书中，“工序”这一术语，不仅包括独立的工序，而且即使在无法与其他工序明确地进行区分的情况下，只要发。

21、挥该工序的预期的作用，则也包括在本术语中。0051本说明书中的基团(原子团)的标记中，未标注经取代及未经取代的标记包含不具有取代基的基团及具有取代基的基团。例如，“烷基”是指，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，也包含具有取代基的烷基(经取代烷基)。0052在本说明书中，“曝光”只要没有特别指定，则除了利用光的曝光以外，还包括利用电子束、离子束等粒子束的描绘。并且，作为用于曝光的光，通常可以举出水银灯的明线光谱、以准分子激光为代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等光化射线(活性能量射线)。0053并且，本说明书中的化学结构式有时以省略了氢原子的简化结构式来记载。0054。

22、本发明中，“质量”与“重量”的含义相同，“质量份”与“重量份”的含义相同。0055并且，本发明中，2个以上的优选方式的组合为更优选的方式。0056并且，关于本发明中的重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)，只要没有特别指定，则为以如下方式获得的分子量，即通过使用了TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制造的产品名称)的管柱的凝胶渗透色谱(GPC)分析装置，利用溶剂THF(四氢呋喃)、差示折射计进行检测，并使用聚苯乙烯作为标准物质来进行换算而得的分子量。0057(金属图案的形成方法)0058本发明的金属图案。

23、的形成方法包括：准备在基材上具有负型感光性树脂层的层叠体的工序；从上述负型感光性树脂层中的与设置有上述基材的一侧相反的一侧照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光，隔着上述曝光掩模将上述负型感光性树脂层进行图案曝光的工序；对经上述图案曝光的上述负型感光性树脂层进行显影而形成具有锥形形状的树脂图案的工序；以及形成与上述树脂图案的形状对应的锥形形状的金属图案的工序。0059在现有的金属图案的形成方法中，可以利用使用了光微影技术的蚀刻法，在金属板上形成贯穿孔来形成金属图案。0060例如，在厚度为100 m200 m的不锈钢(SUS)基板上将光致抗蚀剂进行图案化之说明书4/37 页7CN 11。

24、6157740 A7后，使用蚀刻液将SUS基板蚀刻成要实现的开口部的形状。0061但是，关于通过用药液的蚀刻来加工金属板的方法，由于不仅在金属板的厚度方向，而且在面方向也被蚀刻而产生所谓的侧蚀刻，因此加工的尺寸精度或稳定性存在问题。0062因此，作为用于制作高精度的金属掩模的加工法，提出了利用电铸镀敷法的微细金属掩模的制造方法。0063作为基于电铸法的金属掩模的制造方法的一例，首先，在基于玻璃等非导体物质的基底基板的一面上，通过溅射等而形成金属的被膜(即，导电性膜)以赋予导电性，在该导电性膜上转印形成高精度且基于光致抗蚀剂的掩模的开孔图案。接着，在从光致抗蚀剂中暴露的导电性膜上，在镀敷液中向该。

25、导电性膜连接电源，析出镍或镍合金直至所需要的厚度为止。最后，剥去该析出的金属被膜以作为金属掩模。0064此时，为了制作具有锥形形状的开孔部的金属掩模，光致抗蚀剂的图案需要设为在侧壁具有倾斜的锥形形状的图案。0065如此，本发明人等发现在现有的金属图案的形成方法中，锥形形状中存在问题。0066在本发明的金属图案的形成方法中，从上述负型感光性树脂层中的与设置有上述基材的一侧相反的一侧，照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光，通过将上述负型感光性树脂层进行图案曝光，根据上述负型感光性树脂层的厚度方向的长度，曝光量尤其是所形成的树脂图案的侧面部分的曝光量减少，所获得的树脂图案中产生锥形形状。。

26、并且，通过上述方式，能够充分地控制上述树脂图案的锥形形状及所获得的金属图案的锥形形状。由此，推断可以获得锥形形状优异的金属图案。0067利用本发明的金属图案的形成方法制造的金属图案为在具有倒锥形形状或倒置时为正锥形形状的金属图案，例如，能够适当地用作蒸镀用金属掩模，能够更为适当地用作有机EL显示装置制造用FMM(Fine Metal Mask：精细金属掩模)，能够尤为适当地用作有机发光二极体(OLED)制造用FMM。0068并且，图1中示出表示本发明的金属图案的形成方法的优选的一例的示意图。0069图1由对应于各工序的阶段的图1(a)图1(e)构成。并且，在图1(a)图1(e)中示出所形成的金。

27、属图案中的一部分中，表示与基材的面方向垂直的方向上的截面的截面示意图。0070如图1(a)所示，在准备上述层叠体的工序中，在基材102上准备具有负型感光性树脂层104a的层叠体100。0071从负型感光性树脂层104a中的与设置有基材102的侧相反的一侧，通过具有向曝光掩模(未图示)厚度方向倾斜地入射的成分的光对层叠体100中的负型感光性树脂层104a进行图案曝光，并进一步进行显影以形成如图1(b)所示那样具有锥形形状的树脂图案104。0072接着，利用镀敷法等，形成如图1(c)那样与上述树脂图案104的形状对应的倒锥形形状的金属图案106。0073另外，树脂图案的锥角为 1，金属图案的锥角为。

28、 2。不仅在图1(c)中，而且 1及 2在图1(b)、图1(d)及图1(e)中也相同。0074利用药液等从具有树脂图案104及金属图案106的基材102上去除树脂图案104，获得如图1(d)那样具有金属图案106的基材102。0075可以从具有金属图案106的基材102中进一步去除基材102。能够通过去除基材102说明书5/37 页8CN 116157740 A8而如图1(e)所示那样仅获得金属图案106。另外，如图1(e)所示那样去除基材102的情况下，金属图案106优选为在各金属部分未图示的部分中全部连接的图案。00760077本发明的金属图案的形成方法包括准备在基材上具有负型感光性树脂层。

29、的层叠体的工序(也称为“准备工序”。)。0078并且，上述准备工序优选包括使用具有临时支承体及在上述临时支承体上配置的负型感光性树脂层的转印材料，将上述转印材料所具有的上述负型感光性树脂层转印到上述基材上以形成上述层叠体的工序。0079关于本发明中所使用的负型感光性树脂层及具有负型感光性树脂层的转印材料，进行后述。0080上述层叠体为至少具有基材及负型感光性树脂层的层叠体，可以具有临时支承体、剥离层等其他层，但优选为由基材、负型感光性树脂层及临时支承体构成的层叠体、或者由基材及负型感光性树脂层构成的层叠体，更优选为由基材、负型感光性树脂层及临时支承体构成的层叠体。0081作为上述负型感光性树脂。

30、层的厚度，并没有特别限制，能够对应地与后述的树脂图案的所希望的厚度而适当设定，但从所获得的金属图案的锥角及尺寸稳定性的观点考虑，优选为8 m以上，更优选为10 m以上，进一步优选为15 m以上，尤其优选为20 m以上，最优选为30 m以上。并且，上述负型感光性树脂层的厚度的上限优选为100 m以下。0082基材0083上述基材优选为板状的基材，更优选为金属基板。0084并且，上述基材优选为导电性基材，即至少在其表面具有导电性的导电性基材，上述基材更优选为由导电性材料构成的基材，即基材整体具有导电性的导电性基材。0085作为上述基材，例如，能够适当地使用基于不锈钢等的金属的薄板，或利用电解镀敷而。

31、在成为绝缘性材料的玻璃的上表面形成镍的导电性膜。0086作为上述玻璃，能够适当使用无碱玻璃或钠玻璃。0087作为上述基材中所使用的导电性材料，例如，能够使用镍、铬、钽、钨、氧化铟锡(ITO)等。并且，在向基材赋予导电性时，还能够使用基于无电解镀敷的导电膜的形成及基于溅射、真空蒸镀、离子镀等的物理方法。并且，作为成为基底的基材的材料，可以举出玻璃板、不锈钢板、硅基板等。0088在使用表面具有导电性层的基材的情况下，上述导电性层的厚度只要具有电解镀敷处理所需的导电性，则厚度优选薄。0089并且，上述导电性层的厚度优选具体为例如0.5 m5 m。0090作为上述层叠体的制作方法，并没有特别限制，例如。

32、，可以举出使用转印材料而在基材上形成负型感光性树脂层的方法、在基材上涂布干燥负型感光性树脂组合物的方法等，可以适当举出使转印材料中的负型感光性树脂层与基材贴合的方法。0091并且，上述转印材料具有临时支承体的情况下，优选在上述贴合后，进行剥离。0092并且，上述转印材料具有覆盖膜的情况下，从负型感光性树脂层的表面去除覆盖膜之后，进行贴合即可。0093作为使基材和转印材料(转印材料中的负型感光性树脂层)贴合的方法，没有特别说明书6/37 页9CN 116157740 A9限制，能够使用公知的转印方法及层压方法。0094优选通过在转印材料中的负型感光性树脂层侧重叠基材，并且使用辊等机构来实施加压及。

33、加热以进行上述贴合。并且，进行上述贴合时，能够使用层压机、真空层压机及能够更加提高生产率的自动切割层压机等公知的层压机。0095并且，上述贴合优选通过辊对辊方式进行。0096以下，对辊对辊方式进行说明。0097在本发明中，辊对辊方式是指如下方式：包括作为基材而使用能够卷取和放卷的基材，并且放卷基材及转印材料中的至少一者的工序(也称为“放卷工序”。)及将上述层叠体卷取的工序(也称为“卷取工序”。)，并且在至少1个工序(优选为所有工序，或者除了加热工序以外的所有工序)中一边传送基材及转印材料中的至少一者以及上述层叠体，一边贴合基材与转印材料。0098作为放卷工序中的放卷方法及卷取工序中的卷取方法，。

34、并没有特别限制，只要在应用辊对辊方式的制造方法中，使用公知的方法即可。00990100本发明的金属图案的形成方法包括从上述负型感光性树脂层中的与设置有上述基材的一侧相反的一侧照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光，隔着上述曝光掩模将上述负型感光性树脂层进行图案曝光的工序(也称为“图案曝光工序”。)。0101作为照射具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光的方法，并没有特别限制，可以举出向曝光掩模照射散射光的方法、使用透镜等光学部件而将照射角度宽的光照射到曝光掩模的方法等。0102作为形成散射光的方法，并没有特别限制，能够使用公知的方法，例如，可以适当举出通过散射层而形成散射光的方。

35、法。0103作为形成照射角度宽的光的方法，并没有特别限制，能够使用公知的方法，例如，可以举出将从照射角度窄的LED(发光二极体)照射的光透射到广角透镜或鱼眼透镜以使照射角度成为广角的方法。0104其中，图案曝光工序优选为从上述负型感光性树脂层中的与设置有上述基材的一侧相反的一侧向曝光掩模照射散射光，并且通过透射上述曝光掩模的光而将上述负型感光性树脂层进行图案曝光的工序。0105作为图案曝光工序，具体而言，例如，可以优选地举出从上述曝光掩模的与上述负型感光性树脂层侧相反的一侧配置的曝光光源，隔着曝光掩模而对上述负型感光性树脂层照射散射光，从而进行图案曝光的工序。0106散射光的照射优选为在上述曝。

36、光掩模的与上述负型感光性树脂层侧相反的一侧依次配置扩散透射率为5以上的散射层及曝光光源，并且从曝光光源隔着散射层来照射散射光。0107另外，本发明中的图案曝光是指，以图案状曝光的方式，即，在负型感光性树脂层中，存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。0108在图案曝光工序中，上述图案曝光中的图案的详细配置及具体尺寸并没有特别限制。例如，只要根据所制造的显示装置(例如，触控面板)进行适当选择即可。0109并且，在上述图案曝光中，作为上述曝光掩模，使用用于曝光成所希望的形状的掩说明书7/37 页10CN 116157740 A10模(遮光掩模)。作为上述曝光掩模，并没有特别限制，能够使用公知的材质的掩模。

37、。0110曝光光源0111作为本发明中的曝光光源，能够使用公知的曝光光源。0112曝光光源只要为照射能够曝光上述负型感光性树脂层的波长的光(例如，365nm或405nm)的光源，则能够适当选定使用。具体而言，可以举出超高压水银灯、高压水银灯、金属卤素灯及LED(Light Emitting Diode：发光二极体)。0113上述曝光时的光只要能够曝光上述负型感光性树脂层，则并没有特别限制，优选包含波长为365nm或405nm的光，更优选包含波长为365nm的光，尤其优选波长为365nm的光。0114作为曝光量，只要能够对上述负型感光性树脂层进行曝光，则并没有特别限制，优选为5mJ/cm21,0。

38、00mJ/cm2，更优选为10mJ/cm2500mJ/cm2。0115使用具有临时支承体及在上述临时支承体上配置的负型感光性树脂层的转印材料的情况下，在图案曝光工序中，可以在从负型感光性树脂层中剥离临时支承体之后进行曝光，也可以在隔着临时支承体进行曝光之后剥离临时支承体。0116关于临时支承体的剥离，例如，能够通过一边以0.5m/min4.0m/min的速度传送包含负型感光性树脂层及临时支承体的层叠体，一边拉伸以使临时支承体与层叠体所成的角度为10 180 来进行。通过在曝光前剥离临时支承体，能够避免临时支承体中所包含的异物或附着于临时支承体的异物对曝光产生不良影响。0117为了防止由负型感光。

39、性树脂层与曝光掩模接触引起的负型感光性树脂层的污染及避免由附着于曝光掩模的异物引起的对曝光的影响，优选隔着临时支承体而进行曝光。0118即，在上述层叠体中的上述负型感光性树脂层上具有临时支承体，并且在形成上述树脂图案的工序中的上述曝光优选隔着上述临时支承体进行，并且，上述图案曝光的工序中的上述图案曝光更优选为使上述临时支承体与上述曝光掩模接触以进行曝光的接触曝光。0119并且，在上述图案曝光的工序中的上述图案曝光也优选为剥离了上述临时支承体之后，使上述曝光掩模与具有上述负型感光性树脂层的上述层叠体接触以进行曝光的接触曝光。0120作为使用曝光掩模的曝光方法，能够使用利用光刻机的、掩模密接曝光、。

40、接近式曝光或投影曝光等已知的高清曝光机构。在使用光刻机来进行曝光的情况下，能够任意地设定曝光掩模与负型感光性树脂层的距离(曝光接近间隙)，优选为0 m500 m，更优选为10 m300 m，尤其优选为25 m200 m。0121并且，作为曝光掩模，能够使用二元式掩模、灰色掩模、半色调掩模等。0122散射层0123在图案曝光工序中，优选隔着在曝光光源与曝光掩模之间配置的散射层(更优选为扩散透射率为5以上的散射层)进行具有向曝光掩模的厚度方向倾斜地入射的成分的光(优选为散射光)的照射。0124散射层可以单独设置，也可以使用层叠体的其他层，例如，曝光掩模的基材、干膜光阻中的临时支承体等中具有散射性的。

41、材料来赋予作为散射层的功能。0125从所获得的树脂图案及金属图案的锥角的观点考虑，可以优选地举出上述散射层与上述曝光掩模配置于不相互接触的位置的方式。说明书8/37 页11CN 116157740 A110126上述散射层与上述曝光掩模之间的距离例如只要设为0 m200 m即可。0127并且，从所获得的树脂图案及金属图案的锥角的观点考虑，上述散射层优选在上述曝光掩模中的与上述负型感光性树脂层侧相反的一侧配置。0128扩散透射率的测量使用光扩散透射率的指标。光扩散透射率是指，向散射层照射光，在透射散射层的光中，从包含平行成分及扩散成分的全部的光线的总透射率中去除平行成分的扩散光的透射率。0129。

42、光扩散透射率能够根据JIS K 7136“塑料透明材料的雾度的计算方法(2000年)”而求出。0130即，雾度值(雾值)是指下述式所表示的值，由此，能够通过使用雾度计来求出成为被检体的散射层的扩散透射率。0131雾度值(雾值)扩散透射率(Td)/总透光率(Tt)1000132作为本发明中的测量装置，采用使用了NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES Co.，LTD雾度计NDH7000II的值。0133散射层的扩散透射率优选为5以上，更优选为50以上，进一步优选为70以上，尤其优选为90以上。0134扩散透射率的上限并没有特别限制，例如，能够设为100。0135散射层的散射角优选为1。

43、5 以上，更优选为20 以上，进一步优选为20 以上且80以下，尤其优选为40 以上且70 以下。其中，散射角是指，将透射散射层的光的垂直方向作为0 的强度且成为其2分之1的强度的角度为止的宽度(正侧及负侧的合计)。还有时用如半峰全角的术语来表示。0136散射角能够使用测角仪等来测量。0137关于光的散射特性，一般在正侧和负侧成为对称，正侧与负侧不对称的情况下，散射角的定义也不改变。0138散射角的值根据测量面的朝向而不同的情况下，将其中最大的值设为其散射层的散射角。0139散射层并没有特别限制，从容易调整扩散透射率且容易获得的观点考虑，散射层优选为含有基体材料及存在于基体材料中的粒子的散射层。

44、(以下，有时称为含有基体材料及粒子的散射层)或者，在至少一个面具有凹凸的散射层。0140含有基体材料及粒子的散射层0141作为本发明中所使用的散射层的一方式，可以举出含有基体材料及存在于基体材料中且用于向散射层赋予光散射性的粒子(以下，有时称为特定粒子)的层。0142包含特定粒子的散射层优选为特定粒子分散于透明的基体材料中而包含的层。0143作为基体材料，可以举出玻璃、石英、树脂材料等。0144将玻璃或石英用作基体材料的情况下，只要揉合特定粒子使其在玻璃或石英中均匀地分散，并作为散射层即可。0145将树脂材料用作基体材料的情况下，优选为能够形成紫外线透射性的树脂层的树脂，例如，可以举出丙烯酸树。

45、脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、硅酮树脂等。0146将树脂材料用作基体材料的情况下，能够通过公知的方法来形成散射层。例如，能说明书9/37 页12CN 116157740 A12够通过对基体材料的树脂颗粒及特定粒子进行熔融混炼，并且利用注射成型而获得板状的散射层。并且，通过固化包含树脂的前驱物单体及特定粒子的树脂组合物来设为散射层，也可以在包含树脂材料及成为任意成分的溶剂等的混合物中固化混炼有特定粒子的树脂组合物来设为散射层。另外，散射层的形成方法并不限于上述方法。0147特定粒子为了向散射层赋予充分的光散射性，上述散射层含有基体材料及在上述基体材料中。

46、存在的粒子，上述基体材料与上述粒子的折射率差优选为0.05以上，更优选为0.051.0，进一步优选为0.050.6。0148若基体材料与特定粒子的折射率差在上述范围内，则能够大幅度增加散射光强度，并且在散射光强度过大时所担忧的由入射光的反射变得过大而引起的能量赋予的降低得到抑制，并且能够赋予使负型感光性树脂层固化的充分的能量。0149并且，特定粒子为了向散射层赋予充分的光散射性，上述散射层含有基体材料及在上述基体材料中存在的粒子，上述粒子的平均一次粒径优选为0.3 m以上。特定粒子的平均一次粒径更优选在0.3 m2.0 m的范围，尤其优选在0.5 m1.5 m的范围。若平均一次粒径为上述范围，。

47、则发生紫外线的米氏散射，前方散射光的强度变大，容易赋予使负型感光性树脂层固化的充分的能量。0150特定粒子的平均一次粒径为通过使用电子显微镜来测量存在于视角内的任意200个特定粒子的粒径，并且采用将所测量的数值进行算术平均而计算。0151另外，粒子的形状不是球形的情况下，将最长的边作为粒径。0152作为特定粒子，例如，可以举出氧化锆粒子(ZrO2粒子)、氧化铌粒子(Nb2O5粒子)、氧化钛粒子(TiO2粒子)、氧化铝粒子(Al2O3粒子)、二氧化硅粒子(SiO2粒子)等无机粒子、以及交联聚甲基丙烯酸甲酯等有机粒子。0153散射层可以仅包含1种特定粒子，也可以包含2种以上。0154特定粒子的含量。

48、并没有特别限制，优选通过调整散射层中的特定粒子的种类、尺寸、含量、形状、折射率等来实现所希望的扩散透射率或者所希望的散射角。0155作为特定粒子的含量，例如，相对于散射层的总质量，能够设为5质量50质量。0156在至少一个面具有凹凸的散射层0157作为散射层的另一方式，可以举出在至少一个面具有凹凸的散射层。通过在散射层中的至少一个面具有凹凸，从而光通过凹凸而被散射，并且散射光隔着散射层而照射到负型感光性树脂层。0158关于散射层中的凹凸，相邻的凸部与凸部的顶部之间的距离优选为10 m50 m。0159关于凹凸，相邻的凸部与凸部的底部之间接触，从光散射性的观点考虑，优选相邻的凸部与凸部不具有空隙。

49、等间隔而密集地形成。0160通过调整凸部的尺寸、形状、凸部的每单位面积的形成密度等，能够实现所希望的扩散透射率或者所希望的散射角。凸部的形状并没有特别限制，可以根据作为目标的扩散透射率、扩散角度等而从半球形、圆锥形、棱锥形、脊状等中适当选择。0161在至少一个面具有凹凸的散射层可以使用市售品。作为市售品，例如，可以举出OPTICAL SOLUTIONS Corporation制造、透镜扩散板(注册商标)、产品名称：(以下，相同)LSD5ACUVT10、LSD10ACUVT10、LSD20ACUVT10、LSD30ACUVT10、LSD40ACUVT10、LSD60ACUVT10、说明书10/3。

50、7 页13CN 116157740 A13LSD80ACUVT10(以上为紫外线透射丙烯酸树脂制)、0162透镜扩散板(注册商标)：LSD5AC10、LSD10AC10、LSD20AC10、LSD30AC10、LSD40AC10、LSD60AC10、LSD80AC10(以上为丙烯酸树脂制)、0163透镜扩散板(注册商标)：LSD5PCI0、LSD10PC10、LSD20PC10、LSD30PC10、LSD40PC10、LSD60PC10、LSD80PC10、LSD6010PC10、LSD601PC10、LSD401PC10、LSD305PC10(以上为聚碳酸酯制)、0164透镜扩散板(注册商标。