通信装置及介质波导滤波器.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201921808160.3 (22)申请日 2019.10.25 (73)专利权人 京信通信技术 （广州） 有限公司 地址 510730 广东省广州市广州经济技术 开发区金碧路6号 (72)发明人 谢懿非丁海林显添 (74)专利代理机构 广州华进联合专利商标代理 有限公司 44224 代理人 别亮亮 (51)Int.Cl. H01P 1/20(2006.01) (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 (54)实用新型名称 通信装置及介质波导滤波器 (57)摘要 本实用新型涉。

2、及一种通信装置及介质波导 滤波器， 介质波导滤波器包括介质块与金属层。 介质块的其中一表面上设有容性耦合通孔与间 隔的两个频率调试孔。 容性耦合通孔位于两个频 率调试孔之间。 介质块的表面的金属层上开设有 非圆环状的封闭式缺口环， 封闭式缺口环绕设于 容性耦合通孔的外围， 且封闭式缺口环为封闭式 的封闭式缺口环。 通过调整非圆环状的封闭式缺 口环的周长来使得容性耦合带宽符合要求， 无需 通过如传统地减小圆环状的缺口环的环宽D来减 小耦合带宽， 非封闭式的封闭式缺口环的环宽d 可以做到更大的尺寸(例如0.4mm或0.6mm以上)， 便于设备生产加工， 生产效率较高， 也能避免由 于环宽较小时的短。

3、路缺陷， 实用性较高。 权利要求书2页 说明书10页 附图11页 CN 210468053 U 2020.05.05 CN 210468053 U 1.一种介质波导滤波器， 其特征在于， 包括： 介质块， 所述介质块的其中一表面上设有容性耦合通孔与间隔的两个频率调试孔， 所 述容性耦合通孔位于两个所述频率调试孔之间； 金属层， 所述金属层设于所述介质块的外表面， 以及设于所述容性耦合通孔与所述频 率调试孔的孔壁上， 所述介质块的表面的金属层上开设有非圆环状的封闭式缺口环， 所述 封闭式缺口环绕设于所述容性耦合通孔的外围。 2.根据权利要求1所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述封闭式缺口环。

4、包括两个以 上非封闭式缺口环， 所述非封闭式缺口环的端部依次连通围合成所述封闭式缺口环。 3.根据权利要求2所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述非封闭式缺口环均绕所述 容性耦合通孔设置。 4.根据权利要求3所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述非封闭式缺口环包括第一 非封闭式缺口环、 第二非封闭式缺口环及第三非封闭式缺口环， 所述第一非封闭式缺口环、 所述第二非封闭式缺口环及所述第三非封闭式缺口环在远离于所述耦合通孔的方向上依 次间隔设置。 5.根据权利要求4所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述第一非封闭式缺口环为两 个， 所述第二非封闭式缺口环为四个， 所述第三非封闭式缺口环。

5、为两个； 所述第一非封闭式缺口环的两端分别与其中两个所述第二非封闭式缺口环的一端对 应连通， 其中两个所述第二非封闭式缺口环的另一端分别与两个所述第三非封闭式缺口环 的一端对应连通； 所述第一非封闭式缺口环、 所述第二非封闭式缺口环及所述第三非封闭 式缺口环配合形成所述封闭式缺口环。 6.根据权利要求4所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述第一非封闭式缺口环、 所 述第二非封闭式缺口环及所述第三非封闭式缺口环均为非封闭式缺口圆环； 两个所述第一 非封闭式缺口环关于所述容性耦合通孔的轴线对称设置， 四个所述第二非封闭式缺口环关 于所述容性耦合通孔的轴线对称设置， 两个所述第三非封闭式缺口环关。

6、于所述容性耦合通 孔的轴线对称设置； 两个所述第一非封闭式缺口环同轴设置， 四个所述第二非封闭式缺口 环同轴设置， 两个所述第三非封闭式缺口环同轴设置。 7.根据权利要求1所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述封闭式缺口环包括第一封 闭式缺口环及一个以上第四非封闭式缺口环； 所述第一封闭式缺口环与所述第四非封闭式 缺口环相连通， 所述第一封闭式缺口环绕所述容性耦合通孔的周向设置； 所述第四非封闭 式缺口环绕设于所述第一封闭式缺口环的外围； 或者， 所述封闭式缺口环包括第二封闭式缺口环及一个以上第五非封闭式缺口环； 所述第二 封闭式缺口环与所述第五非封闭式缺口环相连通， 所述第二封闭式缺口环。

7、绕所述容性耦合 通孔的周向设置； 所述第五非封闭式缺口环设于所述第二封闭式缺口环与所述容性耦合通 孔之间的区域。 8.根据权利要求1所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述封闭式缺口环包括加长缺 口段及两个以上第六非封闭式缺口环， 两个以上所述第六非封闭式缺口环通过所述加长缺 口段相连通并配合形成所述封闭式缺口环。 9.根据权利要求8所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述第六非封闭式缺口环为两 个， 其中一个所述第六非封闭式缺口环的一端与另一个所述第六非封闭式缺口环的一端之 权利要求书 1/2 页 2 CN 210468053 U 2 间连接有串联设置的两个以上所述加长缺口段， 其中一个。

8、所述第六非封闭式缺口环的另一 端与另一个所述第六非封闭式缺口环的另一端之间连接有串联设置的两个以上所述加长 缺口段； 其中一个所述频率调试孔对应于所述介质块的其中一部分形成一个介质谐振器， 另一个所述频率调试孔对应于所述介质块的另一部分形成另一个介质谐振器， 所述加长缺 口段位于两个所述介质谐振器之间的部位。 10.根据权利要求8所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述加长缺口段为两个以上， 所述加长缺口段与所述第六非封闭式缺口环交替设置， 相邻两个所述第六非封闭式缺口环 之间通过所述加长缺口段相连。 11.根据权利要求8至10任意一项所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述第六非封 闭式。

9、缺口环为非封闭式缺口圆环， 所述加长缺口段为折线形缺口段、 圆弧形缺口段或波浪 形缺口段。 12.根据权利要求1至10任意一项所述的介质波导滤波器， 其特征在于， 所述容性耦合 通孔为直径保持不变的直通孔； 或者， 所述容性耦合通孔为锥型通孔； 或者， 所述容性耦合 通孔的其中一部分段为直径保持不变的直通孔， 另一部分段为锥型通孔； 或者， 所述介质块 的表面上绕所述容性耦合通孔的区域下沉， 所述封闭式缺口环设于所述介质块的表面上的 下沉区域。 13.一种通信装置， 其特征在于， 包括如权利要求1至12任意一项所述的介质波导滤波 器。 权利要求书 2/2 页 3 CN 210468053 U 。

10、3 通信装置及介质波导滤波器 技术领域 0001 本实用新型涉及滤波器技术领域， 特别是涉及一种通信装置及介质波导滤波器。 背景技术 0002 介质波导滤波器将传统波导滤波器的空气填充形式改进成高介电常数陶瓷材料 填充， 陶瓷介质材料起到传输信号和结构支撑的作用， 金属材料附着在瓷介质材料表面， 作 为电壁， 起到电磁屏蔽作用。 介质波导滤波器是一种采用介质波导谐振腔经过多级耦合而 取得选频作用的微波滤波器。 介质波导滤波器的表面覆盖着金属层， 电磁波被限制在介质 体内， 形成驻波振荡。 0003 传统的介质波导滤波器如图1所示， 介质波导滤波器包括介质体40， 介质体40上设 有两个谐振腔，。

11、 在两个谐振腔之间设有通孔42。 介质体40的外表面、 谐振腔的腔壁、 通孔42 的孔壁上设有金属层46。 一般地， 介质体40的金属层46上设有绕通孔42的开口部位周向设 置的环形缺口44， 通过调整环形缺口44的宽度D来相应调节容性耦合带宽的小。 当环形缺口 44的宽度D越小时， 容性耦合带宽越小。 然而， 实际运用中， 例如实现30MHZ的容性耦合带宽 时， 环形缺口44的宽度D只有大约0.15mm， 环形缺口44的宽度D太小， 现有工艺中达不到加工 目地。 即使能实现， 也相当容易造成短路风险， 几乎完全没有实用性， 生产难度较大， 生产效 率较低。 实用新型内容 0004 基于此， 。

12、有必要克服现有技术的缺陷， 提供一种通信装置及介质波导滤波器， 能够 在产品的容性耦合带宽较小时， 仍然能便于生产制造， 生产难度降低， 生产效率较高， 实用 性较高。 0005 其技术方案如下： 一种介质波导滤波器， 包括： 介质块， 所述介质块的其中一表面 上设有容性耦合通孔与间隔的两个频率调试孔， 所述容性耦合通孔位于两个所述频率调试 孔之间； 金属层， 所述金属层设于所述介质块的外表面， 以及设于所述容性耦合通孔与所述 频率调试孔的孔壁上， 所述介质块的表面的金属层上开设有非圆环状的封闭式缺口环， 所 述封闭式缺口环绕设于所述容性耦合通孔的外围。 0006 上述的介质波导滤波器， 相对。

13、于传统的在容性耦合通孔的外围绕设的圆环状的缺 口环， 非圆环状的封闭式缺口环具有更长的周长， 而周长越长时， 相应的容性耦合带宽越 小。 如此， 在针对于容性耦合带宽较小的介质波导滤波器的产品设计时， 采用上述的介质波 导滤波器， 通过调整非圆环状的封闭式缺口环的周长来使得容性耦合带宽符合要求， 无需 通过如传统地减小圆环状的缺口环的环宽D来减小耦合带宽， 非封闭式的封闭式缺口环的 环宽d可以做到更大的尺寸(例如0.4mm或0.6mm以上)， 便于设备生产加工， 生产效率较高， 也能避免由于环宽较小时的短路缺陷， 实用性较高。 0007 在其中一个实施例中， 所述封闭式缺口环包括两个以上非封闭。

14、式缺口环， 所述非 封闭式缺口环的端部依次连通围合成所述封闭式缺口环。 说明书 1/10 页 4 CN 210468053 U 4 0008 在其中一个实施例中， 所述非封闭式缺口环均绕所述容性耦合通孔设置。 0009 在其中一个实施例中， 所述非封闭式缺口环包括第一非封闭式缺口环、 第二非封 闭式缺口环及第三非封闭式缺口环， 所述第一非封闭式缺口环、 所述第二非封闭式缺口环 及所述第三非封闭式缺口环在远离于所述耦合通孔的方向上依次间隔设置。 0010 在其中一个实施例中， 所述第一非封闭式缺口环为两个， 所述第二非封闭式缺口 环为四个， 所述第三非封闭式缺口环为两个； 0011 所述第一非封。

15、闭式缺口环的两端分别与其中两个所述第二非封闭式缺口环的一 端对应连通， 其中两个所述第二非封闭式缺口环的另一端分别与两个所述第三非封闭式缺 口环的一端对应连通； 所述第一非封闭式缺口环、 所述第二非封闭式缺口环及所述第三非 封闭式缺口环配合形成所述封闭式缺口环。 0012 在其中一个实施例中， 所述第一非封闭式缺口环、 所述第二非封闭式缺口环及所 述第三非封闭式缺口环均为非封闭式缺口圆环； 两个所述第一非封闭式缺口环关于所述容 性耦合通孔的轴线对称设置， 四个所述第二非封闭式缺口环关于所述容性耦合通孔的轴线 对称设置， 两个所述第三非封闭式缺口环关于所述容性耦合通孔的轴线对称设置； 两个所 述。

16、第一非封闭式缺口环同轴设置， 四个所述第二非封闭式缺口环同轴设置， 两个所述第三 非封闭式缺口环同轴设置。 0013 在其中一个实施例中， 所述封闭式缺口环包括第一封闭式缺口环及一个以上第四 非封闭式缺口环； 所述第一封闭式缺口环与所述第四非封闭式缺口环相连通， 所述第一封 闭式缺口环绕所述容性耦合通孔的周向设置； 所述第四非封闭式缺口环绕设于所述第一封 闭式缺口环的外围； 或者， 0014 所述封闭式缺口环包括第二封闭式缺口环及一个以上第五非封闭式缺口环； 所述 第二封闭式缺口环与所述第五非封闭式缺口环相连通， 所述第二封闭式缺口环绕所述容性 耦合通孔的周向设置； 所述第五非封闭式缺口环设于。

17、所述第二封闭式缺口环与所述容性耦 合通孔之间的区域。 0015 在其中一个实施例中， 所述封闭式缺口环包括加长缺口段及两个以上第六非封闭 式缺口环， 两个以上所述第六非封闭式缺口环通过所述加长缺口段相连通并配合形成所述 封闭式缺口环。 0016 在其中一个实施例中， 所述第六非封闭式缺口环为两个， 其中一个所述第六非封 闭式缺口环的一端与另一个所述第六非封闭式缺口环的一端之间连接有串联设置的两个 以上所述加长缺口段， 其中一个所述第六非封闭式缺口环的另一端与另一个所述第六非封 闭式缺口环的另一端之间连接有串联设置的两个以上所述加长缺口段； 其中一个所述频率 调试孔对应于所述介质块的其中一部分形。

18、成一个介质谐振器， 另一个所述频率调试孔对应 于所述介质块的另一部分形成另一个介质谐振器， 所述加长缺口段位于两个所述介质谐振 器之间的部位。 0017 在其中一个实施例中， 所述加长缺口段为两个以上， 所述加长缺口段与所述第六 非封闭式缺口环交替设置， 相邻两个所述第六非封闭式缺口环之间通过所述加长缺口段相 连。 0018 在其中一个实施例中， 所述第六非封闭式缺口环为非封闭式缺口圆环， 所述加长 缺口段为折线形缺口段、 圆弧形缺口段或波浪形缺口段。 说明书 2/10 页 5 CN 210468053 U 5 0019 在其中一个实施例中， 所述容性耦合通孔为直径保持不变的直通孔； 或者， 。

19、所述容 性耦合通孔为锥型通孔； 或者， 所述容性耦合通孔的其中一部分段为直径保持不变的直通 孔， 另一部分段为锥型通孔； 或者， 所述介质块的表面上绕所述容性耦合通孔的区域下沉， 所述封闭式缺口环设于所述介质块的表面上的下沉区域。 0020 一种通信装置， 包括所述的介质波导滤波器。 0021 上述的通信装置， 由于包括所述的介质波导滤波器， 其技术效果由介质波导滤波 器带来， 有益效果与介质波导滤波器的相同， 不再赘述。 附图说明 0022 图1为传统的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0023 图2为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的仰视结构示意图； 0024 图3为图2在A-A处的。

20、一实施例的剖视结构示意图； 0025 图4为图2在A-A处的另一实施例的剖视结构示意图； 0026 图5为图2在A-A处的又一实施例的剖视结构示意图； 0027 图6为图2在A-A处的再一实施例的剖视结构示意图； 0028 图7为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0029 图8为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0030 图9为本实用新型另一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0031 图10为本实用新型另一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0032 图11为本实用新型又一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 003。

21、3 图12为本实用新型又一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0034 图13为本实用新型再一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0035 图14为本实用新型再一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0036 图15为本实用新型再一实施例所述的介质波导滤波器的俯视结构示意图； 0037 图16为传统的一实施例所述的介质波导滤波器的俯视示意图； 0038 图17为传统的一实施例所述的介质波导滤波器的S参数曲线图； 0039 图18为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器的俯视示意图； 0040 图19为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器(8腔双零点)中d为0.3m。

22、m时的 S参数曲线图； 0041 图20为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器(8腔双零点)中d为0.4mm时的 S参数曲线图； 0042 图21为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器(10腔双零点)的S参数曲线 图； 0043 图22为本实用新型一实施例所述的介质波导滤波器(10腔双零点)的S参数曲线 图。 0044 附图标记： 0045 10、 介质块； 11、 容性耦合通孔； 12、 频率调试孔； 13、 下沉区域； 20、 金属层； 21、 主体 层； 211、 开口区； 212、 凹部； 22、 第一金属条； 23、 第一连接条； 24、 第二金属条； 25、 第二连接 条； 2。

23、51、 第一边界线； 252、 第二边界线； 26、 金属环； 27、 第三金属条； 28、 第三连接条； 29、 凸 说明书 3/10 页 6 CN 210468053 U 6 部； 30、 封闭式缺口环； 31、 第一非封闭式缺口环； 32、 第二非封闭式缺口环； 33、 第三非封闭 式缺口环； 34、 第一封闭式缺口环； 35、 第四非封闭式缺口环； 36、 第二封闭式缺口环； 37、 第 五非封闭式缺口环； 38、 加长缺口段； 39、 第六非封闭式缺口环。 具体实施方式 0046 为使本实用新型的上述目的、 特征和优点能够更加明显易懂， 下面结合附图对本 实用新型的具体实施方式做详细。

24、的说明。 在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分 理解本实用新型。 但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施， 本领域 技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进， 因此本实用新型不受下面公 开的具体实施例的限制。 0047 在本实用新型的描述中， 需要理解的是， 术语 “第一” 、“第二” 仅用于描述目的， 而 不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。 由此， 限定有 “第一” 、“第二” 的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。 在本实用新型的描述中， “多个” 的含义是至少两个， 例如两个， 三个等， 除非另有明确具体的限定。 0。

25、048 在本实用新型的描述中， 需要理解的是， 当一个元件被认为是 “连接” 另一个元件， 可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在中间元件。 相反， 当元件为称作 “直接” 与 另一元件连接时， 不存在中间元件。 0049 在一个实施例中， 请参阅图2至图15， 一种介质波导滤波器， 包括介质块10与金属 层20。 所述介质块10的其中一表面上设有容性耦合通孔11与间隔的两个频率调试孔12。 所 述容性耦合通孔11位于两个所述频率调试孔12之间。 所述金属层20设于所述介质块10的外 表面， 以及设于所述容性耦合通孔11与所述频率调试孔12的孔壁上。 所述介质块10的表面 的金属层20上开。

26、设有非圆环状的封闭式缺口环30。 所述封闭式缺口环30绕设于所述容性耦 合通孔11的外围。 0050 需要说明的是， 封闭式缺口环30包括圆环状的缺口环(例如图1所示意的环形缺口 44)， 及非圆环状的缺口环。 非圆环状的缺口环指的是， 封闭式缺口环30中圆环状的缺口环 以外的图案， 包括例如图6至图14所示意出的图案， 还包括例如在多边形环(三角形环、 方形 环、 五边形环等等)的基础上增加连通有一个以上非封闭式的缺口环， 以及也可以在例如圆 环状的缺口环的基础上增加连通有一个以上非封闭式的缺口环， 还包括如图12图14有多 段缺口(各段缺口可以呈弧形、 直线形、 波浪形等)依次连通形成的不。

27、规则形状环。 0051 封闭式缺口环30处的金属层20通过移除的方式露出介质块10的壁面， 当然， 介质 块10对应于封闭式缺口环30的壁面也可以不进行电镀或喷涂金属层20， 从而露出介质块10 的壁面。 0052 需要解释的是， 封闭式的封闭式缺口环30的两端相互连通， 能实现容性耦合通孔 11的一端侧壁对应的金属层20与介质块10的表面上的金属层20完全相互隔断。 相反， 非封 闭式的封闭式缺口环设有相对的两端， 非封闭式的封闭式缺口环30的相对两端之间有间 隔， 并没有相互连通， 该间隔处的金属层20将容性耦合通孔11的一端侧壁对应的金属层20 与介质块10的表面上的金属层20电性连接。。

28、 0053 需要解释的是， 封闭式缺口环30的两端相互连通， 能实现容性耦合通孔11的一端 侧壁对应的金属层20与介质块10的表面上的金属层20完全相互隔断。 相反， 非封闭式缺口 说明书 4/10 页 7 CN 210468053 U 7 环设有相对的两端， 非封闭式缺口环的相对两端之间有间隔， 并没有相互连通。 0054 需要解释的是， 非封闭式缺口圆环指的是圆环状的缺口环(例如图1所示意的环形 缺口44)的其中一段。 0055 上述的介质波导滤波器， 相对于传统的在容性耦合通孔11的外围绕设的圆环状的 缺口环， 非圆环状的封闭式缺口环30具有更长的周长， 而周长越长时， 相应的容性耦合带。

29、宽 越小。 如此， 在针对于容性耦合带宽较小的介质波导滤波器的产品设计时， 采用上述的介质 波导滤波器， 通过调整非圆环状的封闭式缺口环30的周长来使得容性耦合带宽符合要求， 无需通过如传统地减小圆环状的缺口环的环宽D来减小耦合带宽， 非封闭式的封闭式缺口 环30的环宽d可以做到更大的尺寸(例如0.4mm或0.6mm以上)， 便于设备生产加工， 生产效率 较高， 也能避免由于环宽较小时的短路缺陷， 实用性较高。 0056 在一个实施例中， 请参阅图7与图8， 所述封闭式缺口环30包括两个以上非封闭式 缺口环。 所述非封闭式缺口环的端部依次连通围合成所述封闭式缺口环30。 0057 进一步地， 。

30、所述非封闭式缺口环均绕所述容性耦合通孔11设置。 0058 进一步地， 所述非封闭式缺口环包括第一非封闭式缺口环31、 第二非封闭式缺口 环32及第三非封闭式缺口环33， 所述第一非封闭式缺口环31、 所述第二非封闭式缺口环32 及所述第三非封闭式缺口环33在远离于所述耦合通孔的方向上依次间隔设置。 0059 如此， 非封闭式缺口环的排布较为紧凑， 能在小面积区域布置， 可以例如布置在两 个介质谐振器之间的部位， 去金属化(去银层)的区域尽量不放在有效腔的区域， 从而能减 小插损损坏， 对插损影响较小。 0060 在一个具体实施例中， 请参阅图7与图8， 所述第一非封闭式缺口环31为两个， 所。

31、述 第二非封闭式缺口环32为四个， 所述第三非封闭式缺口环33为两个。 所述第一非封闭式缺 口环31的两端分别与其中两个所述第二非封闭式缺口环32的一端对应连通， 其中两个所述 第二非封闭式缺口环32的另一端分别与两个所述第三非封闭式缺口环33的一端对应连通； 所述第一非封闭式缺口环31、 所述第二非封闭式缺口环32及所述第三非封闭式缺口环33配 合形成所述封闭式缺口环30。 0061 在一个实施例中， 所述第一非封闭式缺口环31、 所述第二非封闭式缺口环32及所 述第三非封闭式缺口环33均为非封闭式缺口圆环。 两个所述第一非封闭式缺口环31关于所 述容性耦合通孔11的轴线对称设置， 四个所述。

32、第二非封闭式缺口环32关于所述容性耦合通 孔11的轴线对称设置， 两个所述第三非封闭式缺口环33关于所述容性耦合通孔11的轴线对 称设置。 两个所述第一非封闭式缺口环31同轴设置， 四个所述第二非封闭式缺口环32同轴 设置， 两个所述第三非封闭式缺口环33同轴设置。 0062 如此， 封闭式缺口环30的形状较为规整， 能便于批量化加工生产， 降低生产难度， 提高生产效率。 0063 作为一个具体示例， 请参阅图7与图8， 所述介质块10的表面的金属层20包括主体 层21、 两个第一金属条22、 两个第一连接条23、 两个第二金属条24及两个第二连接条25。 所 述主体层21设有绕所述容性耦合通。

33、孔11的开口区211。 所述第一金属条22、 所述第一连接条 23、 所述第二金属条24及所述第二连接条25均位于所述开口区211。 0064 两个所述第一金属条22分别绕设于所述容性耦合通孔11的孔口的相对两侧， 两个 所述第一金属条22的端部间隔设置， 两个所述第二金属条24分别绕设于所述容性耦合通孔 说明书 5/10 页 8 CN 210468053 U 8 11的孔口的相对两侧， 两个所述第二金属条24的端部间隔设置。 0065 两个所述第一金属条22与两个所述第一连接条23对应设置， 所述第一金属条22的 中部部位通过所述第一连接条23穿过两个所述第二金属条24的端部之间的间隔后与所。

34、述 主体层21相连。 0066 两个所述第二金属条24与两个所述第二连接条25对应设置， 所述第二金属条24的 中部部位通过所述第二连接条25穿过两个所述第一金属条22的端部之间的间隔后与所述 容性耦合通孔11的孔壁的金属层20电性连接。 0067 两个所述第二金属条24、 两个所述第一连接条23及所述开口区211的口壁配合形 成两个第一非封闭式缺口环31。 两个所述第一金属条22、 两个所述第二金属条24、 两个所述 第一连接条23及两个所述第二连接条25配合形成四个第二非封闭式缺口环32。 两个所述第 一金属条22、 两个所述第二连接条25及容性耦合通孔11的口壁配合形成两个第三非封闭式 。

35、缺口环33。 0068 所述第一非封闭式缺口环31的两端分别与其中两个所述第二非封闭式缺口环32 的一端对应连通， 其中两个所述第二非封闭式缺口环32的另一端分别与两个所述第三非封 闭式缺口环33的一端对应连通。 所述第一非封闭式缺口环31、 所述第二非封闭式缺口环32 及所述第三非封闭式缺口环33配合形成所述封闭式缺口环30。 0069 进一步地， 请参阅图7与图8， 所述第一金属条22与所述第二金属条24均为与所述 容性耦合通孔11同轴设置的弧形条， 所述第一金属条22的圆弧半径小于所述第二金属条 24。 两个所述第一金属条22关于所述容性耦合通孔11的轴心线对称设置， 两个所述第二金 属。

36、条24关于所述容性耦合通孔11的轴心线对称设置。 如此， 封闭式缺口环30的结构对称且 规则， 能便于批量化加工生产， 降低生产难度， 提高生产效率。 0070 进一步地， 请参阅图8， 所述第二连接条25为扇形状， 所述第二连接条25的其中一 侧边到所述容性耦合通孔11的轴线的连线为第一边界线251， 所述第二连接条25的另一侧 边到所述容性耦合通孔11的轴线的连线为第二边界线252。 所述第一边界线251与所述第二 边界线252之间的夹角为a， 且0 a180 。 如此， 可以通过调节第一边界线251与第二边界线 252之间的夹角a， 以改变第二非封闭式缺口环32与第三非封闭式缺口环33的。

37、长度， 进而能 相应改变封闭式缺口环30的周长， 以对容性耦合带宽进行调节， a角度发生变化时， 容性耦 合带宽的宽与窄相应发生变化。 具体而言， 当a增大时， 封闭式缺口环30的周长变小， 相应的 容性耦合带宽变大。 其中， a可以为30 、 45 、 60 、 95 、 120 或其他用于对容性耦合带宽进行 调节的角度。 0071 进一步地， 请参阅图7与图8， 所述介质块10的表面的金属层20还包括绕所述容性 耦合通孔11周向设置的金属环26。 所述金属环26与所述容性耦合通孔11的孔壁的金属层20 电性连接， 所述金属环26还与所述第二连接条25电性连接。 如此， 金属环26设于容性耦。

38、合通 孔11的外围， 相当于参照物， 加工过程中以参照物为基准对参照物以外的区域的金属层20 进行蚀刻处理， 能避免加工过程中将金属环26以内的区域(也就是容性耦合通孔11的孔壁 处)的金属层20蚀刻掉， 从而保证生产效率及产品质量。 可选地， 金属环26也可以完全移除 掉。 0072 在另一个实施例中， 所述封闭式缺口环30包括第一封闭式缺口环34及一个以上第 四非封闭式缺口环35； 所述第一封闭式缺口环34与所述第四非封闭式缺口环35相连通， 所 说明书 6/10 页 9 CN 210468053 U 9 述第一封闭式缺口环34绕所述容性耦合通孔11的周向设置； 所述第四非封闭式缺口环35。

39、绕 设于所述第一封闭式缺口环34的外围。 0073 具体而言， 第一封闭式缺口环34例如为封闭式缺口圆环， 第四非封闭式缺口环35 例如为非封闭式缺口圆环。 此外， 第四非封闭式缺口环35例如为一个、 两个、 三个、 四个、 五 个或其它数量。 0074 作为一个具体示例， 请参阅图2、 图9与图10， 所述介质块10的表面的金属层20包括 主体层21、 两个以上第三金属条27及两个以上第三连接条28。 所述主体层21设有绕所述容 性耦合通孔11的开口区211， 所述第三金属条27与所述第三连接条28均位于所述开口区 211。 0075 两个以上所述第三金属条27依次间隔地绕所述容性耦合通孔1。

40、1的周向设置， 两个 以上所述第三金属条27与两个以上所述第三连接条28一一对应设置， 所述第三金属条27的 中部部位通过所述第三连接条28与所述主体层21相连。 0076 两个以上所述第三金属条27与所述容性耦合通孔11的口壁配合形成第一封闭式 缺口环34， 两个以上所述第三金属条27、 两个以上所述第三连接条28及所述开口区211的口 壁配合形成两个以上第四非封闭式缺口环35， 所述第四非封闭式缺口环35与所述第一封闭 式缺口环34相连通并配合形成所述封闭式缺口环。 0077 具体而言， 所述介质块10的表面的金属层20还包括绕所述容性耦合通孔11周向设 置的金属环26， 两个以上所述第三。

41、金属条27依次间隔地绕所述金属环26的周向设置。 如此， 金属环26设于容性耦合通孔11的外围， 相当于参照物， 避免加工过程中将金属环26以内的 区域(也就是容性耦合通孔11的孔壁处)的金属层20蚀刻掉， 从而保证生产效率及产品质 量。 可选地， 金属环26也可以完全移除掉。 0078 在又一个实施例中， 请参阅图2、 图11与图12， 所述封闭式缺口环30包括第二封闭 式缺口环36及一个以上第五非封闭式缺口环37； 所述第二封闭式缺口环36与所述第五非封 闭式缺口环37相连通， 所述第二封闭式缺口环36绕所述容性耦合通孔11的周向设置； 所述 第五非封闭式缺口环37设于所述第二封闭式缺口环。

42、36与所述容性耦合通孔11之间的区域。 0079 具体而言， 第二封闭式缺口环36例如为封闭式缺口圆环， 第五非封闭式缺口环37 例如为非封闭式缺口圆环。 此外， 第五非封闭式缺口环37例如为一个、 两个、 三个、 四个、 五 个或其它数量。 0080 具体而言， 所述介质块10的表面的金属层20包括主体层21、 两个以上第三金属条 27及两个以上第三连接条28。 所述主体层21设有绕所述容性耦合通孔11的开口区211， 所述 第三金属条27与所述第三连接条28均位于所述开口区211。 0081 两个以上所述第三金属条27依次间隔地绕所述容性耦合通孔11的周向设置， 两个 以上所述第三金属条2。

43、7与两个以上所述第三连接条28一一对应设置， 所述第三金属条27的 中部部位通过所述第三连接条28与所述容性耦合通孔11的孔壁的金属层20相连。 0082 两个以上所述第三金属条27与所述开口区211的口壁配合形成第二封闭式缺口环 36， 两个以上所述第三金属条27、 两个以上所述第三连接条28及所述容性耦合通孔11的口 壁配合形成两个以上第五非封闭式缺口环37。 所述第五非封闭式缺口环37与所述第二封闭 式缺口环36相连通并配合形成所述封闭式缺口环30。 0083 具体而言， 同样地， 介质块10的表面的金属层20还包括绕所述容性耦合通孔11周 说明书 7/10 页 10 CN 210468。

44、053 U 10 向设置的金属环26。 原理与上述实施例的相类似， 不再赘述。 0084 进一步地， 请参阅图9到图12， 图9与图11示意出的第三金属条27均为3个， 图10与 图12示意出的第三金属条27均为4个。 所述第三金属条27为与所述容性耦合通孔11同轴设 置的弧形条， 所述第三金属条27为两个、 三个、 四个、 五个或其它数量。 0085 在再一个实施例中， 请参阅图2、 图13至图15， 所述封闭式缺口环30包括加长缺口 段38及两个以上第六非封闭式缺口环39， 两个以上所述第六非封闭式缺口环39通过所述加 长缺口段38相连通并配合形成所述封闭式缺口环30。 0086 在一个实。

45、施例中， 所述第六非封闭式缺口环39为两个， 其中一个所述第六非封闭 式缺口环39的一端与另一个所述第六非封闭式缺口环39的一端之间连接有串联设置的两 个以上所述加长缺口段38， 其中一个所述第六非封闭式缺口环39的另一端与另一个所述第 六非封闭式缺口环39的另一端之间连接有串联设置的两个以上所述加长缺口段38； 其中一 个所述频率调试孔12对应于所述介质块10的其中一部分形成一个介质谐振器， 另一个所述 频率调试孔12对应于所述介质块10的另一部分形成另一个介质谐振器， 所述加长缺口段38 位于两个所述介质谐振器之间的部位。 0087 进一步地， 所述加长缺口段38为两个以上， 所述加长缺口。

46、段38与所述第六非封闭 式缺口环39交替设置， 相邻两个所述第六非封闭式缺口环39之间通过所述加长缺口段38相 连。 0088 进一步地， 所述第六非封闭式缺口环39为非封闭式缺口圆环， 所述加长缺口段38 为折线形缺口段、 圆弧形缺口段或波浪形缺口段。 0089 作为一个具体示例， 所述介质块10的表面的金属层20包括主体层21与一个以上凸 部29。 所述主体层21设有绕所述容性耦合通孔11的开口区211， 所述凸部29与所述容性耦合 通孔11的孔壁的金属层20相连。 所述开口区211的口壁设有用于避让所述凸部29的凹部 212。 所述凸部29与所述凹部212之间形成有加长缺口段38， 所述。

47、开口区211的口壁与所述容 性耦合通孔11的孔壁之间形成有两个以上第六非封闭式缺口环39。 所述第六非封闭式缺口 环39通过所述加长缺口段38相连通并配合形成所述封闭式缺口环30。 0090 如此， 加长缺口段38能使得封闭式缺口环30的周长大于传统的环形缺口44的周 长， 从而一定程度地能减小容性耦合带宽， 无需通过减小加长缺口段38的宽度d、 以及减小 第六非封闭式缺口环39的宽度d来减小容性耦合带宽。 此外， 通过控制凸部29的长度来相应 调控加长缺口段38的长度， 从而来调整容性耦合带宽。 另外， 也可以通过控制凸部29的数量 来相应调控封闭式缺口环30的周长， 当凸部29的数量越多时。

48、， 相应的加长缺口段38的长度 越长， 封闭式缺口环30的周长便越长， 容性耦合带宽则越小。 0091 具体而言， 同样地， 介质块10的表面的金属层20还包括绕所述容性耦合通孔11周 向设置的金属环26， 金属环26与凸部29电性相连。 原理与上述实施例的相类似， 不再赘述。 0092 进一步地， 请参阅图14， 所述容性耦合通孔11的孔壁的其中一侧间隔地设有若干 个凸部29， 所述容性耦合通孔11的孔壁的另一侧间隔地设有若干个凸部29。 其中一个所述 频率调试孔12对应于所述介质块10的其中一部分形成一个介质谐振器， 另一个所述频率调 试孔12对应于所述介质块10的另一部分形成另一个介质谐。

49、振器， 所述凸部29位于两个所述 介质谐振器之间的部位。 如此， 一方面， 采用封闭式缺口环30的周长较长， 有利于减小容性 耦合带宽； 另一方面， 去金属化(去银层)的区域尽量不放在有效腔的区域， 从而能减小插损 说明书 8/10 页 11 CN 210468053 U 11 损坏， 对插损影响较小。 0093 进一步地， 请参阅图15， 所述容性耦合通孔11的孔壁外围等间隔地布设若干个凸 部29。 如此， 凸部29越多时， 能实现封闭式缺口环30的周长较长， 从而有利于减小容性耦合 带宽。 例如图14中示意的凸部29为9个， 9个凸部29间隔地设置， 并分别对应位于9个凹部212 中， 整。

50、体呈齿轮状。 0094 需要说明的是， 封闭式缺口环30可以是规则的， 或不规则的图案， 可以是对称的图 案， 也可以是不对称的图案。 0095 在一个实施例中， 请参阅图2至图6， 所述容性耦合通孔11为直径保持不变的直通 孔； 或者， 所述容性耦合通孔11为锥型通孔； 或者， 所述容性耦合通孔11的其中一部分段为 直径保持不变的直通孔， 另一部分段为锥型通孔； 或者， 所述介质块10的表面上绕所述容性 耦合通孔11的区域下沉， 所述封闭式缺口环30设于所述介质块10的表面上的下沉区域13。 容性耦合通孔11的具体形状有很多种， 可以任意变化， 也不限制于图2至图6所示的形状， 还 可以为其。