光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法.pdf

本发明提供了一种光酸产生剂、共聚物、化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。所述光酸与所述共聚物的主链有联系，借此，所述光酸被等同地分散在抗蚀剂层内部，且抗蚀剂图形的线边缘粗糙度的特性被提高。

1.  一种由化学式1表示的光酸产生剂，
[化学式1]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。

2.  如权利要求1所述的光酸产生剂，其中，所述光酸产生剂通过由化学式3表示的化合物和由化学式4表示的盐的合成反应来获取，
[化学式3]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基；和
[化学式4]

其中，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物。

3.  一种用于化学放大型抗蚀剂组合物的共聚物，其中，由下列化学式1表示的光酸产生剂与所述共聚物的主链有联系，
[化学式1]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C ₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。

4.  如权利要求3所述的共聚物，其中，所述共聚物包括含有所述光酸产生剂的重复单元。

5.  如权利要求3所述的共聚物，其中，所述共聚物进一步包括含有酸不稳定基的重复单元、含有内酯环的重复单元和含有羟基的重复单元中的至少一个。

6.  如权利要求3所述的共聚物，其中，用于化学放大型抗蚀剂组合物的所述共聚物用化学式5来表示，
[化学式5]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，
R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，
R₄、R₅和R₆分别是氢原子或者是含有或不含有醚基、酯基、羰基、缩醛基、环氧基、腈基或醛基的C₁-C₃₀烷基，
R₇、R₈和R₉分别是氢原子、甲基或三氟甲基，
X₂是烯烃、乙烯基、苯乙烯，或其衍生物，
a、b、c、d和e分别满足0.01≤a/(a+b+c+d+e)＜0.4；0.01＜b/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01＜c/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤d/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤e/(a+b+c+d+e)＜0.15，
且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。

7.  如权利要求3所述的共聚物，其中，用于化学放大型抗蚀剂的所述共聚物由任意一个下述化学式的共聚物所表示，





其中，a、b、c、d和e分别满足0.01≤a/(a+b+c+d+e)＜0.4；0.01＜b/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01＜c/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤d/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤e/(a+b+c+d+e)＜0.15。

8.  如权利要求3所述的共聚物，其中，所述共聚物具有500到100000的重量平均分子量Mw。

9.  一种含有共聚物和溶剂的化学放大型抗蚀剂组合物，其中由下列化学式1表示的光酸产生剂与所述共聚物的主链有联系，
[化学式1]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。

10.  如权利要求9所述的化学放大型抗蚀剂组合物，其中，所述共聚物通过含有所述光酸产生剂的单体的聚合作用被合成，且相对于100份按重量的所述化学放大型抗蚀剂组合物的总固体来说，0.5份到15份按重量的所述光酸产生剂根据上述聚合作用被使用。

11.  如权利要求9所述的化学放大型抗蚀剂组合物，其中，所述共聚物的数量相对于所述化学放大型抗蚀剂组合物的总量来说，为3wt.％到20wt.％。

12.  一种使用含有共聚物和溶剂的化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法，所述方法包括：
用含有所述共聚物和溶剂的化学放大型抗蚀剂组合物涂层衬底，其中所述共聚物的主链和由下列化学式1表示的光酸产生剂有联系，和干燥上述被涂层的组合物以来形成一个抗蚀剂层；
选择性地曝光上述抗蚀剂层；和
显影上述被曝光的抗蚀剂层，
[化学式1]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。

13.  如权利要求12所述的方法，其中，用于曝光的光源是从KrF准分子激光、ArF准分子激光、极紫外光EUV、X射线和和电子束中选择的任意一种光源。

14.  如权利要求12所述的方法，其中，用于上述曝光的光源的光波长为180纳米nm到250纳米nm。

光酸产生剂、共聚物、抗蚀剂组合物及使用所述抗蚀剂组合物形成图形的方法
对相关申请的引用
本申请要求于2008年9月30日在韩国特许厅提交的韩国专利申请号为10-2008-0096224的权益，通过引用将其全部结合到本申请中。
技术领域
本发明涉及半导体制造，更具体地说，涉及在制造半导体中被使用的光酸产生剂(PAG：Photoacid generator)、共聚物(copolymer)、化学放大型抗蚀剂组合物(chemically resist composition)及使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。
背景技术
当前，提供在半导体中的通过50纳米(nm)或更小的形成各种图形线宽的技术已经被发展起来。由于形成超细图形的技术很难，因此抗蚀剂组合物特性的提高和曝光装置性能的提高是需要的。
在这些抗蚀剂组合物中，化学放大型抗蚀剂组合物通常包括光酸产生剂、共聚物、溶剂和各种添加剂(additive)。然而，根据现有发明，当抗蚀剂层使用化学放大型抗蚀剂组合物被形成在衬底上的时候，PAG可以不被等同地分散在抗蚀剂层内部。在这点上，抗蚀剂图形的线边缘粗糙度的特性能被恶化，且因此在形成超细图形中会遇到困难。
且，丙烯酸共聚物(acrylic copolymer)通常可以被用做上述共聚物，然而，相对于干式等离子的抗蚀剂图形的抗蚀刻阻性由于丙烯酸共聚物的大量氧原子会被减弱。为了克服这个问题，抗蚀剂图形的厚度要求被增大，然而，在增大抗蚀剂图形的时候，其形状会被损坏或变形。
发明内容
本发明的一个方面提供了一种在半导体制造过程中等同地分散在形成于衬底上的抗蚀剂层内部的光酸产生剂PAG、含有所述PAG的共聚物、含有所述共聚物的化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。
本发明的一个方面也提供了一种在半导体制造过程中能提高形成于衬底上的抗蚀剂图形的线边缘粗糙度特性的PAG、含有所述PAG的共聚物、含有所述共聚物的化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。
本发明的一个方面进一步提供了一种在半导体制造过程中能提高形成于衬底上的抗蚀剂图形的抗蚀刻阻性的PAG、含有所述PAG的共聚物、含有所述共聚物的化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。
本发明的一个方面还提供了一种在半导体制造过程中能使形成于衬底上的抗蚀剂层能具有高的感光度、高的热稳定性、与衬底有关的高粘结强度、与曝光有关的高透明度且抗蚀剂图形具有高的解析度的PAG、含有所述PAG的共聚物、含有所述共聚物的化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法。
根据本发明的一个方面，提供了一种PAG，由化学式1表示，
[化学式1]

其中，R₁是一个氢原子(a hydrogen atom)、三氟甲基(trifluoromethylgroup)、C₁-C₅烷基(alkyl group)或C₁-C₅烷氧基(alkoxy group)，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基(aryl group)、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基(perfluoroalkyl group)、苄基(benzyl group)或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基(hydrocarbon group)、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基(hydroxy alkyl group)或氰基(cyano group)，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基(ether group)、酯基(ester group)、羰基(carbonyl group)、缩醛基(acetal group)、腈基(nitrile group)、氰基(cyano group)、羟基(hydroxygroup)、羧基(carboxyl group)或醛基(aldehyde group)所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子(nitrogen atom)、硫原子(sulfur atom)或氧原子(oxygen atom)，且m是0到2的正整数。
在这种情况下，根据本发明的示例性实施例的共聚物可以是化学放大型抗蚀剂组合物，且由化学式1表示的所述PAG可以与共聚物的主链有联系。
且，根据本发明的示例性实施例的化学放大型抗蚀剂组合物可以包含共聚物和溶剂，且由化学式1表示的所述PAG可以与共聚物的主链有联系。
根据本发明的另外一个方面，提供了一种形成图形的方法，所述方法包括：用含有所述共聚物和溶剂的化学放大型抗蚀剂组合物涂层衬底，其中所述共聚物的主链和由下列化学式1表示的光酸产生剂有联系，和干燥上述被涂层的组合物以来形成一个抗蚀剂层；选择性地曝光上述抗蚀剂层；和显影上述被曝光的抗蚀剂层。
本发明的其他方面、特性和/或优势将在随后的描述中进行介绍，且，在某种程度上在描述中将会变得很明显，或可以通过本发明的实践被掌握。
附图说明
通过结合下面的附图，本发明的示例性实施例的上述和其他方面的特征从本发明的下述具体示例性实施例的详细描述中将会变得更加清楚和容易理解，其中：
图1是示出根据合成示例1获取的化学物的1H-NMR光谱；
图2是示出根据合成示例2获取的盐的1H-NMR光谱；
图3是示出根据合成示例3获取的盐的1H-NMR光谱；
图4是示出根据合成示例4获取的盐的1H-NMR光谱；
图5是示出根据合成示例5获取的盐的1H-NMR光谱；
图6是示出根据合成示例7获取的盐的1H-NMR光谱；
图7是示出根据合成示例8获取的盐的1H-NMR光谱；
图8是示出根据合成示例9获取的盐的1H-NMR光谱；
图9是示出根据合成示例10获取的盐的1H-NMR光谱；
图10是示出根据合成示例11获取的盐的1H-NMR光谱；
图11是示出根据合成示例12获取的盐的1H-NMR光谱；
图12是示出根据合成示例13获取的盐的1H-NMR光谱；
图13是示出根据合成示例14获取的盐的1H-NMR光谱；
图14是示出根据合成示例15获取的盐的1H-NMR光谱；
图15是示出根据合成示例15获取的盐的凝胶渗透色谱(GPC：GelPermeation Chromatography)数据的图表；
图16是示出根据合成示例16获取的共聚物的1H-NMR光谱；
图17是示出根据合成示例17获取的共聚物的1H-NMR光谱；
图18是示出根据合成示例17获取的共聚物的GPC数据的图表；
图19是示出根据合成示例18获取的共聚物的1H-NMR光谱；
图20是示出根据合成示例18获取的共聚物的GPC数据的图表；
图21是示出根据合成示例19获取的共聚物的1H-NMR光谱；
图22是示出根据合成示例19获取的共聚物的GPC数据的图表；
图23是示出根据合成示例20获取的共聚物的1H-NMR光谱；
图24是示出根据合成示例20获取的共聚物的GPC数据的图表；
图25是示出根据合成示例21获取的共聚物的1H-NMR光谱；
图26是示出根据合成示例21获取的共聚物的GPC数据的图表；
图27是示出根据合成示例22获取的共聚物的1H-NMR光谱；和
图28是示出根据合成示例22获取的共聚物的GPC数据的图表。
具体实施方式
如下将对本发明的示例性实施例进行详细的说明，其示例将结合附图进行描述，其中相同的参考数字表示相同的元素。通过参考所述示图将在如下对示例性实施例进行描述以来说明本发明。
根据本发明的一个示例性实施例，光酸产生剂(PAG)、含有所述PAG的共聚物、含有所述共聚物的化学放大型抗蚀剂组合物和使用所述化学放大型抗蚀剂组合物形成图形的方法将在此进行具体的描述。
根据本发明的示例性实施例的所述PAG由化学式1表示，
[化学式1]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。
根据本发明的示例性实施例的所述PAG可以通过由化学式3表示的化合物和由化学式4表示的盐的合成反应来获取，
[化学式3]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基；和
[化学式4]

其中，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，且A-是由化学式2表示的化合物。
由化学式2所表示的盐，例如，可以通过如下化学式5表示的盐和如下化学式6表示的盐之间的合成反应而被获取，但本发明并不局限于此，且因此多种的化学物和/或盐是可适用的。如下化学式5表示的盐和如下化学式6表示的盐之间的合成反应可以在反应物溶解在反应溶剂后在0℃到100℃的温度中在基本催化剂(catalyst)下进行。在此，反应溶剂不是特殊地被限制，例如，二氯甲烷(MC：methylene chloride)、三氯甲烷(chloroform)、二氯乙烷(dichloroethane)、氯甲烷(acetonitrile)、甲苯(toluene)等可以单独或两个或多个结合起来被用做所述反应溶剂。且，基本催化剂不是特殊地被限制，例如，三乙胺(triethylamine)、二乙胺(diethylamine)、吡啶(pyridine)、二异丙基胺(diethyl isopropyl amine)、N，N-二甲氨基吡啶(N，N-dimethyl amino pyridine)等可以单独或两个或多个结合起来被用做所述基本催化剂。
[化学式5]

其中，M是锂原子(lithium atom)、钠原子(sodium atom)或钾原子(potassium atom)。
[化学式6]

其中，X₂是单环或多环的C₃-C₂₀烃基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R₆是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。
此外，由化学式5所表示的盐，例如，可以通过使用如下化学式7表示的盐的合成反应被制造。首先，由下列化学式7表示的盐被溶解在反应溶剂中，例如四氢呋喃(tetrahydrofuran)、甲醇(methanol)、乙醇(ethanol)、丙醇(propanol)等，且硼氢化钠NaBH₄(sodium borohydride)在冰浴下逐渐下滴。然后，反应混合液在60℃油浴下搅拌大约4个小时，且用蒸馏水淬灭来移除上述反应溶剂。接着，反应溶剂被移除的反应混合液用蒸馏水来溶解，且利用浓盐酸(concentrated HCl)来酸化直至反应混合液的PH值变为5到6。然后，反应混合液被浓缩，甲醇被添加到浓缩混合液中以来形成浆体(slurry)，然后此浆体被过滤。接着，滤液使用乙烷(hexane)被洗净、浓缩、使用乙醚(diethyl ether)被结晶，且然后被过滤和干燥来制造由上述化学式5所表示的盐。
[化学式7]

其中，R₁是一个氢原子、甲基、三氟甲基、三氯甲基(trichloromethylgroup)、三溴甲基(tribromomethyl group)或三碘甲基(triiodomethylgroup)，且M是锂原子、钠原子或钾原子。
此外，根据示例性实施例的用于化学放大型抗蚀剂组合物的共聚物的主链可以与PAG相联系。所述PAG可以用含有PAG的重复单元类型与共聚物的主链相联系，然而，本发明的示例性实施例并不局限于此。如需要，所述共聚物进一步可以包括至少一个含有酸不稳定基的重复单元、含有内酯环的重复单元和含有羟基的重复单元。
根据示例性实施例的所述共聚物，例如，可以由化学式8表示，
[化学式8]

其中，R₁是一个氢原子、三氟甲基、C₁-C₅烷基或C₁-C₅烷氧基，R₂和R₃分别是线性或支化型C₁-C₂₀烷基、芳基、线性或支化型C₁-C₂₀全氟化烷基、苄基或C₆-C₂₀芳基，R₄、R₅和R₆分别是氢原子或者是含有或不含有醚基、酯基、羰基、缩醛基、环氧基、腈基或醛基的C₁-C₃₀烷基，R₇、R₈和R₉分别是氢原子、甲基或三氟甲基，X₂是烯烃、乙烯基、苯乙烯，或其衍生物，a、b、c、d和e分别满足0.01≤a/(a+b+c+d+e)＜0.4；0.01＜b/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01＜c/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤d/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤e/(a+b+c+d+e)＜0.15，且A-是由化学式2表示的化合物，
[化学式2]

其中，X₁是单环或多环的C₃-C₂₀烃基、苄基、C₆-C₂₀芳基、C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、C₁-C₁₀羟烷基或氰基，所述单环或多环的C₃-C₂₀烃基中的至少一个氢原子被或不被醚基、酯基、羰基、缩醛基、腈基、氰基、羟基、羧基或醛基所取代，R是C₁-C₁₀烷基、C₁-C₁₀烷氧基、氮原子、硫原子或氧原子，且m是0到2的正整数。
所述共聚物可以是嵌段共聚物(Block copolymer)、无规共聚物(randomcopolymer)或接枝共聚物(graft copolymer)。所述共聚物通过含有PAG的单体的聚合作用可以被合成，且聚合作用的方法不是被特别限制的，然而，例如，游离基聚合(radical polymerization)可以被使用。偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)、过氧化二苯甲酰(BPO：benzoyl peroxide)、月桂基过氧化物(lauryl peroxide)、偶氮二异己腈(AIBN：azobisisocapronitrile)、偶氮二异戊腈(AIBN：azobisisovaleronitrile)、叔丁基过氧化氢(tert-butyl hydroperoxide)等可以被单独或两个或多个结合在一起用作为游离基聚合的引发剂。聚合反应可以通过从本体反应(bulkpolymerization)、溶液反应(solution polymerization)、悬浮反应(suspension polymerization)、本体-悬浮反应(bulk-suspensionpolymerization)和乳液反应(emulsion polymerization)等中选择出来的任意聚合反应而实现。从苯(benzene)、甲苯(toluene)、二甲苯(xylene)、卤代苯(halogenated benzene)、乙醚(diethyl ether)、四氢呋喃(tetra hydrofuran)、1，2-二氯乙烷(dichloroethane)、酯(esters)、乙醚(ethers)、内酯(lactones)、酮(ketones)、氨基化合物(amides)等中选择出来的至少一种聚合溶剂可以被作为聚合溶剂。在所述聚合完成后，存留在反应混合物中的未反应单体和副产物通过各种溶剂实施的淀析方法可以被很好的移除。
根据共聚物的聚合的PAG的数量可以依赖于含有共聚物的化学放大型抗蚀剂组合物的总固体物的数量。特别的是，通过使用相对于100份按重量的化学放大型抗蚀剂组合物的总固体物的0.5份到15份按重量的PAG，共聚物可以实现所述聚合。当PAG的数量相对于100份按重量的化学放大型抗蚀剂组合物的总固体物为0.5份按重量或更少的时候，酸产生剂会被减少因此会减少解析度，且含有底层的抗蚀剂图形不能被正确地产生，即，被形成倾斜状，且当PAG的数量相对于100份按重量的化学放大型抗蚀剂组合物的总固体物为15份按重量或更多的时候，酸产生剂被过多地产生，因此会增加抗蚀剂层上部的厚度损失，且PAG的光吸收也被增加，因此会降低抗蚀剂的透明度。
根据凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeation chromatography)测量的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量大约为500至100000。更具体地说，考虑所述化学放大型抗蚀剂组合物的涂层特性、抗蚀剂层的显影特性和耐热性，重量平均分子量大约为3000至30000。当重量平均分子量为500或更小的时候，抗蚀剂图形会被很容易地损害或变形，且当重量平均分子量超过10000的时候，抗蚀剂图形的解析度会被减小。共聚物的分子重量分布为0.9到5，且更具体地说，为1到3。共聚物的分子重量分布通过改变游离基聚合引发剂的使用量和反应时间可以被适当地调整。
根据本发明的示例性实施例的共聚物的示例，由化学式9到21所表示的共聚物被给出，且本发明的示例性实施例并不局限于此。
[化学式9]

[化学式10]

[化学式11]

[化学式12]

[化学式13]

[化学式14]

[化学式15]

[化学式16]

[化学式17]

[化学式18]

[化学式19]

[化学式20]

，和
[化学式21]

其中，a、b、c、d和e分别满足0.01≤a/(a+b+c+d+e)＜0.4；0.01＜b/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01＜c/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤d/(a+b+c+d+e)＜0.3；0.01≤e/(a+b+c+d+e)＜0.15。
此外，根据本发明的示例性实施例的化学放大型抗蚀剂组合物包括共聚物和溶剂，且共聚物的主链与PAG相联系。根据本发明的示例性实施例的化学放大型抗蚀剂组合物进一步包括其他添加剂。其他添加剂不被特别的限制，然而，例如，表面活性剂(surfactant)和水溶性醇(water-soluble alcohol)可以被单独使用或结合使用。根据本发明的示例性实施例的化学放大型抗蚀剂组合物进一步包括单独的PAG。
共聚物的数量相对于化学放大型抗蚀剂组合物的总数量大约为3wt.％至20wt.％。当共聚物的数量小雨3wt.％的时候，抗蚀剂层的厚度会被明显地降低，在获取所需抗蚀剂图形厚度时会遇到困难，且当共聚物的数量超过20wt.％的时候，抗蚀剂层的厚度会明显增加。
只要溶剂能溶解组合物的固体且具有适当干燥速度，包含在化学放大型抗蚀剂组合物中的溶剂可以不被特殊地限制，例如，乙二醇醚酯(glycol etherester)例如乙基纤溶剂醋酸(ethyl cello solve acetate)、甲基纤溶剂醋酸(methyl cello solve acetate)和丙二醇甲醚乙酸酯(propylene glycolmethyl ether acetate)；酯(ester)例如乳酸己酯(ethyl lactate)、乳酸丁酯(butyl lactate)、戊酯(amyl acetate)和丙酮酸乙酯(ethyl pyruvate)；酮(ketone)例如丙酮(acetone)、甲基异丁酮(methyl isobutyl ketone)、2-庚酮(heptanone)和环己酮(cyclohexanone)；和环酯例如γ-丁内酯(γ-butyrolactone)等可以被单独或两个或多个结合在一起使用。
此外，根据本发明的示例性实施例形成图形的方法可以使用所述化学方大型抗蚀剂组合物在衬底上形成抗蚀剂图形，然而，本发明并不局限于此。例如，本发明示例性实施例的方法可以包括形成使用抗蚀剂图形的半导体装置和/或显示装置的图形，即，电晶体(transistor)、电容器(capacitor)和金属布线(metal ring)。根据示例性实施例形成图形的方法包括用化学放大型抗蚀剂组合物在衬底上涂层，干燥被涂层的组合物来形成抗蚀剂层，选择性地曝光抗蚀剂层，且显影被曝光的抗蚀剂层。根据本发明的示例性实施例的方法在下文将进行具体地描述。
首先，化学放大型抗蚀剂组合物可以被涂层在提前准备的衬底上。所述衬底不被特殊地限制，但，从硅晶片、玻璃衬底、柔性衬底等中选择出来的任意衬底可以被使用。涂层方法从旋转涂层、浸渍涂层、喷雾涂层和转换涂层中可以任意得选择。
然后，光可以被照射到在衬底上被涂层的化学放大型抗蚀剂组合物，或可以将光应用到其中。由此的结果是，组合物的溶剂可以被蒸发以形成抗蚀剂层。在这种情况下，抗蚀剂层的硬化(hardening)可以被稍微地实现。
接着，抗蚀剂层可以选择性地被曝光。在此，选择性地曝光抗蚀剂层指的是曝光抗蚀剂层以来获取需要的抗蚀剂图形。例如，用于形成所述需要的抗蚀剂层的遮罩(mask)根据选择性地曝光被使用。根据选择性地曝光的光源可以是从KrF准分子激光、ArF准分子激光、极紫外光EUV、X射线和和电子束中选择的任意一种光源。用于上述曝光的光源的光波长为180nm到250nm。如需要，被曝光的抗蚀剂层在曝光后可以被硬化。
接着，被曝光的抗蚀剂层使用显影溶液可以被显影。结果，抗蚀剂图形可以被形成。氢氧化钠(sodium hydroxide)、氢氧化钾(potassiumhydroxide)、碳酸钠(sodium carbonate)、硅酸钠(sodium silicate)、偏硅酸钠(sodium metasilicate)、氨水(ammonia water)、乙胺(ammonia water)、正丙胺(n-propylamine)、三乙胺(triethylamine)、四甲基氢氧化铵(tetramethylammonium hydroxide)、四乙基氢氧化铵(tetraethylammoniumhydroxide)等可以单独或两个或多个结合在一起被用作为所述显影溶液。从所述这些中，含有四甲基氢氧化铵的水溶液可以被使用。
根据本发明的示例性实施例，PAG与共聚物的主链相联系，因此可以使PAG能等同地分散在抗蚀剂层内。基于这点，抗蚀剂图形的线边缘粗糙度的特性和抗蚀刻性可以被提高。此外，所述抗蚀剂层具有高的感光度、高的热稳定性、与衬底有关的高粘结强度、与曝光有关的高透明度且抗蚀剂图形具有高的解析度。
下文，本发明将根据示例来进行详细地描述。其应该被理解，这些示例只是用于说明性的目的，且不被理解为用来限制本发明的范围。
[合成例]
合成例1：甲氧基甲氧苯(methoxy methoxy benzene)合成
在冰浴下，200g的酚(phenol)和256g的氯甲基甲基醚(chloromethylmethyl ether)在2升的二氯甲烷(MC：methylene chloride)中被混合和搅拌，且740ml的二异丙基乙胺(DIPEA：diisopropylethylamine)被慢慢地滴入。然后，冰浴被移除且温度被升高，随后在室温下搅拌12小时的同时，合成反应(见公式1)被执行。然后，蒸馏水被添加到反应混合液中以来完成合成反应且来提取有机相(organic phase).然后，有机相使用0.5N的盐酸水溶液、蒸馏水、1N的氢氧化钠水溶液和蒸馏水的上述顺序来清洗，且用硫酸镁(magnesium sulphate)来干燥。然后，有机相被过滤和浓缩以来获取240g的甲氧基甲氧苯(产量：81.7％)，且甲氧基甲氧苯的结构通过1H-NMR被观测(见图1)：
1H-NMR(DMSO，参照：四甲基硅烷tetramethylsilane)：(ppm)3.48(s，3H)，5.17(s，2H)，7.03(m，3H)，7.28(m，2H)，
[公式1]

合成例2：二苯基1-4-甲氧基甲氧苯基锍三氟甲烷磺酸盐(diphenyl-4-methoxymethoxyphenylsulfonium trifluoromethanesulfonatesalt)合成
在合成例1中制造的100g甲氧基甲氧苯和133.1g苯基亚砜(phenylsulfoxide)在1200ml的MC中被混合和搅拌，且利用干冰丙酮(dryice aceton)使温度降低至-78℃。然后，使用滴液漏斗将240g的三氟甲磺酸(trifluoromethanesulfonic)在-78℃下慢慢地滴入且搅拌3个小时以来执行合成反应(见公式2)。然后，当在薄层色谱(TLC：thin layer chromatography)上的引发剂消失的时候，合成反应被终结。接着，200g的碳酸钙(calciumcarbonate)被溶解在1.5L的水中，且反应混合液被添加到溶剂中，冷却至0℃，且强烈地搅拌20分钟。然后，有机相被提取，且进一步在碳酸钙水溶液中搅拌。然后，被提取的有机相利用浓盐水(brine)来清洗，且使用硫酸镁来干燥。然后，有机相被过滤和浓缩以来获取200g的二苯基1-4-甲氧基甲氧苯基锍三氟甲烷磺酸盐(产量：58.5％)，且二苯基1-4-甲氧基甲氧苯基锍三氟甲烷磺酸盐的结构通过1H-NMR被观测(见图2)：
1H-NMR(CDCl3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)5.34(s，2H)，7.38(d，2H)，7.77-7.84(m，2H)，
[公式2]

合成例3：二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐(diphenyl-4-hydroxyphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate salt)合成
在合成例2中制造的100g二苯基1-4-甲氧基甲氧苯基锍三氟甲烷磺酸盐在300ml的MC中被混合和搅拌，且548ml的6N氯化氢水溶液在50℃下滴入和搅拌以来执行合成反应(见公式3)。然后，当在TLC上的引发剂消失的时候，合成反应被终结，接着MC被添加，且相的分离被执行。然后，有机相被提取，使用浓盐水清洗2次且使用硫酸镁来干燥。然后，有机相被过滤和浓缩以来获取100g的二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐(产量：71％)，且二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐的结构通过1H-NMR被观测(见图3)：
1H-NMR(CDCl3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)7.12(d，2H)，7.69-7.83(m，12H)，11.12(br，1H)，
[公式3]

合成例4：双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐(bicycle[2.2.1]heptane-2-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-hydroxyphenylsulfoniumtrifluoromethanesulfonate salt)合成
在合成例3中制造的10g二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐和10g双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯钠盐在100mlMC和100ml的水中被溶解，且在3小时搅动的时候执行合成反应(见公式4)。在这种情况下，合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，溶剂被移除，且有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取9.42g的双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐，且双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐的结构通过1H-NMR被观测(见图4)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.13-2.85(m，11H)，4.78(m，2H)，7.05(d，2H)，7.38(d，2H)，7.55-7.78(m，10H)，
[公式4]

合成例5：双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐(bicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-methacroyloxyphenylsulfonium salt)合成
9.42g的双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，1.72ml的甲基丙烯酰氯(methacryloyl chloride)，和用作聚合抗化剂(inhibitor)的20mg的4-甲氧基苯酚(MEHQ：methoxyphenol)，在150ml的MC中被混合和搅拌，使用滴液漏斗在冰浴下将4.37ml的DIPEA慢慢地滴入，且在室温下搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式5)。在这种情况下，4-二甲氨基吡啶(DMAP：Dimethylaminopyridine)被用作为反应催化剂，且合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且使用1N HCL、蒸馏水、饱和碳酸氢钠溶液(saturated sodium bicarbonate aqueous solution)和蒸馏水，按照上述顺序(3次)来清洗。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取7.4g(产量：70.1％)的双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐，且双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图5)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.12-2.83(m，14H)，4.78(m，2H)，5.85(s，1H)，6.39(s，1H)，7.48(d，2H)，7.67-7.76(m，10H)，7.86(d，2H)，
[公式5]

合成例6：双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-丙烯酰氧苯基锍盐(bicyclo[2.2.1]heptane-2-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-acroyloxy phenylsulfonium salt)合成
在合成例4中制造的8.2g的双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，1.21ml的烯丙酰氯(acryloylchloride)，和15mg的4-甲氧基苯酚(MEHQ：methoxyphenol)，在150ml的MC中被混合和搅拌，使用滴液漏斗在冰浴下将4.24ml的DIPEA慢慢地滴入，且在室温下搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式6)。在这种情况下，4-二甲氨基吡啶(DMAP：Dimethylaminopyridine)被用作为反应催化剂，且合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且使用1N HCL、蒸馏水、饱和碳酸氢钠溶液(saturated sodium bicarbonate aqueous solution)和蒸馏水，按照上述顺序(3次)来清洗。然后，溶剂被移除，且有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取6.4g(产量：68％)的双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-丙烯酰氧苯基锍盐，且双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-丙烯酰氧苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图5)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.21-2.79(m，14H)，4.54(m，2H)，6.21(d，1H)，6.39(t，1H)，6.87(d，1H)，7.45(d，2H)，7.65-7.76(m，10H)，7.86(d，2H)，
[公式6]

合成例7：庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐(heptanoic acid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-hydroxyphenylsulfonium salt)合成
7g的二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐和5.81g庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯钠盐被溶解在100ml的MC和100ml的水中，且在强烈地搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式7)。在这种情况下，合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且溶剂被移除。然后，有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取8.87g(产量：98.5％)的庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，且庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图6)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)0.83(t，3H)，1.32(m，6H)，1.61(m，2H)，1.38(t，2H)，4.78(t，2H)，7.05(d，2H)，7.35(d，2H)，7.55-7.78(m，10H)，
[公式7]

合成例8：庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐(heptanoic acid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-methacroyloxy phenylsulfonium salt)合成
在合成例7中制造的8.87g庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，1.5ml的甲基丙烯酰氯(methacryloyl chloride)，和17.4mg的4-甲氧基苯酚(MEHQ：methoxyphenol)，在150ml的MC中被混合和搅拌，使用滴液漏斗在冰浴下将3.71ml的DIPEA慢慢地滴入，且在室温下搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式8)。在这种情况下，4-二甲氨基吡啶(DMAP：Dimethylaminopyridine)被用作为反应催化剂，且合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且使用1N HCL、蒸馏水、饱和碳酸氢钠溶液(saturated sodiumbicarbonate aqueous solution)和蒸馏水，按照上述顺序(3次)来清洗。然后，有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取8.46g(产量：97.2％)的庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐，且庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图7)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)0.83(t，3H)，1.32(m，6H)，1.61(m，2H)，1.38(t，2H)，2.05(s，3H)，4.78(t，2H)，5.83(s，1H)，6.40(s，1H)，7.51d，2H)7.65-7.78(m，10H)，7.85(d，2H)，
[公式8]

合成例9：苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐(benzoic acid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-hydroxyphenylsulfonium salt)合成
在合成例3中制造的6g二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐和4.84g的苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯钠盐被溶解在100ml的MC和100ml的水中，且在强烈地搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式9)。在这种情况下，合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取4.3g(产量：56.4％)的苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，且苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图8)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)4.98(t，2H)，7.05(d，2H)，7.38-7.78(m，15H)，8.12(d，2H)，
[公式9]

合成例10：苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐(benzoic acid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-methacroyloxy-phenylsulfonium salt)合成
在合成例9中制造的4.3g苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，0.81ml的甲基丙烯酰氯(methacryloyl chloride)，和9.7mg的4-甲氧基苯酚(MEHQ：methoxyphenol)，在150ml的MC中被混合和搅拌，使用滴液漏斗在冰浴下将2.1ml的DIPEA慢慢地滴入，且在室温下搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式10)。在这种情况下，4-二甲氨基吡啶(DMAP：Dimethylaminopyridine)被用作为反应催化剂，且合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且使用1N HCL、蒸馏水、饱和碳酸氢钠溶液(saturated sodiumbicarbonate aqueous solution)和蒸馏水，按照上述顺序(3次)来清洗。然后，有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取3.87g(产量：80％)的苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐，且苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图7)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)2.05(s，3H)，4.98(t，2H)，7.38-7.78(m，15H)，7.91(d，2H)，8.12(d，2H)，
[公式10]

合成例11：金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐(adamantane-1-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-hydroxyphenylsulfonium salt)合成
在合成例3中制造的10g二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐和9.7g的金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯钠盐被溶解在100ml的MC和100ml的水中，且在强烈地搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式11)。在这种情况下，合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取11.47g(产量：81.7％)的金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，且金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图8)：
1H-NMR(三氯甲烷-d 3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.63-2.05(m，15H)，4.78(m，2H)，7.05(d，2H)，7.38(d，2H)，7.55-7.78(m，10H)，
[公式11]

合成例12：金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐(adamantane-1-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-methacroyloxy-phenylsulfonium salt)合成
11.47g的金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，1.95ml的甲基丙烯酰氯(methacryloyl chloride)，和25.5mg的4-甲氧基苯酚(MEHQ：methoxyphenol)，在150ml的MC中被混合和搅拌，使用滴液漏斗在冰浴下将5ml的DIPEA慢慢地滴入，且在室温下搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式10)。在这种情况下，4-二甲氨基吡啶(DMAP：Dimethylaminopyridine)被用作为反应催化剂，且合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且使用1N HCL、蒸馏水、饱和碳酸氢钠溶液(saturated sodiumbicarbonateaqueous solution)和蒸馏水，按照上述顺序(3次)来清洗。然后，有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取10.8g(产量：85％)的金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐，且金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图11)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.63-2.05(m，18H)，4.78(m，2H)，7.38(d，2H)，7.55-7.78(m，10H)，7.91(d，2H)，
[公式12]

合成例13：环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐(cyclohexane-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-hydroxyphenylsulfonium salt)合成
在合成例3中制造的8g二苯基1-4-羟基苯基锍三氟甲烷磺酸盐和9.05g的环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯钠盐被溶解在100ml的MC和100ml的水中，且在强烈地搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式12)。在这种情况下，合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取10.67g(产量：99％)的环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，且环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图12)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.18-1.85(m，10H)，2.39(m，1H)，4.78(m，2H)，7.05(d，2H)，7.38(d，2H)，7.55-7.78(m，10H)，
[公式13]

合成例14：环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐(cyclohexane-carboxylicacid-2，2-difluoro-2-sulfo-ethylesterdiphenyl-4-methacroyloxy-phenylsulfonium salt)合成
在合成例13中制造的10g的环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-羟基苯基锍盐，2ml的甲基丙烯酰氯(methacryloyl chloride)，和24mg的4-甲氧基苯酚(MEHQ：methoxyphenol)，在150ml的MC中被混合和搅拌，使用滴液漏斗在冰浴下将5.06ml的DIPEA慢慢地滴入，且在室温下搅拌3个小时的同时执行合成反应(见公式14)。在这种情况下，4-二甲氨基吡啶(DMAP：Dimethylaminopyridine)被用作为反应催化剂，且合成反应的步骤使用少量的被提取的有机相通过19F NMR被观测。当合成反应被终结的时候，有机相被提取，且使用1N HCL、蒸馏水、饱和碳酸氢钠溶液(saturatedsodium bicarbonate aqueous solution)和蒸馏水，按照上述顺序(3次)来清洗。然后，有机相使用可溶性溶剂的MC和难溶性溶剂的乙烷来洗涤。接着，溶剂被移除，且在降压下的干燥被执行以来获取7.88g(产量：65.7％)的环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐，且环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐的结构通过1H-NMR被观测(见图13)：
1H-NMR(三氯甲烷-d3，参照：四甲基硅烷)：(ppm)1.18-1.85(m，13H)，2.39(m，1H)，4.78(m，2H)，5.82(s，1H)，6.38(s，1H)，7.38(d，2H)，7.65-7.78(m，10H)，7.83(d，2H)，
[公式14]

合成例15：共聚物合成
15.9g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantylacrylate)，10.2g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，14.1g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantyl methacrylate)和用作聚合单体的在合成例5中制造的6.76g双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-2磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在62g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，2.26g的冰片烯(norbornene)，5.3g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和123.9g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取47g由化学式9所表示的共聚物(产量：95％)，且共聚物的结构通过19FNMR被观测(见图14)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gelpermeation chromatography)被测量，且结果被显示在图15中。上述GPC在DM400+外部RI、列(column)是G4000Hhr+G2500Hhr、溶剂是四氢呋喃(THF：tetrahydrofuran)、流速是1.000mL/min、浓度是0.000mg/L且Inj.Vol是100.0μl的系统下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecular weight)是1680，数量平均分子量(Mn)是920，且分子量分布(Mw/Mn)是1.83。
合成例16：共聚物合成
15.9g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantyl acrylate)，10.2g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，4.9g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantyl methacrylate)和用作聚合单体的在合成例6中制造的6.1g双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-2磺酸乙酯二苯基1-4-丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在62g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，2.26g的冰片烯(norbornene)，5.3g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和123.9g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取36g由化学式9所表示的共聚物(产量：75％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图16)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeationchromatography)被测量，且结果被显示在图15中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecular weight)是1550，数量平均分子量(Mn)是900，且分子量分布(Mw/Mn)是1.72。
合成例17：共聚物合成
18.0g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantyl acrylate)，11.6g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，16.1g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantyl methacrylate)和用作聚合单体的在合成例8中制造的8.46g庚酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在71.2g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，2.6g的冰片烯(norbornene)，6g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和142.5g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取46g由化学式10所表示的共聚物(产量：81％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图17)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeation chromatography)被测量，且结果被显示在图18中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecular weight)是1620，数量平均分子量(Mn)是780，且分子量分布(Mw/Mn)是2.08。
合成例18：共聚物合成
5.3g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantyl acrylate)，3.4g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，4.7g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantyl methacrylate)和用作聚合单体的在合成例10中制造的2.5g苯甲酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在21g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，0.75g的冰片烯(norbornene)，1.8g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和42g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在250ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取14.3g由化学式11所表示的共聚物(产量：86％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图19)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeationchromatography)被测量，且结果被显示在图20中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecular weight)是1810，数量平均分子量(Mn)是920，且分子量分布(Mw/Mn)是1.97。
合成例19：共聚物合成
19.4g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantyl acrylate)，12.5g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，17.3g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantyl methacrylate)和用作聚合单体的在合成例12中制造的9.1g金刚烷-1-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在76.6g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，2.8g的冰片烯(norbornene)，6.4g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和153.3g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取50.6g由化学式12所表示的共聚物(产量：83％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图21)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeationchromatography)被测量，且结果被显示在图22中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecular weight)是1530，数量平均分子量(Mn)是790，且分子量分布(Mw/Mn)是1.947。
合成例20：共聚物合成
16.8g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantyl acrylate)，10.8g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，15.0g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantyl methacrylate)和用作聚合单体的在合成例14中制造的7.9g环乙烷-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在66.5g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，2.4g的冰片烯(norbornene)，5.6g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和133.1g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取42g由化学式13所表示的共聚物(产量：79％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图23)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeationchromatography)被测量，且结果被显示在图24中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecular weight)是1420，数量平均分子量(Mn)是730，且分子量分布(Mw/Mn)是1.95。
合成例21：共聚物合成
10.9g的2-异丙基-2-金刚烷基丙烯酸(2-isopropyl-2-adamantylacrylate)，10.8g的γ-丁内酯甲基丙烯酸酯(butyrolactyl methacrylate)，8.2g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantylmethacrylate)和用作聚合单体的在合成例5中制造的4.3g双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-2磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在38.4g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，1.3g的冰片烯(norbornene)，3.0g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和76.8g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取30g由化学式14所表示的共聚物(产量：84％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图25)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeation chromatography)被测量，且结果被显示在图26中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecularweight)是810，数量平均分子量(Mn)是310，且分子量分布(Mw/Mn)是2.61。
合成例22：共聚物合成
10.7g的2-甲基-2-金刚烷基丙烯酸(2-methyl-2-adamantyl acrylate)，9g的5-甲基丙烯酰氧-2，6-降莰烷(norbornane)羧内酯(carbolactone)，9.5g的3-氢氧基-1-金刚烷甲基丙烯酸酯(3-hydroxy 1-adamantylmethacrylate)和用作聚合单体的在合成例5中制造的5g双环[2.2.1]庚烷-2-羧酸-2，2-二氟苯-2-磺酸乙酯二苯基1-4-甲基丙烯酰氧苯基锍盐被预备，且被溶解在44.9g的1，2-二氯乙烷(dichloroethane)中。接着，1.5g的冰片烯(norbornene)，5.6g的聚合引发剂偶氮二异丁腈(AIBN：azobisisobutyronitrile)和89.7g的聚合溶剂1，2-二氯乙烷被添加在500ml的烧瓶中，且在氮气注射下在室温下搅拌1个小时。然后，在维持反应容器的温度为65℃的同时，将用于聚合的单体慢慢地滴入在烧瓶中一个小时，接着聚合反应在单体上被进行16个小时。然后，聚合反应完成的反应溶液被冷却至室温。接着，冷却至室温的反应溶液用乙烷被淀析，且被过滤。然后，被过滤的溶液使用与被过滤时使用的溶剂相同的溶剂被清洗数次，且在降压下被干燥以来获取28g由化学式21所表示的共聚物(产量：79％)，且共聚物的结构通过19F NMR被观测(见图27)。然后，合成的共聚物特性使用凝胶渗透色谱法(GPC：gel permeation chromatography)被测量，且结果被显示在图28中。上述GPC在与合成例15相同的条件下被执行。根据上述GPC的结果，共聚物的聚苯乙烯(polystyrene)的重量平均分子量(Mw：molecularweight)是1590，数量平均分子量(Mn)是791，且分子量分布(Mw/Mn)是2.01。
[示例]
1.制造化学放大型抗蚀剂组合物
示例1
100份按重量在合成例15中获取的共聚物，2.5份按重量的光酸产生剂的全氟丁基磺酸三苯基锍盐(Triphenylsulfonium nonaflate)，和0.75份按重量的基本添加剂的四甲基氢氧化铵(tetramethylammonium hydroxide)被溶解在1000份按重量的乙二醇单甲基醚酯(propylene glycol methyl etheracetate)中，且然后使用0.2m的过滤膜来过滤以来制造化学放大型抗蚀剂组合物。
示例2
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例1中的相同方法被制造，除了全氟丁基磺酸三苯基锍盐不被添加以外。
示例3
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例2中的相同方法被制造，除了100份按重量的在合成例19中获取的共聚物被使用而不是使用100份按重量在合成例15中获取的共聚物以外。
示例4
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例2中的相同方法被制造，除了100份按重量的在合成例20中获取的共聚物被使用而不是使用100份按重量在合成例15中获取的共聚物以外。
示例5
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例2中的相同方法被制造，除了1份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
示例6
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例3中的相同方法被制造，除了1份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
示例7
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例4中的相同方法被制造，除了1份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
示例8
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例2中的相同方法被制造，除了1.25份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
示例9
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例3中的相同方法被制造，除了1.25份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
示例10
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例4中的相同方法被制造，除了1.25份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
比较示例1
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例1中的相同方法被制造，除了100份按重量的由如下化学式22表示的甲基丙烯酸酯(methacrylate)共聚物被使用而不是使用100份按重量在合成例15中获取的共聚物以外。
[化学式22]

比较示例2
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例1中的相同方法被制造，除了1份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
比较示例3
一种化学放大型抗蚀剂组合物用示例1中的相同方法被制造，除了1.25份按重量的四甲基氢氧化铵被用做添加剂以外。
2.估计化学放大型抗蚀剂组合物的特性
经由示例1到10，和比较示例1到3分别制造的化学放大型抗蚀剂组合物使用旋转器(spinner)被涂层在衬底上，且在100℃下干燥90秒以形成具有0.2m厚度的抗蚀剂层。然后，形成的抗蚀剂曾使用ArF准分子激光布进机(excimer laser stepper)(透镜数值孔径lens numerical aperture：0.75)来曝光，且在120℃下承受热处理90秒。接着，抗蚀剂层使用2.38wt％的四甲基氢氧化铵水溶液显影40秒，且被清洗和干燥以来形成抗蚀剂图形。在这种情况下，感光度(sensitivity)、解析度(resolution)和线边缘强度的特性被测量，且结果显示在表1中。在此，感光度表示在显影成为具有1∶1线宽的图形后形成0.12μm的线和空间(L/S：Line and Space)图形的最优曝光量。且，解析度表示形成在感光度中的最小图形数值。且，制造的抗蚀剂的线边缘粗糙度利用CD-SEM来测量，且线边缘粗糙度的级别被分为5个等级，即1(非常坏)、2(坏)、3(一般)、4(好)和5(非常好)。
表1