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1、10申请公布号CN101942235A43申请公布日20110112CN101942235ACN101942235A21申请号201010514506622申请日20101021C09D4/02200601C09D4/06200601C09D7/1220060171申请人东莞光群雷射科技有限公司地址523832广东省东莞市大岭山镇大片美村东莞光群雷射科技有限公司72发明人三德沙达西文吴俊德彭良兵74专利代理机构东莞市华南专利商标事务所有限公司44215代理人梁永宏54发明名称一种水转印镭射涂层及其制备方法57摘要一种水转印镭射涂层，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯2030，氯化橡胶1。
2、020，甲苯3040，甲基异丁酮2030，聚矽氧烷有机硅消泡剂1503，聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0102。一种水转印镭射涂层的制备方法，包括按照上述重量百分比计的组分准备原料；将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温2530范围内，匀速搅拌510MIN；再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，待全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约1015MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。该水转印镭射涂层及其制备方法可应用于不规则底材，具有成本低，实用性强的特点。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2。
3、页说明书6页CN101942240A1/2页21一种水转印镭射涂层，其特征在于，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯2030氯化橡胶1020甲苯3040甲基异丁酮2030聚矽氧烷有机硅消泡剂01503聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0102。2根据权利要求1所述的水转印镭射涂层，其特征在于，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯2530氯化橡胶1015甲苯3035甲基异丁酮2530聚矽氧烷有机硅消泡剂0203聚醚改性硅氧烷共聚流平剂01015。3根据权利要求1所述的水转印镭射涂层，其特征在于，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯29氯化橡胶1267甲苯30甲基异丁酮28聚矽氧烷有机硅消。
4、泡剂02聚醚改性硅氧烷共聚流平剂013。4一种水转印镭射涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤步骤一，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯2030氯化橡胶1020甲苯3040甲基异丁酮2030聚矽氧烷有机硅消泡剂01503聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0102；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温2530范围内，匀速搅拌510MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象；待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持。
5、续搅拌1015MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。5根据权利要求4所述的水转印镭射涂层的制备方法，其特征在于所述步骤一具体为，按以下重量百分比计的组分准备原料权利要求书CN101942235ACN101942240A2/2页3甲基丙烯酸甲酯2530氯化橡胶1015甲苯3035甲基异丁酮2530聚矽氧烷有机硅消泡剂0203聚醚改性硅氧烷共聚流平剂01015。6根据权利要求4所述的水转印镭射涂层的制备方法，其特征在于所述步骤一具体为，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯29氯化橡胶1267甲苯30甲基异丁酮28聚矽氧烷有机硅消泡剂02聚醚改性硅氧烷共聚流平剂013。权利要求书CN1。
6、01942235ACN101942240A1/6页4一种水转印镭射涂层及其制备方法技术领域0001本发明涉及包装薄膜技术领域，特别是涉及一种水转印镭射涂层及其制备方法。背景技术0002随着科学技术的不断发展以及人们对产品外观的美的需求，现在人们已经逐渐不满足于在纸上直接印刷。如今很多不同于纸的材料和外型复杂的实物印刷需求的出现，随即诞生了转移印刷术。目前比较流行、应用范围最广的转移印刷术就是水转印和热转印。但从实用性和广泛性来说，水转印的应用更具有市场潜力。水转印技术是利用水压将带彩色图案的转印纸或者塑料薄膜进行高分子水解的一种印刷术，转印技术的诞生解决了常规印刷方法所不能解决的问题。0003。
7、但是，现有技术中的镭射涂层由于只满足镭射压印的需求，无法满足后续水转印工艺所需的活化与还原性，使得该镭射涂层只能应用于纸张、软管、PC板材等平面底材或者有规则的曲面底材上，对于不规则底材，如电脑鼠标外壳、摩托车帽子、手机外壳等，则没法量产使用，从而影响了产品的外观设计的美学要求，使得产品缺乏市场竞争力。0004因此，针对现有技术中的不足，亟需提供一种可以应用于不规则底材的水转印镭射涂层及其制备方法。发明内容0005本发明的目的在于避免现有技术中的不足之处而提供一种可以应用于不规则底材的水转印镭射涂层及其制备方法。0006本发明的目的通过以下技术方案实现一方面，本发明提供了一种水转印镭射涂层，其。
8、中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯2030氯化橡胶1020甲苯3040甲基异丁酮2030聚矽氧烷有机硅消泡剂01503聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0102。0007水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯2530氯化橡胶1015甲苯3035甲基异丁酮2530聚矽氧烷有机硅消泡剂0203聚醚改性硅氧烷共聚流平剂01015。0008水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成说明书CN101942235ACN101942240A2/6页5甲基丙烯酸甲酯29氯化橡胶1267甲苯30甲基异丁酮28聚矽氧烷有机硅消泡剂02聚醚改性硅氧烷共聚流平剂013。0009另一。
9、方面，本发明还提供了一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯2030氯化橡胶1020甲苯3040甲基异丁酮2030聚矽氧烷有机硅消泡剂01503聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0102；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温2530范围内，匀速搅拌510MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象；待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌1015MIN，然后上。
10、机使用，得到水转印镭射涂层。0010所述步骤一具体为，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯2530氯化橡胶1015甲苯3035甲基异丁酮2530聚矽氧烷有机硅消泡剂0203聚醚改性硅氧烷共聚流平剂01015。0011所述步骤一具体为，按以下重量百分比计的组分准备原料甲基丙烯酸甲酯29氯化橡胶1267甲苯30甲基异丁酮28聚矽氧烷有机硅消泡剂02聚醚改性硅氧烷共聚流平剂013。0012本发明的有益效果本发明的一种水转印镭射涂层，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯2030，氯化橡胶1020，甲苯3040，甲基异丁酮2030，聚矽氧烷有机硅消泡剂1503，聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0。
11、102。本发明的一种水转印镭射涂层的制备方法，包括以下步骤按照上述重量百分比计的组分准说明书CN101942235ACN101942240A3/6页6备原料；将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温2530范围内，匀速搅拌510MIN；再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约1015MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。与现有技术相比，本发明中采用甲基丙烯酸甲酯可增强水转印镭射涂层的弹性。
12、，氯化橡胶可增强水转印镭射涂层的亮度和耐温性，采用甲苯与甲基异丁酮的溶剂，可以与所选用的甲基丙烯酸甲酯和氯化橡胶树脂的相容性好，不会发生异常请况，而且按照甲基丙烯酸甲酯2030，氯化橡胶1020，甲苯3040，甲基异丁酮2030，聚矽氧烷有机硅消泡剂1503，聚醚改性硅氧烷共聚流平剂0102的组成及配比可以满足后续水转印所需的活化和还原效果。本发明的水转印镭射涂层耐温检测约110115，经后续镭射信息层涂布测量离形力3045G，破膜力38G，用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上效果光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在60180秒后直接水转印至各种底材。
13、上。该水转印镭射涂层既可满足镭射压印的需求，又可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果，突破现有镭射涂层只能应用于纸张、软管、PC板材等平面底材和有规则的曲面底材的局限，能广泛应用于不规则底材，扩大了镭射涂层的应用范围，而且具有成本低，实用性强的特点。具体实施方式0013结合以下实施例对本发明作进一步描述。0014实施例1一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯29氯化橡胶1267甲苯30甲基异丁酮28聚矽氧烷有机硅消泡剂02聚醚改性硅氧烷共聚流平剂013。0015该水转印镭射涂层的耐温检测112,经后续镭射信息层涂布测量离形力为3545G，破。
14、膜力为38G，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在100秒后直接水转印至各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果。0016实施例2一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯20氯化橡胶15甲苯38甲基异丁酮265说明书CN101942235ACN101942240A4/6页7聚矽氧烷有机硅消泡剂03聚醚改性硅氧烷共聚流平剂02。0017该水转印镭射涂层的耐温检测114,经后续镭射信息层涂布测量离形力为3040G，破膜力为37G。
15、，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在60秒后直接水转印至各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果。0018实施例3一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯30氯化橡胶10甲苯3975甲基异丁酮20聚矽氧烷有机硅消泡剂015聚醚改性硅氧烷共聚流平剂01。0019该水转印镭射涂层的耐温检测约113,经后续镭射信息层涂布测量离形力为3340G，破膜力为46G，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光滑完整，然后将。
16、具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在80秒后直接水转印至各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果。0020实施例4一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯25氯化橡胶20甲苯3366甲基异丁酮21聚矽氧烷有机硅消泡剂019聚醚改性硅氧烷共聚流平剂015。0021该水转印镭射涂层的耐温检测约115,经后续镭射信息层涂布测量离形力为3239G，破膜力为56G，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在70秒后直接水转印至各。
17、种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果。0022实施例5一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯26氯化橡胶1854甲苯34甲基异丁酮2099说明书CN101942235ACN101942240A5/6页8聚矽氧烷有机硅消泡剂028聚醚改性硅氧烷共聚流平剂019。0023该水转印镭射涂层的耐温检测110,经后续镭射信息层涂布测量离形力为3645G，破膜力为46G，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在90秒后直接水转印至各种底。
18、材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续水转印所需的活化与还原效果。0024实施例6一种水转印镭射涂层，其中，按重量百分比计，包括以下组成甲基丙烯酸甲酯20氯化橡胶19甲苯40甲基异丁酮2065聚矽氧烷有机硅消泡剂016聚醚改性硅氧烷共聚流平剂019。0025该水转印镭射涂层的耐温检测115,经后续镭射信息层涂布测量离形力为3844G，破膜力为68G，采用常规硬压方式压印，镭射效果清晰闪耀，转移至PVA上光滑完整，然后将具有该水转印镭射涂层的PVA面直接接触自来水，在100秒后直接水转印至各种底材上，不仅满足镭射压印的需求，而且可转移至PVA底材，同时还能满足后续。
19、水转印所需的活化与还原效果。0026实施例7一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按照实施1中的重量百分比计的组分准备原料；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温25下，匀速搅拌5MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约15MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。0027实施例8一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按照实施2中。
20、的重量百分比计的组分准备原料；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温30下，匀速搅拌10MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约15MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。0028实施例9说明书CN101942235ACN101942240A6/6页9一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按照实施3中的重量百分比计的组分准备原料；步骤二，将原料甲。
21、基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温27下，匀速搅拌9MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约13MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。0029实施例10一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按照实施4中的重量百分比计的组分准备原料；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温29下，匀速搅拌7MIN；步骤三。
22、，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约15MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。0030实施例11一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按照实施5中的重量百分比计的组分准备原料；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温26下，匀速搅拌6MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀。
23、的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约14MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。0031实施例12一种水转印镭射涂层的制备方法，其中，包括以下步骤步骤一，按照实施6中的重量百分比计的组分准备原料；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、氯化橡胶、甲苯和甲基异丁酮顺次加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温30下，匀速搅拌15MIN；步骤三，再将原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，避免造成分散不均匀的现象，待原料聚矽氧烷有机硅消泡剂和聚醚改性硅氧烷共聚流平剂全部加入到搅拌筒后，再持续搅拌约12MIN，然后上机使用，得到水转印镭射涂层。0032最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实质和范围。说明书CN101942235A。