技术领域
本发明涉及一种贴合于偏振片、相位差板、用于显示器的镜片膜等光学部件(以下有时也称为光学用膜)表面的表面保护膜。更详细而言，提供一种对被粘物的污染少的表面保护膜，进一步，提供一种具有不经时劣化的优异的抗剥离静电性能的表面保护膜、以及使用了该表面保护膜的光学部件。
背景技术
以往，在制造、运输偏振片、相位差板、用于显示器的镜片膜、防反射膜、硬涂膜、用于触摸面板的透明导电性膜等光学用膜、以及使用这些膜的显示器等光学产品时，在该光学用膜的表面上贴合表面保护膜，可以防止在后续工序中表面的污垢或伤痕。关于作为光学产品的光学用膜的外观检查，为了节省剥离表面保护膜、再次贴合的工夫，提高工作效率，有时也在将表面保护膜贴合于光学用膜的状态下直接进行。
一般，在光学产品的制备工序中，为了防止伤痕或污垢的附着，使用在基材膜的一面上设有粘着剂层的表面保护膜。表面保护膜经由微粘着力的粘着剂层贴合在光学用膜上。使粘着剂层为微粘着力的原因在于，在将使用完的表面保护膜从光学用膜表面上剥离去除时，能够容易地剥离，并使粘着剂不附着残留(即防止残胶的产生)在作为被粘物的产品的光学用膜上。
近年来，在液晶显示面板的生产工序中，虽然产生的件数少，但仍发生了由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离除去时所产生的剥离静电压，引起用于控制液晶显示面板的显示画面的驱动IC等电路部件遭到破坏、或者是液晶分子的取向受到损害的现象。
此外，为了降低液晶显示面板的消耗电力，液晶材料的驱动电压变低，伴随于此，驱动IC的破坏电压也在变低。在最近，要求使剥离静电压在+0.7kV～-0.7kV的范围之内。
此外，近年来随着3D显示器(立体显示器)的普及，有时在偏振片等光学用膜的表面上贴合FPR(Film Patterned Retarder)膜。剥离贴合在偏振片等光学用膜的表面上的表面保护膜后，贴合FPR膜。但是，如果偏振片等光学用膜的表面被表面保护膜中所使用的粘着剂或抗静电剂污染时，存在难粘贴FPR膜的问题。因此，要求用于该用途的表面保护膜对被粘物的污染要小。
此外，在一些液晶面板厂家中，作为表面保护膜对被粘物的污染性的评价方法，采用以下方法：通过暂时剥离贴合在偏振片等光学用膜上的表面保护膜，在混入气泡的状态下再次贴合，并在规定条件下对其进行加热处理，之后剥离表面保护膜并观察被粘物的表面的方法。在该评价方法中，如果即使被粘物的表面污染是微量的，在混入气泡的部分、与表面保护膜的粘着剂接触的部分之间，也存在被粘物的表面污染的差异时，则被粘物的表面污染以气泡的痕迹(有时也称为气泡渗透)的形式而残留。因此，作为对被粘物表面的污染性的评价方法，该评价方法为非常严格的评价方法。近年来，要求即使在利用这样的严格的评价方法进行评价的结果中，在对被粘物的表面的污染性方面也不存在问题的表面保护膜。
在将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时，为了防止因高剥离静电压所造成的不良状况的产生，有人提出了一种用于较低地抑制剥离静电压的、使用含有抗静电剂的粘着剂层的表面保护膜。
例如，专利文献1中公开了一种使用了由烷基三甲基铵盐、含羟基的丙烯酸类聚合物、聚异氰酸酯所构成的粘着剂的表面保护膜。
此外，专利文献2中公开了一种由离子性液体及酸值在1.0以下的丙烯酸聚合物所构成的粘着剂组合物、以及使用了该粘着剂组合物的粘着片类。
此外，专利文献3中公开了一种由丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、利用阴离子吸附性化合物处理了的碱金属盐所构成的粘着剂组合物、以及使用了该粘着剂组合物的表面保护膜。
此外，专利文献4中公开了一种由离子性液体、碱金属盐、玻璃化转变温度为0℃以下的聚合物所组成的粘着剂组合物、以及使用了该粘着剂组合物的表面保护膜。
此外，专利文献5中公开了一种用于由含有液体离子盐的聚合物构成的光学部件的表面保护片的粘着剂组合物、及粘着片。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：特开2005-131957号公报
专利文献2：特开2005-330464号公报
专利文献3：特开2005-314476号公报
专利文献4：特开2006-152235号公报
专利文献5：特开2008-069261号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
在上述专利文献1～5中，在粘着剂层的内部添加有抗静电剂。然而，粘着剂层的厚度越厚，或者贴合在被粘物后经过的时间越久，则相对于贴合了表面保护膜的被粘物，抗静电剂从粘着剂层转移到被粘物的量越多。若转移到被粘物的抗静电剂的量增多，则有可能作为被粘物的光学用膜的外观品质降低、在贴合FPR膜时FPR膜的粘着性降低。
如果为了减少这样的从粘着剂层向被粘物转移的抗静电剂的经时增加，而减少粘着剂层的厚度时，则会产生其它问题。例如，在用于为了防眩而经防眩处理的偏振片等表面具有凹凸的光学用膜时，存在以下问题：由于粘着剂层难以追随光学用膜表面的凹凸而混入气泡，由于光学用膜与粘着剂层之间的粘着面积减少而造成粘着力降低，使用中表面保护膜产生浮起或脱落。
因此，需要一种对于表面具有凹凸的光学用膜也可进行贴合、对被粘物的污染非常少、且对被粘物的污染即使经时也不增加的用于光学用膜的表面保护膜，并且，需要一种能较低地抑制从被粘物上剥离表面保护膜时的剥离静电压的表面保护膜。
本申请的发明人们为了解决这些问题进行了深入研究。
为了对被粘物的污染少、及污染的经时增加小，需要对被推测为污染被粘物原因的粘着剂层内的抗静电剂成分进行减量。但是，在对粘着剂层内的抗静电剂成分进行减量的情况下，将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压会增高。因此，研究了能较低地抑制从被粘物上剥离表面保护膜时的剥离静电压、而不会增加粘着剂层内的抗静电剂成分的绝对量的方法。
其结果发现，通过在将不含抗静电剂的粘着剂组合物涂布并干燥，层叠成粘着剂层之后，只在粘着剂层的表面上赋予适量的抗静电剂成分，而不是在基材膜的一个面上将含有抗静电剂的粘着剂组合物涂布并干燥，形成粘着剂层，从而能够较低地抑制从作为被粘物的光学用膜上剥离表面保护膜时的剥离静电压，以此完成了本发明。
本发明是鉴于以上情况而成的，其目的在于，提供一种对于表面具有凹凸的光学用膜也可进行贴合、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性即使经时也不发生改变、且具有不经时劣化的优异的抗剥离静电性能的表面保护膜、及使用了该表面保护膜的光学部件。
解决技术问题的技术手段
为了解决上述技术问题，本发明的发明构思在于，本发明的表面保护膜通过在基材膜的一个面上将不含抗静电剂的粘着剂组合物涂布并干燥、层叠粘着剂层之后，在粘着剂层的表面上赋予适量的抗静电剂，从而较低地抑制对被粘物的污染性，同时较低地抑制从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离静电压。
为了解决上述技术问题，本发明提供一种表面保护膜，其通过在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一个面上形成粘着剂层，并在该粘着剂层上贴合具有剥离剂层的剥离膜而成，其特征在于，该剥离膜通过在树脂膜的一个面层叠剥离剂层而成，其中，所述剥离剂层含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、及抗静电助剂，所述抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，所述抗静电助剂为聚醚改性硅酮，所述抗静电剂成分与所述抗静电助剂从所述剥离膜的剥离剂层转印到所述粘着剂层的表面，以此降低将所述粘着剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压。
此外，所述粘着剂层优选通过使含有(甲基)丙烯酸酯共聚物与交联剂的粘着剂组合物交联而成。
此外，将所述剥离膜从所述粘着剂层上剥离时的剥离力优选为0.2N/50mm以下。
此外，本发明提供一种通过贴合上述表面保护膜而成的光学部件。
发明效果
本发明的表面保护膜对被粘物的污染少，对被粘物的低污染性即使经时也不会变化。此外，本发明的表面保护膜即使是在被粘物为AG偏光板等的表面具有凹凸的光学用膜，也可使用。此外，根据本发明，能够提供一种能较低抑制从作为被粘物的光学用膜上剥离时所产生的剥离静电压的、具有不经时劣化的优异的抗剥离静电性能的表面保护膜、及使用了该表面保护膜的光学部件。
根据本发明的表面保护膜，能够确切地保护光学用膜的表面，因此能够实现生产率的提高及成品率的提高。
附图说明
图1为表示本发明的表面保护膜概念的截面图；
图2为表示将剥离膜从本发明的表面保护膜上剥离后的状态的截面图；
图3为表示本发明的光学部件的一个实施例的截面图。
附图标记说明
1…基材膜；2…粘着剂层；3…树脂膜；4…剥离剂层；5…剥离膜；7…抗静电剂与抗静电助剂；8…被粘物(光学部件)；10…表面保护膜；11…剥离掉剥离膜的表面保护膜；20…贴合有表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
以下通过实施方式对本发明进行详细的说明。
图1为表示本发明的表面保护膜概念的截面图。该表面保护膜10在透明的基材膜1的一个面的表面上，形成有粘着剂层2。在该粘着剂层2的表面上，贴合有在树脂膜3的表面形成有剥离剂层4的剥离膜5。
作为本发明的表面保护膜10中所使用的基材膜1，使用由具有透明性以及可挠性的树脂所构成的基材膜。由此，能够以将表面保护膜贴合在作为被粘物的光学部件上的状态，进行光学部件的外观检测。用作基材膜1的由具有透明性的树脂所组成的膜，适宜使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要具有所需强度且具有光学适应性，则也可使用由其它树脂构成的膜。基材膜1可以是无拉伸膜，也可以是经单轴或双轴拉伸的膜。此外，也可以将拉伸膜的拉伸倍率或伴随拉伸膜的结晶化所形成的轴向的取向角度控制在特定的值。
本发明的表面保护膜10中所使用的基材膜1的厚度，并没有特别限定，但例如优选12～100μm左右的厚度，若为20～50μm左右的厚度，则更容易操作，因而更优选。
此外，可根据需要，在基材膜1的形成粘着剂层2的面的相反侧的面上设置防止表面污垢的防污层、抗静电层、防伤痕的硬涂层等。此外，也可以在基材膜1的表面上实施利用电晕放电进行的表面改性、涂布锚固剂等易粘着处理。
此外，本发明的表面保护膜10中所使用的粘着剂层2，只要是贴合在被粘物的表面上，用完后可以简单地剥离，并且不易污染被粘物的粘着剂，则无特别限定，若考虑贴合在光学用膜上之后的耐久性等，则通常使用使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联而成的丙烯酸类粘着剂。
作为(甲基)丙烯酸酯共聚物，可列举出将丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基已酯，丙烯酸异辛酯、丙烯酸异壬酯等主单体，与丙烯腈、醋酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚单体，丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丁酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、N-羟甲基甲基丙烯酰胺等官能性单体，甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯等的含有聚氧亚烷基的单体共聚而成的共聚物。(甲基)丙烯酸酯共聚物，其主单体以及其它单体可以均为(甲基)丙烯酸酯，作为主单体之外的单体，也可以含有一种或两种以上除(甲基)丙烯酸酯之外的单体。主单体以外的其它单体，可以选自但并不特别限定于上述共聚单体、官能性单体、含有聚氧亚烷基的单体等。
作为粘着剂层2中所添加的固化剂，使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联剂，可列举出异氰酸酯化合物、环氧化合物、三聚氰胺化合物、金属螯合化合物等。此外，作为增粘剂，可列举出松香类、香豆酮-茚类、萜烯类、石油类、酚类等。
本发明的表面保护膜10中所使用的粘着剂层2的厚度，没有特别限定，但优选5～40μm左右的厚度，更优选10～30μm左右的厚度。另外，由于从被粘物上剥离表面保护膜时的操作性优异，故而优选表面保护膜的对被粘物表面的剥离强度(粘着力)为0.03～0.3N/25mm左右的具有微粘着力的粘着剂层2。此外，由于从表面保护膜10剥离掉剥离膜5时的操作性优异，因此优选从粘着剂层2剥离剥离膜5时的剥离力为0.2N/50mm以下，更优选为0.14N/50mm以下。
此外，本发明的表面保护膜10中所使用的剥离膜5，是在树脂膜3的一面上层叠剥离剂层4而成，该剥离剂层4含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、及抗静电助剂。在本发明的表面保护膜中所使用的剥离膜中，所述抗静电剂成分优选为熔点小于30℃的离子性化合物。所述抗静电助剂优选为聚醚改性硅酮。
作为树脂膜3，可列举出聚脂膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，由于具有优异的透明性及低廉的价格，因此特别优选聚脂膜。树脂膜可以是无拉伸膜，也可以是单轴或双轴拉伸膜。此外，可以将拉伸膜的拉伸倍率、伴随拉伸膜的结晶化所形成的轴向的取向角度控制在特定的值。
树脂膜3的厚度没有特别限制，例如优选12～100μm左右的厚度，若为16～50μm左右的厚度则容易操作，故而更优选。
此外，可根据需要，在树脂膜3的表面上实施利用电晕放电进行的表面改性、涂布锚固剂等易粘着处理。
作为构成剥离剂层4的以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂，可列举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等公知的硅酮类剥离剂。在市场上销售的加成反应型硅酮类剥离剂的产品，例如可列举出KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化学工业(株)制造)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)等。在市场上销售的缩合反应型硅酮类剥离剂的产品，例如可列举出SRX-290、SYLOFF-23(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)等。在市场上销售的阳离子聚合型硅酮类剥离剂的产品，例如可列举出有TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive Performance Materials Company制造)、X62-7622(信越化学工业(株)制造)等。在市场上销售的自由基聚合型硅酮类剥离剂的产品有X62-7205(信越化学工业(株)制造)等。
作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂溶液的分散性良好、且不会阻碍以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固化的抗静电剂。此外，为了从剥离剂层4转印至粘着剂层2的表面、赋予粘着剂层2抗静电效果，优选不与以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂反应的抗静电剂。熔点小于30℃的离子性化合物非常适合作为这样的抗静电剂。
作为熔点小于30℃的离子性化合物，为具有阳离子与阴离子的离子性化合物，阳离子可列举出咪唑离子等环状脒离子、吡啶离子、铵离子、锍离子、膦离子等。此外，作为阴离子，可列举出CnH2n+1COO-、CnF2n+1COO-、NO3-、CnF2n+1SO3-、(CnF2n+1SO2)2N-、(CnF2n+1SO2)3C-、PO43-、AlCl4-、Al2Cl7-、ClO4-、BF4-、PF6-、AsF6-、SbF6-等。
抗静电剂相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的添加量，根据抗静电剂的种类或与剥离剂之间的亲和度而不同。抗静电剂的添加量，可考虑从被粘物上剥离表面保护膜时所期待的剥离静电压、对被粘物的污染性以及粘着特性等来设定。
构成剥离剂层4的抗静电助剂用于提高粘着剂层表面的抗静电性能。作为这样的抗静电助剂，聚醚改性硅酮为适宜。聚醚改性硅酮中的聚醚链由环氧乙烷、环氧丙烷等构成，例如，通过选择用于侧链的聚环氧乙烷的分子量，调整与硅酮剥离剂的相容性及抗静电效果等物性。
此外，作为聚醚改性硅酮而在市场上销售的产品，可列举出例如KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642(信越化学工业(株)制)、SH8400、SH8700、SF8410(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)、TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450(Momentive Performance Materials Co.,Ltd.制造)、BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330(BYK公司制造)。
聚醚改性硅酮相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的添加量，因聚醚改性硅酮的种类、与剥离剂之间的相容性的程度而不同，可考虑从被粘物上剥离表面保护膜时所期望的剥离静电压、对被粘物的污染性、粘着特性等来设定。
对聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂与抗静电剂及抗静电助剂之间的混合方法无特别的限定。可使用以下任意一种方法：向以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂中添加并混合抗静电剂及抗静电助剂之后，添加并混合剥离剂固化用催化剂的方法；使用有机溶剂预先稀释以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂之后，添加并混合抗静电剂及抗静电助剂以及剥离剂固化用催化剂的方法；将以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂预先稀释于有机溶剂后，添加并混合催化剂，然后添加并混合抗静电剂及抗静电助剂的方法等。此外，根据需要，可以添加硅烷偶联剂等贴附性改善剂、或含有聚氧亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂与抗静电剂及抗静电助剂的混合比例并无特别限定，但相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份，以固体成分计抗静电剂及抗静电助剂的总和优选为5～100份左右的比例。相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份，若抗静电剂及抗静电助剂的总和的换算成固体成分的添加量小于5份的比例时，则抗静电剂及抗静电助剂向粘着剂层表面的转印量减少，难以发挥赋予粘着剂的抗静电功能。此外，相对于以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分100份，若抗静电剂及抗静电助剂的总和的换算成固体成分的添加量超过100份的比例时，则抗静电剂及抗静电助剂与以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂也同时被转印到粘着剂层的表面上，因此可能会降低粘着剂的粘着特性。
在本发明的表面保护膜10的基材膜1上形成粘着剂层2的方法、以及贴合剥离膜5的方法，可以通过公知的方法来进行，并无特别限定。具体地，可列举出以下方法：(1)在基材膜1的一面上涂布用于形成粘着剂层2的树脂组合物，使其干燥，形成粘着剂层之后，贴合剥离膜5的方法；(2)在剥离膜5的表面上涂布用于形成粘着剂层2的树脂组合物并使其干燥，形成粘着剂层之后，贴合基材膜1的方法等，使用其中任何一种方法均可。
此外，在基材膜1的表面上形成粘着剂层2的方法，使用公知的方法进行即可。具体而言，可以使用反向涂布、刮刀式涂布、凹印涂布、夹缝式挤压型涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
此外，同样地，在树脂膜3上形成剥离剂层4，使用公知的方法进行即可。具体而言，可以使用凹印涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
具有上述结构的本发明的表面保护膜10，从作为被粘物的光学用膜上剥离粘着剂层时的表面电位优选为+0.7kV～-0.7kV。更进一步，表面电位更优选为+0.5kV～-0.5kV，特别优选为+0.1kV～-0.1kV。该表面电位可以通过加减剥离剂层中所含的抗静电剂以及抗静电助剂的种类、添加量等来进行调整。
图2为表示将剥离膜从本发明的表面保护膜上剥离后的状态的截面图。
通过从图1中所示的表面保护膜10上剥离掉剥离膜5，使剥离膜5的剥离剂层4中所含有的抗静电剂及抗静电助剂(附图标记7)的一部分转印(附着)到表面保护膜10的粘着剂层2的表面。因此，在图2中，剥离掉剥离膜的状态的表面保护膜11的粘着剂层2的表面上转印的抗静电剂及抗静电助剂，用附图标记7的斑点示意。通过使抗静电剂及抗静电助剂的成分7从剥离膜5转印到粘着剂层2的表面，与转印之前的粘着剂层2相比，将粘着剂层2从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。此外，将粘着剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压，可以通过公知的方法来进行测定。例如，将表面保护膜贴合在偏振片等被粘物上后，使用高速剥离试验机(TESTER SANGYO CO,.LTD.制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜，同时使用表面电位计(KEYENCE CORPORATION制造)以每10ms测定被粘物表面的表面电位，并将此时的表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
本发明的表面保护膜中，当将图2中所示的剥离掉剥离膜的状态的表面保护膜11贴合在被粘物上时，从剥离剂层转印到粘着剂层2的表面上的抗静电剂及抗静电助剂与被粘物的表面接触。由此，可以较低地抑制再次将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压。
图3为表示本发明的光学部件的实施例的截面图。
将剥离膜5从本发明的表面保护膜10上剥离，以露出粘着剂层2的状态，经由粘着剂层2贴合在作为被粘物的光学部件8上。
即，图3表示一种贴合了本发明的表面保护膜11的光学部件20。作为光学部件，可列举出偏振片、相位差板、镜片膜、兼用做相位差板的偏振片、兼用做镜片膜的偏振片等光学用膜。上述光学部件可用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学系统装置等的构成部件。此外，作为光学部件，还可列举出有防反射膜、硬涂膜、用于触摸面板的透明导电性膜等光学用膜。
根据本发明的光学部件，在将表面保护膜11从作为被粘物的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，可以充分较低抑制剥离静电压。因此，不需担忧损坏驱动IC、TFT元件、栅极线驱动电路等电路部件，可以提高液晶显示面板等制造工序中的生产效率，保持生产工序的可靠性。
实施例
接下来根据实施例来对本发明进行进一步说明。
(实施例1)
(表面保护膜的制作)
将5重量份的加成反应型硅酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，商品名称：SRX-345)、7.5重量份的作为熔点为27.5℃的离子性化合物的三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺(3M公司制造，FC-4400)的10％醋酸乙酯溶液、0.3重量份的聚醚改性硅酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，商品名称：SH8400)、95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、0.05重量份的铂催化剂(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，商品名称：SRX-212)混合，进行搅拌混合，制备用于形成实施例1的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上使用迈耶棒涂布用于形成实施例1的剥离剂层的涂料，使干燥后的厚度为0.2μm，使用120℃的热风循环式烘箱进行干燥1分钟，得到实施例1的剥离膜。另一方面，相对于将30重量份的丙烯酸酯共聚物溶解于70重量份的醋酸乙酯而成的粘着剂聚合物溶液(固体成分为30％的醋酸乙酯溶液)100重量份，添加并混合1.2重量份的HDI类固化剂(TOSOH CORPORATION制造，商品名称：CORONATE(注册商标)HX)，制备实施例1的粘着剂组合物，其中，所述丙烯酸酯共聚物通过以96:4的重量比将丙烯酸2-乙基已酯和丙烯酸2-羟乙酯共聚而成，其重均分子量为47万。此外，“HDI类”是指“六亚甲基二异氰酸酯类”。
在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上以使干燥后的厚度为20μm的方式涂布实施例1的粘着剂组合物后，使用100℃的热风循环烘箱进行干燥2分钟，形成粘着剂层。之后，在该粘着剂层的表面上，贴合上述制备的实施例1的剥离膜的剥离剂层(硅酮处理面)。将所得的粘着膜在40℃的环境下保温5天，使粘着剂层固化，得到实施例1的表面保护膜。
(比较例1)
将5重量份的加成反应型硅酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，商品名称：SRX-345)，95重量份的甲苯与醋酸乙酯为1:1的混合溶剂、0.05重量份的铂催化剂(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，商品名称：SRX-212)混合，进行搅拌混合，制备用于形成比较例1的剥离剂层的涂料。在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，使用迈耶棒将用于形成比较例1的剥离剂层的涂料以干燥后的厚度为0.2μm的方式涂布，使用120℃的热风循环烘箱进行干燥1分钟，获取比较例1的剥离膜。另一方面，相对于100重量份的实施例1的粘着剂聚合物溶液(固体成分为30％的醋酸乙酯溶液)，添加并混合3重量份的作为熔点为27.5℃的离子性化合物的三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺(3M公司制造，FC-4400)的10％醋酸乙酯溶液、1.2重量份的HDI类固化剂(TOSOH CORPORATION制造，商品名称：CORONATE(注册商标)HX)，制备比较例1的粘着剂组合物。
在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上以使干燥后的厚度为20μm的方式涂布比较例1的粘着剂组合物后，使用100℃的热风循环干燥箱进行干燥2分钟，形成粘着剂层。之后，在该粘着剂层的表面上，贴合上述制备的比较例1的剥离膜的剥离剂层(硅酮处理面)。将所得的粘着膜在40℃的环境下保温5天，使粘着剂层固化，获取比较例1的表面保护膜。
(比较例2)
除使粘着剂层中不含有作为熔点为27.5℃的离子性化合物的三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺之外，与比较例1同样地，得到比较例2的表面保护膜。
(比较例3)
除使剥离剂层中不含有聚醚改性硅酮之外，与实施例1同样地，得到比较例3的表面保护膜。
(实施例2)
除了替代实施例1的粘着剂组合物，使用相对于将30重量份的丙烯酸酯共聚物溶解于70重量份的醋酸乙酯而成的粘着剂聚合物溶液(固体成分为30％的醋酸乙酯溶液)100重量份，添加并混合1.2重量份的HDI类固化剂(TOSOH CORPORATION制造，商品名称：CORONATE(注册商标)HX)而成的粘着剂组合物之外，与实施例1同样地，得到实施例2的表面保护膜，其中，所述丙烯酸酯共聚物通过以60:36:4的重量比将丙烯酸2-乙基已酯、丙烯酸丁酯及丙烯酸2-羟乙酯共聚而成，其重均分子量为48万。
(实施例3)
除了替代实施例1的粘着剂组合物，使用相对于将30重量份的(甲基)丙烯酸酯共聚物溶解于70重量份的醋酸乙酯而成的粘着剂聚合物溶液(固体成分为30％的醋酸乙酯溶液)100重量份，添加并混合1.2重量份的HDI类固化剂(TOSOH CORPORATION制造，商品名称：CORONATE(注册商标)HX)而成的粘着剂组合物之外，与实施例1同样地，得到实施例3的表面保护膜，其中，所述(甲基)丙烯酸酯共聚物通过以86:10:4的重量比将丙烯酸2-乙基已酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、及丙烯酸2-羟乙酯共聚而成，其重均分子量为38万。
以下表示评价试验的方法及结果。
<剥离膜的剥离力的测定方法>
将表面保护膜的样品剪切为宽50mm、长150mm。在23℃×50％RH的试验环境下，使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度沿180°的方向测定剥离剥离膜时的强度，并以此作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
<表面保护膜的粘着力的测定方法>
使用贴合机用双面粘着胶带将防眩光低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)贴合在玻璃板的表面上。然后在偏振片的表面上贴合剪切为宽25mm的表面保护膜之后，在23℃×50％RH的试验环境下保存一天。之后使用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度，沿180°的方向测定剥离表面保护膜时的强度，并以此作为剥离力(N/25mm)。
<表面保护膜的剥离静电压的测定方法>
使用贴合机用双面粘着胶带将防眩光低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)贴合在玻璃板的表面上。然后在偏振片的表面上贴合剪切为宽25mm的表面保护膜之后，在23℃×50％RH的试验环境下保存一天。之后使用高速剥离试验机(TESTER SANGYO CO,.LTD.制造)以每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜，同时使用表面电位计(KEYENCE CORPORATION制造)每10ms测定所述偏振片表面的表面电位，并将此时的表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。
<表面保护膜的表面污染性的确定方法>
使用贴合机用双面粘着胶带将防眩光低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)贴合在玻璃板的表面上。然后在偏振片的表面上贴合剪切为宽25mm的表面保护膜之后，在23℃×50％RH的试验环境下保存3天及30天。之后剥离表面保护膜，目视观察偏振片表面上是否存在污染。作为表面污染性的判定标准，将偏振片上无污染转移的情况评价为(○)，确认到偏振片上有污染的转移的情况评价为(×)。
关于得到的实施例1～3及比较例1～3的表面保护膜，其测定结果如表1～2所示。“2EHA”为丙烯酸2-乙基已酯、“HEA”为丙烯酸2-羟乙酯，“BA”为丙烯酸丁酯、“#400G”为甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、“FC4400”为三正丁基甲铵双(三氟甲磺酰)亚胺。在表1、2中，以粘着剂聚合物(固体成分)的总量为约100重量份的方式，用重量份表示粘着剂层的组成。因此，在比较例1的粘着剂层中，粘着剂聚合物(固体成分)与FC4400的重量比例为30重量份：0.3重量份＝100重量份：1.0重量份。
[表1]
[表2]
根据表1及表2中所示的测定结果，可以得到以下结论。
本发明的实施例1～3的表面保护膜具有适度的粘着力，对被粘物表面没有污染，且将表面保护膜从被粘物所剥离时的剥离静电压低。
另一方面，在粘着剂层中含有抗静电剂的比较例1的表面保护膜，将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压低，良好，但是在剥离后对被粘物的污染增多。
此外，在表面保护膜的粘着剂层及剥离膜的剥离剂层这两者中均不含抗静电剂的比较例2的表面保护膜中，对被粘物的污染性良好，但是将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压增高。
即，在表面保护膜的粘着剂层中含有抗静电剂的比较例1的表面保护膜、以及在表面保护膜的粘着剂层及剥离膜的剥离剂层中均不含抗静电剂的比较例2的表面保护膜中，难以兼顾降低剥离静电压与对被粘物的污染性。
另一方面，在使剥离膜的剥离剂层中含有抗静电剂与抗静电助剂之后，只在粘着剂层的表面上转印有剥离剂层的抗静电剂与抗静电助剂的实施例1～3的表面保护膜中，由于通过添加少量的抗静电助剂，就具有剥离静电压的显著降低效果，因此，无对被粘物的污染，抗剥离静电性能也良好。
此外，在剥离剂层中只含有抗静电剂而不含抗静电助剂的比较例3的表面保护膜中，无对被粘物的污染，抗剥离静电性能也良好。然而，若与在剥离剂层中含有抗静电剂与抗静电助剂的实施例1～3的表面保护膜相比，则剥离静电压增高。
工业实用性
本发明的表面保护膜在例如偏振片、相位差板、镜片膜等光学用膜及其它各种光学部件的生产工序中，能够贴合于该光学部件等的表面以保护表面。此外，本发明的表面保护膜可以较低地抑制将表面保护膜从被粘物上剥离时所产生的静电压量，并且抗剥离静电性能的经时变化以及对被粘物的污染少，可以提高生产工序的成品率，在产业上的利用价值大。