抗静电表面保护膜.pdf

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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201610076790.0 (22)申请日 2016.02.03 (30)优先权数据 2015-062452 2015.03.25 JP (71)申请人 藤森工业株式会社 地址 日本东京都 (72)发明人 小林弘幸新见洋人春日充 铃木千惠五十嵐智美 木俣绘美子林益史 (74)专利代理机构 北京路浩知识产权代理有限 公司 11002 代理人 谢顺星张晶 (51)Int.Cl. C09J 7/02(2006.01) C09J 133/08(2006.01) (54)发明名称 抗静电。

2、表面保护膜 (57)摘要 本发明提供一种抗静电表面保护膜， 其对被 粘物的污染少， 且不会经时劣化地具有优异的剥 离抗静电性能。 所述抗静电表面保护膜(10)的特 征在于， 在由具有透明性的树脂形成的基材膜 (1)的一个面上， 依次层叠有不含抗静电剂的粘 结剂层(2)、 抗静电剂层(3)、 经剥离处理的剥离 膜(4)。 权利要求书1页 说明书10页 附图1页 CN 106010322 A 2016.10.12 CN 106010322 A 1.一种抗静电表面保护膜， 其特征在于， 在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一个 面上， 依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层、 抗静电剂层、 经剥离处理的剥离。

3、膜。 2.根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜， 其特征在于， 所述抗静电剂层含有选自由 碱金属盐、 离子化合物所构成的组中的一种。 3.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜， 其特征在于， 所述不含抗静电剂的粘 结剂层是使用丙烯酸类粘结剂组合物而形成的。 4.根据权利要求13中任一项所述的抗静电表面保护膜， 其特征在于， 所述抗静电剂 层的厚度为0.010.3 m。 权利要求书 1/1 页 2 CN 106010322 A 2 抗静电表面保护膜 技术领域 0001 本发明涉及一种贴合于偏振片、 相位差板、 显示器用透镜膜(lensefilm)等光学 部件(以下、 有时也称作光学用膜)表面。

4、的抗静电表面保护膜。 更详细而言， 本发明提供一种 抗静电表面保护膜， 其对被粘物的污染少， 且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能 (peelingantistaticperformance)。 背景技术 0002 在制造、 搬运偏振片、 相位差板、 显示器用透镜膜、 抗反射膜、 硬涂膜、 触摸面板用 透明导电性膜等光学用膜及使用了它们的显示器等光学制品时， 在该光学用膜的表面贴合 表面保护膜， 以防止后续工序中的表面污垢和损伤。 作为制品的光学用膜的外观检查为了 节省剥下表面保护膜再进行贴合的程序， 提高工作效率， 有时也以表面保护膜贴合于光学 用膜的状态直接进行。 0003 长期以来，。

5、 在光学制品的制造工序中， 为了防止损伤或污垢的附着， 通常使用在基 材膜的一个面上设有粘结剂层的表面保护膜。 表面保护膜经由弱粘结力的粘结剂层贴合于 光学用膜上。 将粘结剂层设为弱粘结力， 是为了将使用过的表面保护膜从光学用膜的表面 上剥离去除时， 能够容易剥离， 且粘结剂不附着残留在作为被粘物的制品的光学用膜上(防 止所谓的残胶的产生)。 0004 近年来， 在液晶显示面板的生产工序中， 如下现象虽然产生件数少， 但还是存在： 由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离去除时产生的剥离静电压， 用于控制液晶显示 面板的显示画面的驱动IC等电路元件被破坏、 液晶分子的取向损坏。 0005 此外，。

6、 为了降低液晶显示面板的耗电， 液晶材料的驱动电压变低， 驱动IC的击穿电 压也随之变低。 最近开始谋求使剥离静电压在+0.7kV-0.7kV的范围内。 0006 因此， 在将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时， 为了防止因剥离静电 压高而导致的不良状况， 人们提出了一种用于将剥离静电压抑制为低剥离静电压的、 使用 了含有抗静电剂的粘结剂层的表面保护膜。 0007 例如， 在专利文献1中， 公开了一种表面保护膜， 其使用了由烷基三甲基铵盐、 含有 羟基的丙烯酸类聚合物、 聚异氰酸酯构成的粘结剂。 0008 此外， 在专利文献2中， 公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合物的粘结 片类。

7、， 所述粘结剂组合物由离子液体及酸值为1.0以下的丙烯酸聚合物构成。 0009 此外， 在专利文献3中， 公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合物的表面 保护膜， 所述粘结组合物由丙烯酸聚合物、 聚醚多元醇化合物、 经阴离子吸附性化合物处理 过的碱金属盐构成。 0010 此外， 在专利文献4中， 公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合物的表面 保护膜， 所述粘结剂组合物由离子液体、 碱金属盐、 玻璃化转变温度为0以下的聚合物构 成。 0011 此外， 在专利文献5、 6中， 公开了在表面保护膜的粘结剂层中混合聚醚改性有机 说明书 1/10 页 3 CN 106010322 A 3 硅。。

8、 0012 现有技术文献 0013 专利文献 0014 专利文献1： 特开2005-131957号公报 0015 专利文献2： 特开2005-330464号公报 0016 专利文献3： 特开2005-314476号公报 0017 专利文献4： 特开2006-152235号公报 0018 专利文献5： 特开2009-275128号公报 0019 专利文献6： 专利第4537450号公报 发明内容 0020 本发明要解决的技术问题 0021 在上述专利文献14中， 虽然在粘结剂层的内部添加了抗静电剂， 但粘结剂层的 厚度越厚， 或贴合于被粘物的时间越久， 对于贴合有表面保护膜的被粘物， 从粘结剂层。

9、转移 到被粘物的抗静电剂的量也越多。 此外， 在LR(LowReflective， 低反射)偏振片、 AG(Anti Glare， 防眩光)-LR偏振片等光学用膜中， 光学用膜的表面经有机硅化合物或氟化合物等进 行了防污染处理， 因此将用于这种光学用膜的表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离 时的剥离静电压变高。 0022 此外， 在专利文献5、 6所述的在粘结剂层中混合聚醚改性有机硅的情况下， 难以对 表面保护膜的粘结力进行微调整。 此外， 由于在粘结剂层内混有聚醚改性有机硅， 若将粘结 剂组合物涂布于基材膜上并干燥的条件发生改变， 则形成有表面保护膜的粘结剂层的表面 的特性发生微妙的变化。。

10、 更进一步， 从保护光学用膜的表面的角度考虑， 无法使粘结剂层的 厚度极薄。 因此， 需要根据粘结剂层的厚度增加混入粘结剂层内的聚醚改性有机硅的添加 量， 结果被粘物表面易于被污染， 粘结力、 对被粘物的污染性发生经时变化。 0023 近年， 随着3D显示器(立体显示器)的普及， 在偏振片等光学用膜的表面有时贴合 有FPR(FilmPatternedRetarder(薄膜式图案化相位延迟)膜。 在将贴合于偏振片等光学 用膜的表面的表面保护膜剥下后， 贴合FPR膜。 但是， 偏振片等光学用膜的表面若被用于表 面保护膜的粘结剂或抗静电剂污染， 则存在FPR膜难以粘接的问题。 因此， 对于该用途的表。

11、 面保护膜， 谋求一种对被粘物的污染少的膜。 0024 另一方面， 在一些液晶面板制造商中， 作为表面保护膜对被粘物的污染性的评价 方法， 采用如下方法， 先将贴合于偏振片等光学用膜的表面保护膜剥下， 以混入有气泡的状 态再次贴合， 以规定条件进行加热处理， 然后， 剥下表面保护膜， 观察被粘物的表面。 在这种 评价方法中， 即使被粘物的表面污染为微量， 若在混入气泡的部分和表面保护膜的与粘结 剂接触的部分， 被粘物的表面污染有差别， 则以气泡痕迹(有时也称为气泡斑(日语： 気泡 )的形式残留。 因此， 作为这种对被粘物的表面的污染性的评价方法， 成为非常严格的评 价方法。 近年来谋求一种表面。

12、保护膜， 该表面保护膜即使在由这种严格的评价方法所判定 的结果中， 在对被粘物的表面的污染性上也不存在问题。 但是， 以往所提出的使用了含有抗 静电剂的粘结剂层的表面保护膜处于难以解决该技术问题的状况。 0025 因此， 需要一种表面保护膜， 该表面保护膜用于光学用膜中， 对被粘物的污染非常 说明书 2/10 页 4 CN 106010322 A 4 少， 且对被粘物的污染性不会经时变化。 更进一步， 谋求一种将从被粘物剥离时的剥离静电 压抑制为低剥离静电压的表面保护膜。 0026 本申请发明人为了解决这些技术问题进行了认真的研究。 0027 为了对被粘物的污染少， 且使抗静电性能的经时变化小。

13、， 需要减少被推测为污染 被粘物的原因的抗静电剂的添加量。 但是， 在减少抗静电剂的添加量的情况下， 将表面保护 膜从被粘物剥离时的剥离静电压会增高。 本申请发明人对不增加抗静电剂添加量的绝对量 而将表面保护膜从被粘物剥离时的剥离静电压抑制为低剥离静电压的方法进行了研究。 结 果发现了： 不是通过在粘结剂组合物中添加抗静电剂而混合形成粘结剂层， 而是通过在涂 布、 干燥粘结剂组合物并层叠粘结剂层后， 向粘结剂层的表面赋予适量抗静电剂成分， 将表 面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离静电压抑制为低剥离静电压， 进而完成 了本发明。 0028 本发明是考虑了上述情况而完成的， 技术课题在于。

14、提供一种抗静电表面保护膜， 其对被粘物的污染少， 且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。 0029 解决技术问题的技术手段 0030 本发明的抗静电表面保护膜在涂布、 干燥粘结剂组合物并层叠粘结剂层后， 在该 粘结剂层的表面上， 形成存在含抗静电剂材料的抗静电剂层。 因此本发明的技术思想为， 在 将对被粘物的污染性抑制为低污染性的基础上， 将从作为被粘物的光学用膜剥离时的剥离 静电压抑制为低剥离静电压。 0031 为了解决上述技术问题， 本发明提供一种抗静电表面保护膜， 其特征在于， 在由具 有透明性的树脂形成的基材膜的一个面上依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层、 抗静电剂 层、 以及经剥离。

15、处理的剥离膜。 0032 此外， 优选所述抗静电剂层含有选自由碱金属盐、 离子化合物所构成的组中的一 种。 0033 此外， 优选所述不含抗静电剂的粘结剂层使用丙烯酸类粘结剂组合物来形成。 0034 此外， 优选所述抗静电剂层的厚度为0.010.3 m。 0035 发明效果 0036 本发明的抗静电表面保护膜对被粘物的污染少， 且对被粘物的低污染性不会经时 变化。 此外， 根据本发明， 能够提供一种抗静电表面保护膜， 其即使为LR偏振片或AG-LR偏振 片等被粘物的表面通过有机硅化合物或氟化合物等进行了防污染处理的光学用膜， 也能够 将抗静电表面保护膜从被粘物上剥离时产生的剥离静电压抑制为低剥。

16、离静电压， 不会经时 劣化地具有优异的剥离抗静电性能。 0037 根据本发明的抗静电表面保护膜， 由于能够确实地保护光学用膜的表面， 因此能 够预期生产性的提高及成品率的提高。 附图说明 0038 图1为本发明的抗静电表面保护膜的示意性截面图； 0039 图2为表示从本发明的抗静电表面保护膜上剥下剥离膜的状态的截面图； 0040 图3为表示将本发明的抗静电表面保护膜贴合于光学部件上的一个实施例的截面 图。 说明书 3/10 页 5 CN 106010322 A 5 0041 附图标记说明 0042 1为基材膜， 2为粘结剂层， 3为抗静电剂层， 4为剥离膜， 5为光学部件， 10为抗静电 表面。

17、保护膜， 11为剥下了剥离膜的抗静电表面保护膜， 20为贴合了抗静电表面保护膜的光 学部件。 具体实施方式 0043 以下， 根据实施的方式对本发明进行详细说明。 0044 图1为本发明的抗静电表面保护膜的示意性截面图。 该抗静电表面保护膜10在透 明的基材膜1的一个面的表面上形成有不含抗静电剂的粘结剂层2。 在该粘结剂层2的表面 上形成有存在含抗静电剂材料的抗静电剂层3， 更进一步， 在抗静电剂层3的表面上贴合有 经剥离处理的剥离膜4。 0045 作为用于本发明的抗静电表面保护膜10的基材膜1， 使用由具有透明性及可挠性 的树脂形成的基材膜。 如此， 能够以抗静电表面保护膜贴合于作为被粘物的。

18、光学部件上的 状态， 进行光学部件的外观检查。 用作基材膜1的具有透明性的树脂膜适宜使用聚对苯二甲 酸乙二醇酯、 聚萘二甲酸乙二醇酯、 聚间苯二甲酸乙二醇酯、 聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯 膜。 除了聚酯膜之外， 只要是具有所需强度、 且具有光学特性(opticalaptitude)的膜， 由 其他树脂构成的膜也可以使用。 基材膜1可以是无拉伸膜， 也可以是经单轴或双轴拉伸的 膜。 此外， 也可以将拉伸膜的拉伸倍率、 随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的取向角度控制 为特定的值。 0046 用于本发明的抗静电表面保护膜10的基材膜1的厚度没有特别的限定， 例如， 优选 为12100 m左右的厚度。 。

19、更进一步， 基材膜1若为2050 m左右的厚度则便于操作， 更优 选。 0047 此外， 可以根据需要， 在基材膜1的形成有粘结剂层2的面的相反侧面上， 设置防止 表面污垢的防污层、 抗静电层、 防损伤的硬涂层等。 此外， 在基材膜1的表面上可以施加经由 电晕放电的表面改性、 涂布锚涂剂等易粘接处理。 0048 此外， 用于本发明的抗静电表面保护膜10的粘结剂层2只要是粘接于被粘物的表 面来保护被粘物后， 能够从被粘物上简单剥下， 且难以污染被粘物的粘结剂即可， 没有特别 的限定。 但是， 若考虑贴合于光学用膜后的耐久性等， 优选使用由(甲基)丙烯酸酯共聚物交 联而成的丙烯酸类粘结剂组合物来形。

20、成粘结剂层。 0049 作为(甲基)丙烯酸酯共聚物， 可列举出使正丁基丙烯酸酯、 2-乙基己基丙烯酸酯、 异辛基丙烯酸酯、 异壬基丙烯酸酯等主要单体与丙烯腈、 醋酸乙烯酯、 甲基丙烯酸甲酯、 丙 烯酸乙酯等共聚单体、 丙烯酸、 甲基丙烯酸、 羟基乙基丙烯酸酯、 羟基丁基丙烯酸酯、 缩水甘 油基甲基丙烯酸酯、 N-羟甲基甲基丙烯酰胺等官能性单体共聚而成的共聚物。 (甲基)丙烯 酸酯共聚物可以主要单体及共聚单体均为(甲基)丙烯酸酯， 作为共聚单体， 可以含有1种或 2种以上(甲基)丙烯酸酯以外的单体。 0050 此外， 在(甲基)丙烯酸酯共聚物中， 可以将含有聚氧亚烷基的化合物共聚， 也可将 其混。

21、合。 作为含有可共聚的聚氧亚烷基的化合物， 可列举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、 聚 乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯， 甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、 甲氧基聚乙二醇(400)甲基 丙烯酸酯、 聚丙二醇(400)单丙烯酸酯、 聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、 甲氧基聚丙二醇 说明书 4/10 页 6 CN 106010322 A 6 (400)丙烯酸酯、 甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等。 通过使这些含有聚氧亚烷基的单 体与所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的主要单体、 官能性单体共聚， 能够得到由含有聚氧亚烷 基的共聚物形成的粘结剂。 0051 作为可混合于(甲基)丙烯酸酯共聚物中的含。

22、有聚氧亚烷基的化合物， 优选为含有 聚氧亚烷基的(甲基)丙烯酸酯共聚物， 更优选为含有聚氧亚烷基的(甲基)丙烯酸类单体的 聚合物。 例如， 可列举出聚乙二醇(400)单丙烯酸酯、 聚乙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、 甲氧 基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、 甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、 聚丙二醇(400)单丙烯酸 酯、 聚丙二醇(400)单甲基丙烯酸酯、 甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、 甲氧基聚丙二醇 (400)甲基丙烯酸酯等的聚合物。 通过将这些含有聚氧亚烷基的化合物与所述(甲基)丙烯 酸酯共聚物混合， 能够获得添加有含有聚氧亚烷基的化合物的粘结剂。 0052 作为添加于粘结剂层2。

23、的固化剂而言， 作为使(甲基)丙烯酸酯共聚物交联的交联 剂， 可列举出异氰酸酯化合物、 环氧化合物、 三聚氰胺化合物、 金属螯合物等。 此外， 作为增 粘剂， 可列举出松香类、 古马隆茚类(coumaroneindene)、 萜类(terpene)、 石油类、 酚类等。 0053 用于本发明的抗静电表面保护膜10的粘结剂层2的厚度没有特别的限定， 例如， 优 选为540 m左右的厚度， 更优选为1030 m左右的厚度。 0054 作为在基材膜1的表面上形成粘结剂层2的方法， 以公知的方法进行即可， 具体而 言， 可使用反向涂布法、 逗号刮刀涂布法(CommaCoating )、 凹版涂布法(g。

24、ravure coating)、 夹缝式挤压型涂布法(slotdiecoating)、 迈耶棒涂布法、 气刀涂布法等公知的 涂布方法。 0055 此外， 本发明的抗静电表面保护膜10所使用的、 用于形成抗静电剂层3的含抗静电 剂材料可列举出抗静电剂单体、 抗静电剂与各种树脂的混合物等。 0056 作为抗静电剂， 可列举出表面活性剂类、 离子液体、 碱金属盐、 金属酸化物、 金属微 粒， 导电性聚合物、 碳、 碳纳米管等， 从透明性和对(甲基)丙烯酸类聚合物的亲和性等方面 考虑， 优选为表面活性剂类、 离子化合物、 碱金属盐。 0057 此外， 作为用于抗静电剂与各种树脂的混合物的树脂， 可列举。

25、出聚酯类树脂、 聚酰 胺类树脂、 聚氨酯类树脂、 聚烯烃树脂、 聚乙烯醇缩丁醛树脂、 聚乙烯醇树脂、 聚醋酸乙烯酯 树脂、 纤维素树脂、 有机硅树脂、 氟树脂等。 0058 作为表面活性剂， 可列举出非离子型、 阳离子型、 阴离子型、 两性型等。 作为非离子 型表面活性剂， 可列举出聚氧乙烯烷基醚类、 聚氧乙烯烷基苯基醚类、 山梨醇酐脂肪酸酯 类、 聚氧乙烯山梨醇酐脂肪酸酯类、 聚氧乙烯脂肪酸酯类、 甘油脂肪酸酯类、 丙二醇脂肪酸 酯类、 聚氧化烯改性有机硅类等。 0059 作为阳离子型表面活性剂， 可列举出烷基三甲基铵盐类、 二烷基二甲基铵盐类、 烷 基苄基二甲基铵盐类等。 0060 作为阴。

26、离子类表面活性剂， 可列举出单烷基硫酸盐类、 烷基聚氧乙烯硫酸盐类、 烷 基苯磺酸盐类、 单烷基磷酸盐类等。 0061 作为两性型表面活性剂， 可列举出烷基二甲基氧化胺、 烷基羧基甜菜碱等。 0062 离子化合物是指由阴离子与阳离子构成的、 常温下为液体的离子液体与常温下为 固体的离子固体。 作为阳离子部分， 可列举出有机阳离子或无机阳离子， 例如， 咪唑鎓离子 等环状脒离子、 吡啶鎓离子、 铵离子、 锍离子、 鏻离子等。 此外， 作为阴离子部分， 可列举出有 说明书 5/10 页 7 CN 106010322 A 7 机阴离子或无机阴离子， 例如， CnH2n+1COO-、 CnF2n+1C。

27、OO-、 NO3-、 CnF2n+1SO3-、 (CnF2n+1SO2)2N-、 (CnF2n+1SO2)3C-、 PO43-、 AlCl4-、 Al2Cl7-、 ClO4-、 BF4-、 PF6-、 AsF6-、 SbF6-等。 上述式中， 角标n为0以 上的整数。 在n0的情况下， 相应为HCOO-、 (FSO2)2N-等。 0063 作为碱金属盐， 可列举出由锂、 钠、 钾形成的金属盐。 具体而言， 例如， 可适宜地使 用Li+、 Na+、 K+组成的阳离子与Cl-、 Br-、 I-、 BF4-、 PF6-、 SCN-、 ClO4-、 CF3SO3-、 (FSO2)2N-、 (CF3SO。

28、2)2N-、 (C2F5SO2)2N-、 (CF3SO2)3C-组成的阴离子所构成的金属盐。 其中， 特别优选使用 LiBr、 LiI、 LiBF4、 LiPF6、 LiSCN、 LiClO4、 LiCF3SO3、 Li(FSO2)2N、 Li(CF3SO2)2N、 Li(C2F5SO2)2N、 Li(CF3SO2)3C等锂盐。 这些碱金属盐可以单独使用， 或者可以2种以上混合使用。 为了离子物 质的稳定化， 可以添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。 0064 抗静电剂层3的干燥后的涂布膜的厚度是考虑抗静电剂的种类及其抗静电性、 被 粘物污染性而决定的即可， 但优选为0.3 m以下。 抗静电剂层3。

29、的厚度若超过0.3 m， 在表面 保护膜贴合于被粘物时， 粘结剂组合物的成分难以从形成抗静电剂层的树脂之间出现在表 面保护膜与被粘物的界面上， 粘结剂层2的粘结力达不到规定值， 因此不优选。 抗静电剂层3 的厚度例如为0.010.3 m。 0065 从将抗静电表面保护膜10(具体为图2所示的剥下剥离膜的抗静电表面保护膜11) 由被粘物上剥下时的操作性优异的方面考虑， 将抗静电表面保护膜10从被粘物的表面剥离 时的剥离强度(粘结力)优选为0.030.3N/25mm左右的弱粘结力。 0066 此外， 从将剥离膜4由抗静电表面保护膜10上剥下时的操作性优异的方面考虑， 将 剥离膜4从抗静电剂层3上剥。

30、离时的剥离力优选为0.2N/50mm以下。 0067 此外， 在本发明的抗静电表面保护膜10中， 在粘结剂层2的表面形成抗静电剂层3 的方法没有特别的限定。 例如， 可列举出以下方法： (1)使剥离膜4的剥离剂层中含有上述含 抗静电剂材料， 将剥离膜4贴合于粘结剂层2时转印至粘结剂层2的方法； (2)在粘结剂层2的 表面上印刷上述含抗静电剂材料的方法； (3)在粘结剂层2的表面上涂布上述含抗静电剂材 料的方法等。 对于上述含抗静电剂材料的印刷、 涂布， 可以进行均匀的印刷、 涂布， 或者也可 以特定的图案进行印刷、 涂布。 只要考虑抗静电表面保护膜对于被粘物的、 粘结剂层的粘结 力等而决定即可。

31、。 对于含抗静电剂材料的印刷、 涂布的方法， 可使用公知的方法进行。 0068 图1所示的用于本发明的抗静电表面保护膜10所使用的剥离膜4的树脂没有特别 的限定。 作为剥离膜4， 例如， 可例示出聚酯膜、 聚酰胺膜、 聚乙烯膜、 聚丙烯膜、 聚酰亚胺膜 等树脂膜的一个面经有机硅类剥离剂、 含长链烷基的树脂、 氟树脂等剥离剂处理的剥离膜， 或使聚乙烯树脂、 聚丙烯树脂、 聚甲基戊烯树脂、 氟树脂等具有离型性的树脂膜化的剥离 膜。 0069 剥离膜的厚度没有特别的限定， 例如， 优选为12100 m左右的厚度， 若为2050 m左右的厚度则容易操作， 故而更优选。 0070 图2为表示从本发明的抗。

32、静电表面保护膜上剥下剥离膜的状态的截面图。 在图2所 示的剥下了剥离膜的抗静电表面保护膜11中， 在粘结剂层2的表面上设置有抗静电剂层3。 0071 图3为表示将本发明的抗静电表面保护膜贴合于光学部件上的实施例的截面图。 0072 本发明的抗静电表面保护膜10剥下了经剥离处理的剥离膜4， 以露出抗静电剂层3 的状态(图2的抗静电表面保护膜11)， 经由该抗静电剂层3贴合于作为被粘物的光学部件5 上。 说明书 6/10 页 8 CN 106010322 A 8 0073 即， 图3表示了贴合有从本发明的抗静电表面保护膜10上剥下剥离膜4的状态的抗 静电表面保护膜11的光学部件20。 作为光学部件。

33、， 可列举出偏振片、 相位差板、 透镜膜、 兼用 为相位差板的偏振片、 兼用为透镜膜的偏振片等光学用膜。 这样的光学部件可用作液晶显 示面板等液晶显示装置、 各种计量仪器类的光学类装置等的构成部件。 此外， 作为光学部 件， 可列举出抗反射膜、 硬涂膜、 触摸面板用透明导电性膜等光学用膜。 特别是可适宜地用 作表面通过有机硅化合物、 氟化合物等进行了防污染处理的低反射处理偏振片(LR偏振 片)、 防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)等光学用膜的、 经防污染处理的面上贴合的抗 静电表面保护膜。 0074 将从本发明的抗静电表面保护膜10剥下剥离膜4的状态的抗静电表面保护膜11从 作为被粘物的。

34、光学部件(光学用膜)上剥离去除时， 能够充分低地抑制剥离静电压。 因此， 没 有击穿驱动IC、 TFT元件、 栅线驱动电路等电路元件的可能性， 能够提高在制造液晶显示面 板的工序中的生产效率， 确保生产工序的可靠性。 0075 实施例 0076 接着， 通过实施例对本发明进行进一步说明。 0077 (实施例1) 0078 (抗静电表面保护膜的制作) 0079 由80重量份2-乙基己基丙烯酸酯、 17重量份甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、 3重量份2-羟基乙基丙烯酸酯的共聚物构成粘接剂， 相对于粘结剂的40醋酸乙酯溶液100 重量份， 搅拌混合2重量份的异氰酸酯类固化剂(东曹社制CORON。

35、ATE(注册商标)HX)， 配制为 粘结剂组合物。 在厚度为38m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面 ， 用涂布装置 (applicator)涂布配制的粘结剂组合物使干燥后的粘结剂层的厚度为20 m。 然后， 使用100 的热风循环式烘箱进行3分钟加热干燥， 得到粘结膜。 然后， 在粘结剂层的表面上， 用4号 迈 耶 棒 涂 布 作 为 抗 静 电 剂 的 双 三 氟 甲 烷 磺 酰 亚 胺 锂 ( L i t h i u m b i s (trifluoromethanesulfonyl)imide)的醋酸乙酯溶液使干燥后的抗静电剂层的厚度为0.1 m， 然后使用100的热风循环式烘箱进行2分钟。

36、加热干燥， 制成在粘结剂层的表面形成有 抗静电剂层的试样。 在该试样的抗静电剂层的表面贴合剥离膜(三菱树脂(株)制Diafoil MRF38， 在厚度为38 m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上经有机硅剥离剂处理而成)， 得 到实施例1的抗静电表面保护膜。 0080 (实施例2) 0081 由70重量份2-乙基己基丙烯酸酯、 20重量份丁基丙烯酸酯、 7重量份甲氧基聚乙二 醇(400)甲基丙烯酸酯、 2重量份2-羟基乙基丙烯酸酯的共聚物构成粘结剂， 相对于粘接剂 的40醋酸乙酯溶液100重量份， 搅拌混合1重量份异氰酸酯类固化剂(东曹社制CORONATE (注册商标)HX)， 配制为粘结剂组合物。

37、。 在厚度为38 m的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面 上， 用涂布装置涂布配制的粘结剂组合物使干燥后的粘结剂层的厚度为20 m。 然后， 使用 100的热风循环式烘箱进行3分钟加热干燥， 得到粘结膜。 然后， 在粘结剂层的表面上， 用4 号迈耶棒涂布作为抗静电剂的双氟磺酰亚胺锂(Lithiumbis(fluorosulfonyl)imide)的 醋酸乙酯溶液使干燥后的抗静电剂层的厚度为0.05 m， 然后使用100的热风循环式烘箱 进行2分钟加热干燥， 制成在粘结剂层的表面上形成有抗静电剂层的试样。 在该试样的抗静 电剂层的表面上贴合剥离膜(三菱树脂(株)制DiafoilMRF38， 在厚度为3。

38、8 m的聚对苯二甲 说明书 7/10 页 9 CN 106010322 A 9 酸乙二醇酯膜的表面上经有机硅剥离剂处理而成)， 得到实施例2的抗静电表面保护膜。 0082 (实施例3) 0083 除了将实施例1的抗静电剂层的干燥后的厚度设为0.3 m以外， 以与实施例1相同 的方式， 得到实施例3的抗静电表面保护膜。 0084 (实施例4) 0085 除了将实施例1的抗静电剂变更为双三氟甲磺酰亚胺三正丁基甲铵(tri-n- butylmethylammoniumbis-(trifluoromethanesulfonyl)imide， 3MJapan社制， 商品编 号： FC-4400)以外， 。

39、以与实施例1相同的方式， 得到实施例4的抗静电表面保护膜。 0086 (比较例1) 0087 在实施例1的粘结剂组合物中， 以固含量比例为100:1.5的方式混合实施例1的抗 静电剂， 涂布混有抗静电剂的粘结剂组合物使干燥后的粘结剂层的厚度为20 m， 从而代替 在粘结剂层上层叠抗静电剂层， 除此之外， 以与实施例1相同的方式， 得到比较例1的抗静电 表面保护膜。 0088 (比较例2) 0089 除了未设置抗静电剂层以外， 以与实施例1相同的方式， 得到比较例2的表面保护 膜。 0090 (比较例3) 0091 除了使抗静电剂层的干燥后的厚度为0.5 m以外， 以与实施例1相同的方式， 得到。

40、 比较例3的抗静电表面保护膜。 0092 以下， 示出评价试验的方法及结果。 0093 剥离膜的剥离力的测定方法 0094 将抗静电表面保护膜的试样剪裁成宽度50mm、 长度150mm。 在2350RH的试验 环境下， 用拉伸试验机以300mm/分钟的剥离速度在180 的方向上， 测定将剥离膜从抗静电 剂层上剥离时的强度， 将其作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。 0095 (抗静电剂的表面的表面电阻率的测定方法) 0096 将剥离膜从抗静电表面保护膜的试样剥离后， 使用高电阻电阻率计(三菱化学 Analytech社制Hiresta(注册商标)-UP)， 在施加电压100V、 测定时间30秒的。

41、条件下测定抗 静电剂层的表面的表面电阻率。 0097 抗静电表面保护膜的粘结力的测定方法 0098 使用贴合机， 在玻璃板的表面贴合防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)。 然后， 在偏振片的表面上贴合剪裁成宽度25mm的抗静电表面保护膜后， 在2350RH的试验环 境下保存1天。 然后， 使用拉伸试验机， 以300mm/分钟的剥离速度在180 的方向上， 测定剥离 抗静电表面保护膜时的强度， 将其作为粘结力(N/25mm)。 0099 抗静电表面保护膜的剥离静电压的测定方法 0100 使用贴合机， 在玻璃板的表面贴合防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)。 然后， 在偏振片的表面上经由抗。

42、静电剂层贴合剪裁成宽度25mm的抗静电表面保护膜后， 在23 50RH的试验环境下保存1天。 然后， 使用高速剥离试验机(Tester产业制)以每分钟40m的 剥离速度剥离抗静电表面保护膜， 同时使用表面电位计(Keyence(株)制)每10ms测定一次 所述偏振片表面的表面电位， 将此时的表面电位的绝对值的最大值作为剥离静电压(kV)。 说明书 8/10 页 10 CN 106010322 A 10 0101 抗静电表面保护膜的表面污染性的确认方法 0102 使用贴合机， 在玻璃板的表面贴合防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)。 然后， 在偏振片的表面上经由抗静电剂层贴合剪裁成宽度25m。

43、m的抗静电表面保护膜后， 在23 50RH的试验环境下保存3天及30天。 然后， 剥下抗静电表面保护膜， 以目视观察偏振片的 表面的污染性。 作为表面污染性的判定标准， 以偏振片上无污染转移的情况评为()， 确认 到偏振片上有污染转移的情况评为()。 0103 对于得到的实施例14及比较例13的抗静电表面保护膜进行测定的测定结果 如表1及表2所示。“LiTFSI” 意为双三氟甲烷磺酰亚胺锂，“LiFSI” 意为双氟磺酰亚胺锂， “FC-4400” 意为双三氟甲烷磺酰亚胺三正丁基甲铵。 此外， 抗静电剂层的表面的表面电阻率 一栏中的 “4.3E11” 意为4.31011，“超量程(Over-ra。

44、nge)” 意为表面电阻率(/)超过测 定上限值(1.01013以上)， 无法测定。 0104 表1 0105 0106 表2 说明书 9/10 页 11 CN 106010322 A 11 0107 0108 根据表1及表2所示的测定结果可知： 0109 本发明的实施例14的抗静电表面保护膜即使经由抗静电剂层贴合， 仍具有适度 的粘结力， 没有对被粘物的表面的污染， 且将抗静电表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离 静电压低。 0110 另一方面， 在粘结剂层中均匀混合有抗静电剂的比较例1的表面保护膜， 将表面保 护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压低， 为良好， 但在保存30天后， 对被粘物的污染性。

45、发生 经时恶化。 此外， 在粘结剂层的表面未设抗静电剂层的比较例2的表面保护膜， 将表面保护 膜从被粘物上剥离时的剥离静电压变高。 更进一步， 增加了抗静电剂层的厚度的比较例3， 将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压低， 为良好， 但剥离后的对被粘物的污染增 加。 0111 工业实用性 0112 本发明的抗静电表面保护膜能够用于在例如偏振片、 相位差板、 显示器用透镜膜 等光学用膜、 以及其他各种光学部件等生产工序等中， 保护该光学部件等的表面。 特别是在 用作表面用有机硅化合物或氟化合物等进行了防污染处理的、 LR偏振片或AG-LR偏振片等 光学用膜的抗静电表面保护膜的情况下， 在从被粘物上剥离时， 能够减少静电的产生量。 0113 本发明的抗静电表面保护膜对被粘物的污染少， 更进一步， 不会经时劣化地具有 优异的剥离抗静电性能。 因此， 本发明的抗静电表面保护膜能提高各种光学部件等的生产 工序的成品率， 在工业上的利用价值大。 说明书 10/10 页 12 CN 106010322 A 12 图1 图2 图3 说明书附图 1/1 页 13 CN 106010322 A 13 。