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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201480062299.1 (22)申请日 2014.11.06 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 105722552 A (43)申请公布日 2016.06.29 (30)优先权数据 102013019057.6 2013.11.15 DE (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2016.05.13 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/DE2014/000572 2014.11.06 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2015/070832 DE 20。
2、15.05.21 (73)专利权人 奇诺格有限责任公司 地址 德国杜德施塔特 (72)发明人 D万德克L特鲁特威格 K-O施托克M哈恩尔 F帕拉斯克S哈特莱茵 G达施莱恩 (74)专利代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 曾立 (51)Int.Cl. A61N 1/40(2006.01) A61N 1/44(2006.01) A61N 1/04(2006.01) H05H 1/24(2006.01) (56)对比文件 EP 2170022 A1,2010.03.31, EP 2170022 A1,2010.03.31, CN 102711909 A,2012.10.03, C。
3、A 2846684 A1,2013.03.07, CN 102137629 A,2011.07.27, 审查员 刘董敏 (54)发明名称 用于处理活体的体表面的设备 (57)摘要 一种用于借助介电阻挡式等离子体对活体 的体表面进行处理的设备， 其具有面状的、 柔性 电介质(4)， 所述电介质将连接到高压源(3)上的 电极(1)相对于所述体表面屏蔽的并且适用于靠 置在作为反电极起作用的体表面上， 并且所述电 介质构造得具有结构化的表面(7)， 所述表面能 够实现用于在电介质(4)和体表面之间进行等离 子体放电的气体腔， 通过在所述电介质(4)的所 述表面(7)上布置一由固态的、 开孔的、 由进行。
4、护 理或者促进修复的材料制成的基质组成的层 (11)， 实现在不改变所述设备的位置的情况下对 等离子体处理的实施以及进行护理或者进行修 复的物质的供给。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 105722552 B 2018.02.06 CN 105722552 B 1.一种用于借助介电阻挡式等离子体对活体的体表面进行处理的设备， 该设备具有面 状的柔性电介质(4)， 所述电介质将连接到高压源(3)上的电极(1)相对于体表面进行屏蔽， 并且， 所述电介质适用于靠置在作为反电极起作用的体表面上， 并且， 所述电介质构造成具 有结构化表面(7)， 该结构化表面能够实现电介质(4)与体表面之间。
5、进行等离子体放电用的 气体腔， 其特征在于， 在所述电介质(4)的表面(7)上布置有由固态的、 开孔的基质组成的层 (11)， 该基质由护理材料或者促进修复的材料制成。 2.按照权利要求1所述的设备， 其特征在于， 所述层(11)构造为单独的层， 该单独的层 具有相对于所述电介质(4)的结构化表面互补的表面。 3.按照权利要求1或2所述的设备， 其特征在于， 所述层(11)能够与所述电介质(4)一起 弯曲。 4.按照权利要求1或2所述的设备， 其特征在于， 所述电介质(4)的表面的结构化部由突 出的凸起部(8)构成。 5.按照权利要求4所述的设备， 其特征在于， 所述凸起部(8)具有裸露的平坦。
6、的端侧 (9)， 用于靠置在所述体表面上。 6.按照权利要求1至2、 5中任一项所述的设备， 其特征在于， 所述层(11)由可被体吸收 的材料组成。 7.按照权利要求6所述的设备， 其特征在于， 所述层(11)由胶原组成。 8.按照权利要求1所述的设备， 其特征在于， 所述层(11)构造为所述电介质(4)的涂层。 9.按照权利要求8所述的设备， 其特征在于， 所述层通过在所述电介质(4)上生长而形 成。 10.按照权利要求4所述的设备， 其特征在于， 所述层(11)的厚度相当于所述突出的凸 起部(8)的长度。 权利要求书 1/1 页 2 CN 105722552 B 2 用于处理活体的体表面的。
7、设备 技术领域 0001 本发明涉及一种借助于介电阻挡式等离子体来处理活体的体表面的设备， 其具有 面状的柔性电介质， 所述电介质体将连接到高压源上的电极相对于表面进行屏蔽并且适用 于靠置在作为反电极起作用的体表面上， 并且， 所述电介质构造成具有结构化表面， 所述结 构化表面能够实现电介质与体表面之间等离子体放电用的气体腔。 背景技术 0002 DE 10 2009 060 627 A1公开了一种这类的设备。 在此， 面状的柔性电介质在其面 积尺寸设定方面比与高压源连接的电极构造得更大， 从而电介质将电极相对于体表面进行 可靠地屏蔽， 从而安全地避免了皮肤表面上的破坏性的火花电弧(Funke。
8、nberschlag)。 在 此， 电极也可以全面地埋入到电介质中并且仅仅利用连接线路从电介质中引出。 在已公开 的设备的构型中， 电介质能够面状地直接放置在体表面上。 为了能够在此实现等离子体放 电的构造方案， 使电介质的朝向体表面的表面结构化， 从而在电介质与体表面之间构成气 体腔， 在所述气体腔中能够发生等离子体放电。 0003 由于美容的原因能够在健康的体表面上进行体表面的等离子体放电， 例如用以对 体表面进行消毒并且预备体表面用于接着借助有效成分来处理， 由此改进有效成分透过皮 肤的吸收。 此外， 体表面的等离子体处理尤其对于伤口修复的促进、 尤其在伤口是慢性的情 况下对伤口修复的促。
9、进被证明是有效的。 等离子体处理具有强烈的抗菌的作用， 从而借助 于等离子体处理能够中断由于细菌的繁殖而干扰伤口处理的影响。 金黄葡萄球菌、 绿脓杆 菌、 大肠杆菌和其它的有多重抵抗力的病原体尤其属于干扰伤口修复的病菌。 此外， 能够通 过等离子体的作用有利地影响在组织复合物中的微循环。 0004 在常规的技术中使用伤口绷带用于伤口(尤其是慢性伤口)处理， 根据潮湿的伤口 处理的原则， 所述伤口绷带具有无菌的伤口覆盖层， 为了减少病菌， 所述伤口覆盖层设有不 同的抗菌的有效成分。 此外， 以抗菌的方式地冲洗伤口。 在污垢深的情况下， 附加地借助于 外科的方法清洁伤口。 这些方法通常仅仅导致病菌。
10、不充分地减少， 从而不但存在进一步的 感染风险而且存在病菌扩散风险。 在病菌繁殖强烈的情况下、 尤其在生物膜形式的病菌繁 殖强烈的情况下， 以及在高传染性的病原体例如A族链球菌出现的情况下， 伤口修复被延迟 或者总的来说由于感染而被阻止。 有效的、 基于外科的技术的使用的方法是全面扩散的、 痛 苦的， 并且使得有必要进行疼痛处理和/或麻醉。 发明内容 0005 与此相对地， 本发明的任务在于， 提出一种开头提到类型的设备， 借助所述设备能 够以改进的方式处理活体的体表面。 0006 为了解决该任务， 根据本发明， 开头提到的类型的设备的特征在于， 在电介质的表 面上布置有由固态的、 开孔的基质。
11、组成的层， 该基质由护理材料或者促进修复的材料制成。 0007 根据本发明的设备在电介质的表面上具有开孔的材料， 在该材料中能够形成电阻 说明书 1/4 页 3 CN 105722552 B 3 挡式的等离子体放电。 因而， 一方面能够充分利用体表面的等离子体处理的优点， 并且另一 方面能够保持体表面与护理材料或者促进修复的材料相接触。 因此， 为了实施等离子体处 理， 不必放弃与护理材料或者促进修复的材料相接触， 如当等离子体处理和护理或者促进 修复的处理可能先后进行的情况下。 尤其在伤口绷带上， 伤口绷带的摘下对于等离子体处 理的实施可能会是非常有干扰的。 0008 因此， 根据本发明的设。
12、备能够实现采用等离子体处理(优选被反复地实施)与采用 护理材料或者促进修复的材料进行处理的组合形式来对体表面进行处理。 0009 由护理材料或者促进修复的材料所组成的层能够构造为单独的层， 该单独的层具 有相对于电介质的结构化表面相互补的表面。 这是有利的， 因为由此避免了气隙的产生， 从 而在层内部发生统一的等离子体构成。 0010 优选地， 该层如此构造， 使得该层能够随着电介质弯曲。 以此方式， 保持有柔性电 极组件的优点， 所述电极组件与电介质一起也可以安置在不规则地成形的身体部分上。 0011 如在由DE 10 2009 060 627 A1公开的电极组件中所公开的， 对于根据本发明。
13、的 设备也可以产生电介质的表面的、 由突出的凸起部所形成的结构化。 优选地， 所述凸起部具 有用于靠置在体表面上的裸露的(自由的、 可触及的)平坦的端面。 0012 在一种特别优选的实施方式中， 所述层由可被身体吸收的材料组成。 在一种优选 的实施方式中， 所述层由胶原组成， 从而所述层在若干天内被身体吸收。 根据本发明的设备 的优点在于， 在吸收由护理材料或者促进修复的材料(尤其胶原蛋白)组成的层之后， 也能 够进一步对体表面进行等离子体处理。 因而， 在对慢性伤口进行处理的情况下， 也可以在对 胶原蛋白进行修复促进地吸收之后在不改变布置的情况下必要时也可反复地实施等离子 体处理。 0013。
14、 原则上， EP 2 322 232 A2公开了由胶原蛋白制备固态的柔性基质， 如所述制备可 以使用于根据本发明的设备。 因此在此可以省去对该层的制备的描述。 0014 已公开的是， 由修复材料或者护理材料所组成的确定的层也能够生长到塑料载体 上， 因此， 所述层立即与塑料载体牢固地连接。 在这种情况下， 因此所述层不必作为单独的 层制备， 而能够生长到电介质的结构化表面上。 这尤其对于胶原层是有利的。 所生长的层在 此自动地构造成相对于电介质表面的结构化相互补。 0015 根据本发明， 将借助电介质结构化表面的等离子体处理用的设备与由尤其可完全 被身体吸收的修复材料或者护理材料所组成的层的使。
15、用相组合， 这在美容领域(如尤其也 在医学领域)中开启了多种有利的处理可能性。 尤其与胶原层相结合地， 在对一般情况下坏 的或者完全不能愈合的伤口进行修复时也取得显著的效果。 附图说明 0016 在下文中， 根据在附图中所示出的实施例对本发明进一步描述。 附图示出了： 0017 图1： 包括具有结构化表面的电介质和单独地制成的层的设备的示意图， 所述层的 表面相对于电介质的表面互补地构造； 0018 图2： 在组装成适合于使用的状态下的图1的组件。 具体实施方式 说明书 2/4 页 4 CN 105722552 B 4 0019 在附图中的示意图中可看到面状的柔性电极1， 该电极借助合适的线路。
16、2与高压源 3连接。 在所示出的实施例中， 高压源提供有交变电压。 0020 所述电极被埋入到面状电介质4中进而相对于周围环境被完全屏蔽。 面状电介质 因而具有窄侧5和大的侧面， 这些大的侧面构造成背侧6和相对置的处理侧7。 从电介质4的 方形本体伸出的凸起部8位于处理侧7上， 在所示出的实施例中， 所述凸起部构造成柱形， 但 也能够具有各种其它的形状。 优选地， 这些凸起部8柱形地构造并且具有相同的高度， 从而 自由的(敞开的)平坦的端侧9能够在待处理的体表面上构成共同的支承面。 在此， 当电极组 件以凸起部的端侧9安置在待处理的体表面上时， 在这些凸起部之间构成具有凸起部的高 度8的空隙1。
17、0。 0021 根据本发明， 层11与由DE 10 2009 060 627 A1就此公开的电极组件共同作用， 所 述层11由开孔的基质构成， 所述基质由护理材料或者促进修复的材料制成。 在此， 所述层也 理解为护理材料或者促进修复的材料， 所述层作为载体层掺有护理物质或者促进修复的物 质。 0022 所述层相对于电极组件的指向体表面的表面互补地构造。 因此， 所述层11填充了 凸起部8之间的空隙10， 并且具有相对于凸起部8互补的开口12， 从而所述层11在如其在图2 中所示出的已安装的状态下补充所述电介质4而成为面状电极组件， 该电极组件具有平滑 的接触侧13， 用于支承在体表面上。 00。
18、23 在所示出的实施例中， 层11的厚度相当于凸起部8的长度。 有利的是， 层11由可被 身体完全吸收的材料组成。 因此， 在使用的过程中， 所述层11消失， 并且， 在图1中分开地绘 制的电极组件在不具有该层11的情况下保留在体表面上。 当层11的厚度相当于凸起部8的 长度时， 则凸起部8的端侧9与接触侧13对齐， 即， 当层11还完全存在时， 则凸起部8的端侧9 已经安置在体表面上。 因此， 如果层11的材料被本体吸收， 则电极组件的位置不变。 0024 但是层11也能够构造得比凸起部8的长度更厚， 从而， 在凸起部8为柱形的情况下， 层11相应地具有柱形盲孔作为开口12。 尤其不成问题的。
19、是， 所述层的材料不被吸收而仅仅 包含移入体表面内的、 进行护理或者促进修复的组成部分。 如果层11由可吸收的材料组成， 当层11由于吸收而消失时， 则电介质4至体表面的间距减小。 因此在这种情况下必须考虑的 是， 在体表面上存在一定地预紧的情况下实现电极组件的固定， 因而， 当层11被吸收时， 电 介质4能够朝向体表面的方向移动。 0025 优选地， 层11的材料是固态的胶原基质， 该胶原基质促进伤口修复并且能够被完 全吸收。 这类基质的制备参阅了EP 2 322 232 A2。 0026 优选地， 电介质4是可浇注的塑料， 从而凸起部8能够一体式成型到电介质4上。 然 而， 也可以设想， 。
20、凸起部8单独地制作并且与电介质4连接。 在此， 凸起部8能够构成电介质4 的相关联的一部分， 并且， 凸起部8能够与相对于电介质4的对应件相连接。 有益地， 在这种 由两部分组成的构造方案中， 电极1插入到电介质4的上述两个部分之间。 0027 在附图中所示出的将电极1完全埋入到电介质4中是有利的， 并且尤其也能够实现 电介质4与凸起部8一体式的构造方案。 但也可以设想这样的使用情况： 在所述使用情况下， 借助电介质4仅仅造成对处理侧7屏蔽电极1， 从而安全地中断电极1对体表面的电弧( )。 在背侧6对电极1的遮蔽必要时可使所述电弧不发生或者以其它的方式进行 隔离。 说明书 3/4 页 5 C。
21、N 105722552 B 5 0028 所示出的凸起部8是对电介质4的处理侧7结构化的仅仅一个可设想的实施方式。 任意地进行结构化例如可以是： 平行的槽、 网格状的刻槽， 用以构成为等离子体放电所需要 的空隙10。 相对于电介质4表面互补地构造的并且完全填充空隙10的层11基于其开孔特性 而构成了电介质4与体表面之间的通道， 在所述通道中， 在电极1与作为反电极的体表面之 间发生介电阻挡式等离子体放电。 因而在设在层11的材料中的通道内部实施等离子体放 电。 0029 在此， 也不必采用规则的模型对电介质的处理侧7进行结构化。 只有空隙10在处理 侧7上的活性面上均匀静态分布是重要的， 因此在处理面上发生均匀的等离子体构型。 说明书 4/4 页 6 CN 105722552 B 6 图1 图2 说明书附图 1/1 页 7 CN 105722552 B 7 。