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1、(10)授权公告号 CN 101297783 B (45)授权公告日 2012.11.28 CN 101297783 B *CN101297783B* (21)申请号 200810125881.4 (22)申请日 2008.04.30 60/915,107 2007.04.30 US A61G 15/00(2006.01) A45D 29/00(2006.01) (73)专利权人 流行时尚馆有限公司 地址 美国德克萨斯州 (72)发明人 塞恩V勒 亨V恩古延 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 何秀明 US 2006/0242760 A1,2006.11.02, 全。
2、文 . WO 2004/060123 A1,2004.07.22, 全文 . US 2004/0177438 A1,2004.09.16, 全文 . US 2005/0204466 A1,2005.09.22, 全文 . CN 2610904 Y,2004.04.14, 全文 . CN 2741562 Y,2005.11.23, 全文 . (54) 发明名称 具有翻起式托盘的修足椅 (57) 摘要 公开了一种具有用于从足浴椅伸出和缩进托 盘的设备的足浴椅, 以及一种用于在一个或多个 修指甲和 / 或修足工序中利用该足浴椅的方法。 结合到托盘的枢轴旋转机构包括用于将枢轴旋转 机构附接到足浴椅的第。
3、一附接元件, 以及用于将 枢轴旋转机构附接到托盘的第二附接元件。枢轴 旋转机构还包括由第一附接元件保持的轴, 以及 用于在特定的方向上偏置轴和第二附接元件的弹 簧。可操作枢轴旋转机构以便在伸出或缩进位置 的至少一个中可锁定地固定托盘。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. (56)对比文件 审查员 王翠平 权利要求书 3 页 说明书 5 页 附图 8 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 权利要求书 3 页 说明书 5 页 附图 8 页 1/3 页 2 1. 一种利用足浴椅进行修指甲工序的方法, 该方法包括 : 使占用者就座到足浴椅上, 足浴椅包括 : 就座表面, 。
4、邻近就座表面并且从就座表面向上突出的臂靠, 结合到臂靠并且可操作地 横向伸出和缩进的托盘, 以及定位机构, 该定位机构包括 : 附接到臂靠的第一部分 ; 附接到托盘的第二部分 ; 以及 连接第一和第二部分的伸长轴, 可操作定位机构在伸出位置和缩进位置之间锁定地固 定托盘 ; 在平行于伸长轴的纵轴的第一方向上移动托盘 ; 将托盘绕纵轴线枢轴旋转到伸出位置 ; 以及 在与第一方向相反的、 平行于伸长轴的纵轴线的第二方向上移动托盘 ; 利用托盘进行修指甲工序 ; 以及 将托盘缩进到缩进位置。 2. 如权利要求 1 所述的方法, 其中, 在平行于伸长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘, 包括 : 施加与由。
5、最接近伸长轴的偏置元件产生的偏置力相反的力 ; 以及 超过偏置力, 以便在平行于伸长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘, 以便从定位机构 的第一部分上形成的第一保持槽移动伸长轴上形成的锁定元件。 3. 如权利要求 2 所述的方法, 其中, 在与第一方向相反的、 平行于伸长轴的纵轴线的第 二方向上移动托盘, 包括 : 减少与由最接近伸长轴的偏置元件产生的偏置力相反的力, 以便在平行于所述伸长轴 的纵轴线的第二方向上移动托盘 ; 以及 使锁定元件的第一部分上形成的第二槽与伸长轴上形成的锁定销啮合。 4. 一种利用足浴椅进行修指甲工序的方法, 该方法包括 : 使占用者就座到足浴椅上, 足浴椅包括 : 就。
6、座表面, 邻近就座表面并且从就座表面向上突出的臂靠, 结合到臂靠并且可操作地 横向伸出和缩进的托盘, 以及定位机构, 该定位机构包括 : 附接到臂靠的第一部分 ; 附接到托盘的第二部分 ; 以及 连接第一和第二部分的伸长轴, 可操作定位机构在伸出位置和缩进位置之间锁定地固 定托盘 ; 将托盘伸出到伸出位置 ; 利用托盘进行修指甲工序 ; 在平行于伸长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘 ; 将托盘绕纵轴线枢轴旋转到缩进位置 ; 以及 在与所述第一方向相反的、 平行于伸长轴的纵轴线的第二方向上移动托盘。 5. 如权利要求 4 所述的方法, 其中, 在平行于伸长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘, 包括 :。
7、 施加与由最接近伸长轴的偏置元件产生的偏置力相反的力 ; 以及 权 利 要 求 书 CN 101297783 B 2 2/3 页 3 超过偏置力, 以便在平行于伸长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘, 以便从定位机构 的第一部分上形成的第二保持槽移动伸长轴上形成的锁定元件。 6. 如权利要求 5 所述的方法, 其中, 在与第一方向相反的、 平行于伸长轴的纵轴线的第 二方向上移动托盘, 包括 : 减少与由最接近伸长轴的偏置元件产生的偏置力相反的力, 以便在平行于伸长轴的纵 轴线的第二方向上移动托盘 ; 以及 使锁定元件的第一部分上形成的第一槽与伸长轴上形成的锁定销啮合。 7. 一种用于由服务员在提供。
8、修足和修指甲服务时使用的足浴椅组件, 包括 : 具有可操作地保持液体的前面盆的基座 ; 安装到基座的足浴椅, 该足浴椅包括 : 最接近前面盆限定就座表面的底部元件 ; 具有与就座表面成钝角的背靠表面的背靠 ; 从底部元件向上突出并且邻近就座表面的臂靠 ; 结合到臂靠的托盘 ; 以及 布置在托盘和臂靠之间的枢轴旋转机构, 可操作枢轴旋转机构能将托盘在横向伸出的 位置从臂靠突起, 并且在缩进位置向下悬挂, 所述枢轴旋转机构包括 : 具有纵轴线的伸长轴 ; 一对第一附接元件, 包括 : 附接到臂靠或托盘之一的安装部分 ; 以及 接收轴的通道, 该轴可绕纵轴线在通道中枢轴旋转, 并且可沿纵轴线在通道中。
9、滑动 ; 第二附接元件, 包括 : 附接到臂靠或托盘中的另一个的第一部分 ; 以及 附接到轴的第二部分, 因此托盘可沿纵轴线枢轴旋转, 并且可相对于第一附接元件沿 轴的纵轴线滑动 ; 以及 在所述横向伸出的位置选择性地固定托盘的锁定机构, 该锁定机构包括 : 在第一附接元件中形成的槽 ; 在槽中接收的锁定销, 锁定销附接到最接近槽的轴 ; 以及 趋向于将锁定销推进槽的偏置元件, 当锁定销占据槽时, 可操作锁定机构相对于第二 附接元件枢轴旋转地固定第一附接元件。 8. 如权利要求 7 所述的足浴椅组件, 其中, 在第一附接元件的端面中形成槽。 9. 如权利要求 8 所述的足浴椅组件, 其中, 所。
10、述槽包括第一槽, 锁定机构进一步包括从 第一槽圆周偏移的、 在第一附接元件中形成的第二槽, 其中当锁定销占据第一槽时, 托盘处 于伸出位置, 其中当锁定销占据第二槽时, 托盘处于缩进位置。 10. 如权利要求 7 所述的足浴椅组件, 其中, 对应于从槽中移除锁定销, 托盘沿轴的轴 线的滑动位移压缩偏置元件, 其中对应于将锁定销插入槽, 托盘沿轴的轴线的滑动位移减 压偏置元件。 11. 如权利要求 7 所述的足浴椅组件, 其中, 将第二附接元件布置在该对第一附接元件 之间, 并且将偏置元件保持在第一附接元件之一和第二附接元件之间的轴上, 其中偏置元 件沿轴的轴线在第一附接元件之一和所述第二附接元。
11、件之间施加单独的力。 权 利 要 求 书 CN 101297783 B 3 3/3 页 4 12. 如权利要求 11 所述的足浴椅组件, 其中, 该对第一附接元件沿轴的纵轴线对准。 13. 如权利要求 7 所述的足浴椅组件, 其中, 所述偏置元件是在第一附接元件之一和所 述第二附接元件之间的轴上保持的螺旋弹簧。 14. 如权利要求 13 所述的足浴椅组件, 其中, 所述螺旋弹簧的第一端邻接第一附接元 件之一, 螺旋弹簧的第二端邻接第二附接元件, 并且其中当锁定销保持在槽中时, 螺旋弹簧 处于压缩状态。 15. 一种对足浴椅组件的占用者进行修指甲工序和修足工序的方法, 所述方法包括 : 使占用者。
12、就座到足浴椅组件上, 该足浴椅组件包括 : 足浴椅 ; 由枢轴旋转机构枢轴旋转地附接到足浴椅的臂的托盘, 可操作枢轴旋转机构能将可枢 轴旋转的托盘横向伸出或缩进 ; 以及 在足浴椅的底部的盆, 用于对占用者进行修足工序 ; 在基本上平行于可枢轴旋转的托盘的枢轴线的方向上施加与偏置力相反的力, 直到可 枢轴旋转的托盘处于未锁定状态 ; 将可枢轴旋转的托盘绕枢轴线枢轴旋转到伸出位置 ; 以及 释放与偏置力相反的力, 因此偏置力将托盘回到锁定状态 在对占用者同时进行修足工序时利用托盘进行修指甲工序。 16. 如权利要求 15 所述的方法, 进一步包括将可枢轴旋转的托盘缩进到缩进位置, 其 中缩进可枢。
13、轴旋转的托盘包括 : 在基本上平行于可枢轴旋转的托盘的枢轴线的方向上施加与偏置力相反的力, 直到可 枢轴旋转的托盘处于未锁定状态 ; 将可枢轴旋转的托盘枢轴旋转到缩进位置 ; 以及 释放与偏置力相反的力, 因此偏置力将托盘回到可枢轴旋转的锁定状态。 17. 如权利要求 15 所述的方法, 其中, 在对占用者同时进行修足工序时利用托盘进行 修指甲工序包括 : 在可枢轴旋转的托盘上, 放置占用者的附属物、 或器具、 或用于对占用者进行修指甲工 序的化学制品中的至少一个。 18. 如权利要求 15 所述的方法, 其中, 在对占用者同时进行修足工序时利用托盘进行 修指甲工序包括 : 在所述可枢轴旋转的。
14、托盘上, 放置器具、 或用于对占用者进行修足工序的化学制品中 的至少一个。 权 利 要 求 书 CN 101297783 B 4 1/5 页 5 具有翻起式托盘的修足椅 技术领域 0001 本公开涉及一种具有一个或多个可定位托盘的椅子, 更具体地涉及一种具有一个 或多个可定位托盘的足浴椅 (pedicure spa chair)。 背景技术 0002 本申请要求 2007 年 4 月 30 日申请的美国临时申请 No.60/915107 的优先权, 在此 将其全部内容合并作为参考。 0003 进行美容如修指甲和修足的美容厅包括足浴椅。 使用该椅子对顾客的手进行修指 甲工序, 以及对顾客的脚进行。
15、修足工序。 为了有效地进行修指甲或修足工序, 服务员的手边 需要不同的物件如磨光剂、 指甲锉、 修整器以及其它的物件。因此, 服务员必须提供方便放 置这些物件的表面。通常, 在进行工序期间提供这种表面需要在椅子附近设置手推车或桌 子。 提供这种单独的手推车或托盘需要美容厅获取附加的装备, 并且承受与其相关的成本, 以及提供在足浴椅附近放置这种桌子或手推车所需的地面空间。而且, 单独的手推车或托 盘占据了有用的地面空间, 并且会遮掩顾客的部分 ( 例如, 当进行修足时会遮掩脚 )。因为 空间限制和 / 或因为手推车或托盘遮掩了顾客, 所以通常一次仅一个服务员为顾客提供服 务。因此, 坐在椅子上的。
16、顾客顺序地 ( 即依次地 ) 接受修指甲和修足。 发明内容 0004 利用足浴椅进行修指甲工序的一个方面包含使人就座到足浴椅上。 该足浴椅包括 就座表面, 邻近就座表面并且向上突出的臂靠, 结合到臂靠并且可操作地横向伸出和缩进 的托盘, 以及定位机构。该定位机构包括附接到臂靠的第一部分, 附接到托盘的第二部分, 可操作地连接到第一和第二部分的伸长轴, 以及保持在伸长轴上的偏置元件。可操作定位 机构以将托盘定位并且可锁定地固定在伸出位置和缩进位置。 利用足浴椅进行修指甲工序 进一步包含使托盘伸出到伸出位置, 利用托盘进行修指甲工序, 以及使托盘缩进到缩进位 置。 0005 根据另一个方面, 足浴。
17、椅组件包括具有前面盆的基座和安装在基座上的足浴椅。 该足浴椅包括就座表面, 向上突出并且邻近底部元件提供的臂靠, 在臂靠上提供的托盘, 以 及布置在该托盘和臂靠之间的枢轴旋转机构, 可操作该枢轴旋转机构使托盘在伸出位置从 该臂靠突起, 并且在缩进位置使托盘向下悬挂。就座表面包括底部元件和与底部元件成一 定角度形成的背靠。 枢轴旋转机构包括具有纵轴的伸长轴, 一对第一附接元件, 第二附接元 件, 以及在伸出或缩进位置之一选择性地固定托盘的锁定机构。每个第一附接元件包括附 接到臂靠或托盘中的一个的安装部分, 以及接收该轴的通道, 该轴可绕纵轴在通道中枢轴 旋转, 并且可沿纵轴在通道中滑动。第二附接。
18、元件包括附接到臂靠或托盘中的另一个的第 一部分, 以及附接到轴的第二部分, 因此托盘可沿纵轴枢轴旋转, 并且可相对于第一附接元 件沿轴的纵轴线滑动。锁定机构包括在第一附接元件之一中形成的至少一个槽, 与该至少 一个槽啮合的锁定销, 该锁定销附接到接近至少一个槽的轴, 以及将锁定销推进至少一个 说 明 书 CN 101297783 B 5 2/5 页 6 槽的偏置元件。当该锁定销占据至少一个槽时, 可操作锁定机构相对于第二附接元件枢轴 旋转地固定第一附接元件。 0006 进一步方面包括一种用于对足浴椅组件的占用者进行修指甲工序和修足工序的 方法。 该方法包括使占用者在足浴椅组件上就座, 该足浴椅。
19、组件包括足浴椅, 可枢轴旋转地 附接到足浴椅的臂的托盘, 以及在足浴椅底部的盆, 用于对占用者进行修足工序。 可枢轴旋 转的托盘包括枢轴旋转机构, 可操作枢轴旋转机构使可枢轴旋转的托盘伸出或缩进。该方 法进一步包括使可枢轴旋转的托盘伸出到伸出位置, 利用托盘同时对占用者进行修指甲工 序和修足工序。 0007 不同的方面可以包括一个或多个下面的特征。 使托盘伸出到伸出位置包括在平行 于伸长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘, 使托盘绕纵轴线枢轴旋转到伸出位置, 以及在 与第一方向相反的、 平行于伸长轴的纵轴线的第二方向上移动托盘。在平行于伸长轴的纵 轴线的第一方向上移动托盘包括施加与由偏置元件产生的。
20、偏置力相反的力, 并且超过该偏 置力, 以便在平行于该伸长轴的纵轴的第一方向上移动托盘, 从而从在定位机构的第一部 分上形成的第一保持槽移动在伸长轴上形成的锁定元件。在与该的方向相反的、 平行于伸 长轴的纵轴的第二方向上移动托盘包括减少与由偏置元件产生的偏置力相反的力, 以便在 平行于伸长轴的纵轴线的第二方向上移动托盘, 并且使在锁定元件的第一部分上形成的第 二槽与在伸长轴上形成的锁定销啮合。 使托盘缩进到缩进位置包括在平行于伸长轴的纵轴 线的第一方向上移动托盘, 围绕纵轴线枢轴旋转到缩进位置, 并且在与第一方向相反的、 平 行于伸长轴的纵轴线的第二方向上移动托盘。 在平行于伸长轴的纵轴线的第。
21、一方向上移动 托盘包括施加与由偏置元件产生的偏置力相反的力, 并且超过该偏置力, 以便在平行于伸 长轴的纵轴线的第一方向上移动托盘, 从而从在定位机构的第一部分上形成的第二保持槽 移动在伸长轴上形成的锁定元件。在与第一方向相反的、 平行于该伸长轴的纵轴线的第二 方向上移动托盘包括减少与由偏置元件产生的偏置力相反的力, 以便在平行于伸长轴的纵 轴线的第二方向上移动托盘, 并且使在锁定元件的第一部分上形成的第一槽与在伸长轴上 形成的锁定销啮合。 0008 不同的方面还包括一个或多个下面的特征。 可以在第一附接元件的端面中形成至 少一个槽。 至少一个槽包括在圆周上彼此偏移的第一和第二槽。 当锁定销占。
22、据第一槽时, 托 盘处于伸出的位置, 当锁定销占据第二槽时, 托盘处于缩进的位置。 对应于从至少一个槽除 去锁定销的沿轴的轴线的托盘的滑动位移压缩偏置元件, 对应于将锁定销插入至少一个槽 的沿轴的轴线的托盘的滑动位移减压偏置元件。 第二附接元件布置在该对第一附接元件之 间, 偏置元件保持在第一附接元件之一和第二附接元件之间的轴上。偏置元件沿轴的轴线 在第一附接元件之一和第二附接元件之间施加单独的力。 该对第一附接元件可以沿轴的纵 轴线对准。 偏置元件可以是在第一附接元件之一和第二附接元件之间的轴上保持的螺旋弹 簧。螺旋弹簧的第一端邻接第一附接元件之一, 螺旋弹簧的第二端邻接第二附接元件。当 锁。
23、定销保持在至少一个槽中时, 螺旋弹簧处于压缩状态。 0009 不同的方面进一步包括一个或多个下面的特征。使可枢轴旋转的托盘伸出到伸 出位置包括在实质上平行于可枢轴旋转的托盘的枢轴的方向上施加与偏置力相反的力, 直 到可枢轴旋转的托盘处于未锁定的状态, 使可枢轴旋转的托盘绕枢轴线枢轴旋转到伸出位 置, 以及释放与偏置力相反的力, 因此偏置力使托盘回到锁定状态。 使可枢轴旋转的托盘缩 说 明 书 CN 101297783 B 6 3/5 页 7 进到缩进位置包括在实质上平行于可枢轴旋转的托盘的枢轴线方向上施加与偏置力相反 的力, 直到可枢轴旋转的托盘处于未锁定的状态, 使可枢轴旋转的托盘绕枢轴线枢。
24、轴旋转 到缩进位置, 以及释放与偏置力相反的力, 因此偏置力使托盘回到锁定状态。 利用托盘对占 用者同时进行修指甲工序和修足工序包括在可枢轴旋转的托盘上放置占用者的附属物、 或 器具、 或用于对占用者进行修指甲工序的化学制品中的至少一个。利用托盘对占用者同时 进行修指甲工序和修足工序包括在可枢轴旋转的托盘上放置器具、 或用于对占用者进行修 足工序的化学制品中的至少一个。 0010 在附图和下面的描述中阐述一个或多个实施例的细节。通过说明书、 附图和权利 要求, 其它的特征、 目的和优点将变得显而易见。 附图说明 0011 图 1 和 2 表示具有分别处于缩进和伸出位置的翻起式托盘的足浴椅组件的。
25、透视 图 ; 0012 图 3 表示用于使翻起式托盘伸出和缩进的枢轴旋转机构 ; 0013 图 4A-4D 表示处于不同位置的枢轴旋转机构 ; 以及 0014 图5是在对椅子组件的占用者进行修足和/或修指甲工序时使用具有翻起式托盘 的足浴椅组件的方法的流程图。 具体实施方式 0015 图 1 和 2 表示足浴椅组件 ( 可互换地称作 “椅组件” )5 的实施例, 其包括具有安 装的一个或多个翻起式或可枢轴旋转的托盘 (“托盘” )20 的足浴椅 ( 可互换地称作 “椅 子” )10。椅子 10 在椅子 10 的每个臂 30 上包括基本上平的托盘 20, 在一些实施例中, 每个 托盘 20 可以。
26、单独地伸出和缩进。可替换地, 椅子 10 仅在单个臂 30 上包括托盘 20。足浴椅 组件 10 还可以包括具有脚盆 45 的基座 40, 以对椅子 10 的占用者进行脚浸泡或其它处理。 例如, 可以在包括脚盆 45 的基座的顶部上安装椅子 10, 该脚盆充满用于处理人脚的液态水 或任何其它适当的物质。 通常, 椅子10可以由接受修足工序或修指甲工序的人使用。 而且, 椅子 10 可以被服务员利用, 以便同时提供修指甲和修足工序。因而, 根据一些实施例, 椅子 10 的占用者同时接受修足和修指甲, 例如修整、 成形和涂抹指甲或者应用指甲修补术, 因此 节省了占用者的有用时间。椅子 10 还可以。
27、包括其它部件, 例如按摩机构, 以便为坐在椅子 10 上的占用者进行按摩。 0016 图 3 表示处于横向伸出位置的托盘 20 的详图。可以将托盘 20 附接到具有枢轴旋 转机构 50 的椅子 10。枢轴旋转机构 50 使托盘伸出并且锁定在伸出位置, 并且使托盘 20 缩 进并且将托盘 20 锁定在缩进位置。在某些情况下, 可以配置枢轴旋转机构 50, 以便省略将 托盘 20 锁定在缩进位置。枢轴旋转机构 50 允许托盘垂直或横向地上升到伸出位置, 因此 坐在椅子上的占用者可以将他或她的臂或手放在托盘20上, 和/或放置他人如指甲修饰师 利用的物件, 以便对座位占用者进行修指甲处理。也可以在托。
28、盘上放置其它物件。参照图 4A-4C, 枢轴旋转机构 50 可包括附接元件 60 和附接元件 70。附接元件 60 用于将枢轴旋转 机构 50 固定到椅子 10 的一部分如固定到臂 30 上。可以任何所需的方式如螺栓、 螺钉、 销、 粘合剂、 焊接等固定附接元件 60。将附接元件 70 附接到托盘 20 上, 如托盘 20 的下表面上。 说 明 书 CN 101297783 B 7 4/5 页 8 枢轴旋转机构 50 还包括轴 80, 该轴保持在固定于附接元件 60 的圆柱形元件 90、 100 之内。 圆柱元件 90、 100 形成其中保持轴的一部分的内部通道。而且, 虽然表示为圆柱形, 但。
29、是圆 柱元件 90、 100 可以具有非圆柱形的部分, 并且具有任何所需的截面形状, 如正方形、 矩形、 三角形, 椭圆形等等。轴 80 在圆柱元件 90、 100 之内是可以枢轴旋转的。圆柱元件 90、 100 可以与附接元件 60 整体地形成, 或者可以例如通过焊接、 螺栓、 螺钉, 粘合剂等等固定到附 接元件 60 上。附接元件 70 附接到轴 80。伸出圆柱元件 100 的轴 80 一部分包括锁定销 110。如图所示, 锁定销 110 是从轴 80 的纵轴线基本上径向向外延伸的突起。虽然锁定销 110 可以以任何角度伸出, 但是, 如图所示, 锁定销 110 从轴 80 的纵轴线垂直地。
30、伸出。锁定 销 110 适于接收在圆柱元件 100 中形成的槽中。如图 4A-4C 所示, 枢轴旋转机构 50 包括槽 120 和 130, 它们沿圆柱元件 100 的端面的圆周彼此偏移 90。然而, 可以沿圆柱元件 100 的圆周的任何位置提供槽 120、 130, 并且偏移大于或小于 90。槽 120 对应于处于伸出位 置的托盘 20, 槽 130 对应于处于缩进位置的托盘 20。因而, 当锁定销 110 占据槽 120 时, 托 盘 20 处于伸出位置, 而当锁定销 110 占据槽 130 时, 托盘 20 处于缩进位置。然而, 枢轴旋 转机构 50 可以包括其它槽, 以便将托盘 20 。
31、固定在其它位置。 0017 枢轴旋转机构50还可以包括偏置元件140如弹簧(例如, 螺旋弹簧), 尽管也可以 使用其它类型的偏置元件, 如一个或多个弹性元件。根据一些实施例, 将偏置元件 140 保持 在轴 80 上在附接元件 70 和圆柱元件 100 之间。偏置元件 140 在朝向圆柱元件 90 的方向 上偏置第二附接元件 70 和轴 80。 0018 图 4A-4D 表示枢轴旋转机构 50 在横向伸出和缩进位置之间移动托盘 20 的操作。 图 4A 表示处于缩进或收起位置的枢轴旋转机构 50, 其中锁定销 110 保持在槽 130 内。当锁 定销 110 保持在槽 130 内时, 阻止轴 。
32、80 和第二附接元件 70 枢轴旋转。因而, 阻止了附接到 第二附接元件 70 的托盘 20 的枢轴旋转, 而是将其锁定到缩进位置。此外, 在缩进位置, 附 接元件 70 的端面可以邻接圆柱元件 90 的端面。在图 4B 中, 表示轴 80 和附接元件 70 向着 圆柱元件 100 移动, 造成压缩偏置元件 140, 并且从槽 130 推出锁定销 110。在图 4C 中, 轴 80和附接元件70已从缩进位置枢轴旋转, 并且现在处于伸出位置。 在伸出位置, 锁定销110 与槽 120 对准。参照图 4D, 轴 80 和附接元件 70 向着圆柱元件 90 移动, 并且锁定销 110 布 置在槽 1。
33、20 中。因此, 当用户例如座位占用者或指甲修饰师 / 修足师要求托盘 20 从缩进位 置伸出时, 施加向着圆柱元件 100 移动托盘 20 的力 F, 造成锁定销 110 从槽 130 撤出, 并且 压缩偏置元件 140。托盘 20 枢轴旋转到伸出位置, 因此锁定销 110 与槽 120 对准。去除施 加的力 F, 造成偏置元件 140 扩张, 并且向着圆柱元件 90 推动轴 80 和附接元件 70。此外, 锁定销 110 滑动到槽 120 中, 附接元件 70 及其附接的托盘 20 处于伸出位置。因而, 阻止托 盘 20 进一步旋转。根据一些实施方式, 在缩进位置托盘 20 基本上垂直于地。
34、面或者抵靠在 椅子 10 的臂 30 上, 而在伸出位置, 托盘 20 基本上平行于地面或者垂直于椅子 10 的臂 30, 或者处于可操作地支撑椅子占用者的手或臂的位置。 可以通过反向上述操作的顺序来完成 使托盘 20 从伸出位置回到缩进位置。 0019 图 5 表示在修足和 / 或修指甲工序中利用椅组件 ( 例如, 图 1 的足浴椅组件 5) 的 方法500的例子。 在510中, 椅子占用者占据准备进行修指甲和/或修足工序的椅组件的椅 子 ( 例如, 服务员使其就座 )。在坐在椅子上之前, 占用者可以脱掉他或她的鞋, 例如, 当足 浴椅包括脚盆 ( 如上述盆 45) 时, 和 / 或当要对占。
35、用者进行修足工序时。在 520 中, 例如通 说 明 书 CN 101297783 B 8 5/5 页 9 过使用上述枢轴旋转机构 50 可以使托盘 20( 例如图 1 所示的托盘 ) 横向伸出。在 530 中, 可以利用托盘对占用者的手进行修指甲工序。例如, 在进行修指甲工序之前、 期间和 / 或之 后, 可以用托盘在其上放置占用者的手, 或者可以用托盘在其上放置一个或多个产品, 如器 具、 磨光剂、 清洁器等等。托盘提供了靠近占用者的手的方便的工作区域, 消除了对单独的 基座、 托盘或桌子的需要, 并且节省了占用者附近有限的空间。可替换地或此外, 可以使用 托盘存储用于修足工序的物件。 在。
36、某些情况下, 如果进行修指甲的服务员使用单独的基座、 托盘或桌子, 其会干扰第二服务员接近占用者的脚的能力。 此外, 托盘从椅子的臂横向向外 突出, 并且不会遮掩占用者。 因而, 在该方法中, 虽然占用者接受修指甲工序, 但是占用者还 可以同时接受修足工序, 如指甲涂抹。在 540 中, 如当修指甲处理和 / 或修足处理完成时托 盘缩进, 在 550 中, 占用者可以腾出椅子。 0020 已经描述了多个实施例。 然而应当理解, 在不脱离本公开的精神和范围的情况下, 可以进行不同的修改。 例如, 还可以使用具有在两个不同的方向上枢轴旋转的臂的足浴椅, 以便同时进行修指甲和修足服务。该臂可以在第一。
37、方向上向上枢轴旋转, 以便允许占用者 坐在椅子上。臂可以向下枢轴旋转以形成椅子的臂。此后, 臂可以横向于第一方向枢轴旋 转, 以便形成托盘。其它实施例也是可能的并且包含在本公开的范围之内。 说 明 书 CN 101297783 B 9 1/8 页 10 图 1 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 10 2/8 页 11 图 2 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 11 3/8 页 12 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 12 4/8 页 13 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 13 5/8 页 14 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 14 6/8 页 15 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 15 7/8 页 16 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 16 8/8 页 17 图 5 说 明 书 附 图 CN 101297783 B 17 。