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1、10申请公布号CN104160010A43申请公布日20141119CN104160010A21申请号201380006708122申请日20130124201201495720120127JPC11D3/43200601B08B3/0820060171申请人3M创新有限公司地址美国明尼苏达州72发明人池之谷菜海子日浦纱喜则本雅史74专利代理机构北京市金杜律师事务所11256代理人陈文平54发明名称除尘清洁剂和使用其的清洁方法57摘要本发明提供了一种用于在已从基材上除去粉尘、尘垢等等颗粒后减少这些颗粒向基材重新附着的除尘清洁剂；一种除尘清洁剂和一种使用其的清洁方法，所述除尘清洁剂具有颗粒附着性。
2、降低功能并含有氟化物溶剂和在其主链上具有至少四个碳原子的醇。30优先权数据85PCT国际申请进入国家阶段日2014072586PCT国际申请的申请数据PCT/US2013/0228862013012487PCT国际申请的公布数据WO2013/112682EN2013080151INTCL权利要求书1页说明书5页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书5页10申请公布号CN104160010ACN104160010A1/1页21一种具有颗粒附着性降低功能的除尘清洁剂，所述流体包含氟化物溶剂和在其主链上具有至少四个碳原子的醇。2根据权利要求1所述的除尘清洁剂，其中所述醇。
3、是具有非支链主链的醇。3根据权利要求1或权利要求2所述的除尘清洁剂，其中所述醇是正构醇。4根据权利要求1至3中任一项所述的除尘清洁剂，所述除尘清洁剂每1,000G的所述氟化物溶剂具有至少004MOL的所述醇。5根据权利要求1至4中任一项所述的除尘清洁剂，其中所述氟化物溶剂是氢氟醚和/或氢氟烃。6一种用于从基材的表面除去污染物的方法，所述方法包括以下步骤使除尘清洁剂与基材接触，所述除尘清洁剂具有颗粒附着性降低功能并含有氟化物溶剂和在其主链上具有至少四个碳原子的醇；和从所述基材除去所述除尘清洁剂。权利要求书CN104160010A1/5页3除尘清洁剂和使用其的清洁方法技术领域0001本发明涉及具有。
4、颗粒附着性降低功能的除尘清洁剂和使用所述除尘清洁剂的清洁方法。背景技术0002使用氟化物溶剂或含有氟化物溶剂和另一种典型清洁溶剂的混合溶剂来除去附着到基材诸如金属、玻璃、陶瓷、塑料、织物等的表面上的污染物。0003已公布的PCT专利申请H10512609的日文译本公开了一种含有至少一种类型的经部分氟化的醚化合物的清洁组合物和一种使用此种组合物来除去基材表面的污染物的方法。这些组合物被描述为能够单独使用或者与另一种典型的清洁剂例如，醇类、醚类、烷烃、烯烃、全氟化碳、叔全氟胺、全氟醚、环烷烃、酯类、酮类、芳香烃、硅氧烷、氢氯烃、氢氯氟烃、和氢氟烃结合使用。0004然而，尽管通过浸渍于清洁溶剂中，可。
5、将粉尘、尘垢、破碎部件碎片、碎玻璃、碎屑、无机物、金属氧化物、聚合物和其它不易溶解于清洁溶剂中的颗粒暂时从基材除去，然而在从清洁溶剂中取出基材时，颗粒可重新附着到基材上。在需要更精确地进行清洁的领域中，诸如在其中基材是半导体、晶片板用于半导体、LED、硬盘等、电子装置、医疗器械、基座构件、传感器、透镜等的领域中，尤其需要减少此类重新附着的颗粒。发明内容0005本发明提供一种用于在已从基材上除去粉尘、尘垢等颗粒后减少这些颗粒向基材重新附着的除尘清洁剂。0006根据本发明的一个实施例，提供一种除尘清洁剂，所述除尘清洁剂具有颗粒附着性降低功能并含有氟化物溶剂以及一种在其主链中具有至少四个碳原子的醇。。
6、0007根据本发明的另一个实施例，提供一种从基材的表面除去污染物的方法，所述方法包括以下步骤使除尘清洁剂与基材接触，并从所述基材除去所述除尘清洁剂，所述除尘清洁剂具有颗粒附着性降低功能并含有氟化物溶剂和一种在其主链中具有至少四个碳原子的醇。0008根据本公开，可减少清洁后的颗粒附着量，从而能够更精确地进行清洁。具体实施方式0009以下给出用于说明本发明的代表性实施例的目的的详细解释，但这些实施例不应理解为限制本发明。0010本公开的除尘清洁剂含有氟化物溶剂和在其主链上具有至少四个碳原子的醇。可使用的氟化物溶剂的例子包括CC6F11CF2OC2H5、CC6F11CF2OCH3、4CF3CC6FI。
7、0CF2OCH3、C4F9OCH3、CC6F11OCH3、CF32CFCF2OCH3、CF32CFCF2OC2H5、C8F17OCH3、C2F5CFOCH3CFCF32、CF3CFOCH3CFCF32、C5F11OCH3、C5F11OC2H5、C3F7OCH3、C8F17OC2F4H、C7F15OC2F4H、说明书CN104160010A2/5页4C6F13OC2F4OCF2H、C4F9OC2F4H、C4F9OCF25H、C5F11OCF25H、C8F17OCF25H、C4F9OCF2CCF32CF2H、HCF24OCF24H、C1CF24OCF24H、C6F13OC2F4H、C4F9OCF2。
8、4OCF23H、C2F52CFCF2OC2F4H、CC6F11CF2OC2F4H、C6F13OC4F8H、C6F13OC3F6H、C5F11OCF24H、C4F9OC3F6H、C8F17OCF2OC3F6H、HC3F6OC3F6H、C4F9OC2H5、C2F5CFOCH3CFCF32、C2F5CFOCH3C3F7、CF32COCH3C3F7、C2F5CCF3OCH3C2F5、C3F7OCH3、CF3CFCF3OCH3、C3HF6CHCH3OC3HF6、C2HF4CHCH3OC4HF8、C3HF6CHCH3C2F4OCHF2、C2HF4CHCH3OCF2CCF3CHF2、CF3CH2OCF2CH。
9、F2、和其它氢氟醚；CH2FCF2CFH2、CHF2CF22CF2H、CF3CH2CF2CH2CF3、CF3CFH2CF2CF3、CF3CF24CF2H、CF3CF25CH2CH3、CH3CF2CH2CF3、和其它氢氟烃HFC；CF3CF2CHC12、CC1F2CF2CHC1F、CC12FCH3、和其它含氢氯氟烃HCFC；C5F12、C6F14、C7F16、C8F18、CF3NC2F42O、C2F5NC2F42O、C3F7NC2F42O、和其它全氟化碳PFC；CF3COCF2COCF3、C2F5COC3F7、CF32CFCOCFCF32、CF32CFCOCHCF32、和其它全氟化酮PFK；以及。
10、CF3CHCHC2F5、CF3CFCH2、C2F5CFCFCFOCH3CF2CF3、CF3CFCFCFOCH3CF3、CHF2CFCH2、CH3CFCF2、CH2FCFCF2、CH2FCHCF2、CHF2CHCHF、CF3CFCFCF3、C2F5CFCFCFOCH3CF2CF3、CF2OCH3CFCFCH2CF3、和其它氢氟烯烃HFO。0011在这些氟化物溶剂中，考虑到全球变暖潜能值GWP、臭氧损耗潜势ODP和其它环境问题、以及与醇的相容性等等，可使用HFE和HFC。0012在这些氟化物溶剂中，可使用沸点为至少大约30且不超过大约200的溶剂。0013在其主链中具有至少四个碳原子的醇类的例子包。
11、括1丁醇、1戊醇、1己醇、1庚醇、1辛醇、1壬醇1NONOL、1癸醇、2戊醇、3戊醇、2己醇、3己醇、2庚醇、3庚醇、4庚醇、2辛醇、3辛醇、4辛醇、和其它具有非支链主链的醇；以及2,2二甲基1己醇、3乙基1丁醇、2,3二甲基1戊醇、4,4二甲基2己醇、3甲基2丁醇、3,4二乙基2庚醇、和其它具有带支链的主链的醇。在这些醇中，可使用正构醇。另外，可使用在其主链中具有至少五个碳原子的醇。0014可使用含有除碳、氢、和氧之外的原子的醇，诸如卤代醇等。0015可在1,000G的氟化物溶剂中添加至少004MOL的在其主链上具有至少四个碳原子的醇。如果醇的量小于004MOL，重新附着减少效果可能会不充分。
12、。0016可添加不大于饱和溶解度的醇量。这是因为醇与氟化物溶剂分成两个层可导致醇上升至上层，从而造成醇被点燃的危险。0017本公开的除尘清洁剂可从基材的表面溶解掉或除去多种污染物。例如，可除去诸如以下材料低烃污染物、更高聚合烃污染物诸如矿物油、油脂等、全氟聚醚、三氟溴乙烯低聚物陀螺液、三氟氯乙烯低聚物液压流体和润滑剂、有机硅油、油脂、焊接溶剂、颗粒、以及在对精密电子装置、金属、医疗器械等进行清洁时所遇到的其它污染物。0018此外，在被除去的污染物中，可减少不易溶解于所述除尘清洁剂中的颗粒向基材表面的重新附着。可以液体形式使用所述除尘清洁剂，并可使用使流体接触基材的所需的已知技术。例如，可将基材。
13、浸入在所述除尘清洁剂中。也可使用高温、超声能量、和/或振动来促进清洁。0019可通过使被污染的基材接触上述除尘清洁剂来执行根据本发明的清洁方法。利用说明书CN104160010A3/5页5本发明的方法进行清洁的基材既可以是有机基材，也可以是无机基材。基材的典型例子包括金属、陶瓷、玻璃、聚碳酸酯、聚苯乙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯共聚物、以及前述材料的复合物。所述方法尤其有效地用于电子零部件诸如电路板、光学介质、磁介质、和医疗器械的精确清洁。0020实例0021以下给出本发明的实例，但这些实例并不限制本发明。0022通过如下所述测量附着颗粒的量，对根据本发明的除尘清洁剂的颗粒附着性降低功能及方法进行评。
14、价。0023颗粒附着性测量方法0024将008G的聚苯乙烯胶乳PSL颗粒茉立特公司MORITEXCORPORATION；产品名DO05；所保证的平均粒度为50M04M作为颗粒与1,000G的清洁剂进行混合。在使用搅拌器旋转速度150至170RPM搅拌清洁剂时，在三秒钟内将洁净的晶片4英寸，硅裸晶片放入清洁剂中，并保持浸入在清洁剂中达四秒钟，然后在四秒钟内取出。接着，使用晶片表面分析仪拓普康公司TOPCONCORPORATION；产品名WM7S对附着到晶片上的PSL颗粒的量进行测量。0025实例1至40026将0083MOL的1丁醇、1戊醇、1己醇和1庚醇与1,000G的HFE住友3M有限公司S。
15、UMITOMO3MLTD；产品名NOVECTM高性能流体7100HFE7100混合，以分别形成工作实例1、2、3和4。针对每一实例测量颗粒附着的量。结果如表1所示。0027比较例10028在比较例1中使用由住友3M有限公司制造的其中将083MOL/KG异丙醇添加到HFE7100中的高性能NOVECTM流体71IPAHFE71IPA，并对附着颗粒的量进行测量。结果如表1所示。0029比较例2至50030将0083MOL的甲醇日本和光纯药工业株式会社WAKOPURECHEMICALINDUSTRIES,LTD；特级，乙醇日本和光纯药工业株式会社；特级，1丙醇日本和光纯药工业株式会社；特级，以及异丙。
16、醇日本和光纯药工业株式会社；特级2丙醇与1,000GHFE7100进行了混合，以分别获得比较例2、3、4和5。对每一比较例的附着颗粒的量进行测量。结果如表1所示。0031表10032醇的种类颗粒比率颗粒数目/晶片工作实例11丁醇685工作实例21戊醇458工作实例31己醇427工作实例41庚醇565说明书CN104160010A4/5页6比较例1HFE71IPA1222比较例2甲醇1325比较例3乙醇1359比较例41丙醇1255比较例5异丙醇17470033颗粒附着性比较0034以在工作实例3的清洁剂1己醇情况下的颗粒附着量为1，根据表1所示结果计算出在比较例3的清洁剂乙醇情况下的颗粒附着量。
17、。其结果示于表2中。对于其它氟化物溶剂旭硝子玻璃有限公司ASAHIGLASSCO,LTD，产品名ASAHIKLINAE3000；及三井杜邦氟化学有限公司MITSUIDUPONTFLUOROCHEMICALCO,LTD，产品名VERTRELTMXF，也测量当添加1己醇0083MOL/KG时的颗粒附着量和当添加乙醇0083MOL/KG时的颗粒附着量，并且同样地计算其比率。其结果示于表2中。0035表20036颗粒比率的变化率乙醇/1己醇HFE710032AE300063VERTRELXF320037以与上文所述类似的方式测量工作实例31己醇和比较例3乙醇的颗粒附着量，不同的是在颗粒附着测量方法中使。
18、用的颗粒不是PSL颗粒，而是SIO2扶桑化学有限公司FUSOCHEMICALCO,LTD；细小球形粉末状二氧化硅，SPIB，平均粒度10M或SI3N4阿法埃莎公司ALFAAESAR，隶属于庄信万丰公司JOHNSONMATTHEYCOMPANY；氮化硅4，电子级，9985金属基重，94相，并计算其比率。其结果示于表3中。0038表300390040由上述结果可见，当添加在其主链上具有至少四个碳原子的醇时，颗粒附着量较说明书CN104160010A5/5页7低。0041随所添加醇的量而变化的颗粒附着的差值0042改变添加到1,000GHFE7100中的1丁醇的摩尔数，并测量颗粒附着量。结果示于表4中。0043表400440045说明书CN104160010A。