触摸屏用导电膜、导电膜形成用感光材料、导电性材料和导电膜 【技术领域】
本发明涉及导电膜，更详细而言，涉及搭载于触摸屏的触摸屏用导电膜、导电膜形成用感光材料、导电性材料和导电膜。
背景技术
近年来，研究了利用各种制造方法得到的导电性膜(例如参照日本特开2000-13088号公报、日本特开平10-340629号公报、日本特开平10-41682号公报、日本特公昭42-23746号公报、日本特开2006-228649号公报)。其中，作为导电性膜，有通过如下方法制造的银盐方式的导电性膜：涂布卤化银乳剂层，将该卤化银乳剂层进行图案曝光，使其形成具有导电性的银的导电部和用于确保透明性的开口部的图案形状(例如参照日本特开2004-221564号公报、日本特开2004-221565号公报、日本特开2007-95408号公报、日本特开2006-228469号公报、日本特开2006-332459号公报、日本特开2008-244067号公报)。该银盐方式的导电性膜以屏蔽电磁波的用途为目的，通常要求是表面电阻低的导电性膜，此外，通过镀敷等手段来降低表面电阻。
另一方面，人们对导电性膜的各种用途进行了研究，本发明的发明人着眼于作为触摸屏用电极的应用展开了研究。
【发明内容】
本发明的目的在于提供具有作为触摸屏用导电膜的良好的导电性、波纹充分减少、触摸屏特性优异的触摸屏用导电膜、导电膜形成用感光材料、导电性材料和导电膜。
本发明的发明人进行了潜心研究，结果发现：通过在调节银盐乳剂层的涂布银量的同时调节间距，能够解决上述课题，从而完成了本发明。
即，通过以下发明能够解决上述课题。
[1]本发明的第1发明涉及一种触摸屏用导电膜，其在支撑体上具有通过将银盐乳剂层曝光显影而形成的含有银的导电层，其特征在于，上述银盐乳剂层的涂布银量为1.5～3.1g/m2，上述导电层形成间距为600μm～800μm的网格图案，且表面电阻为200～800Ω/sq.。
[2]根据第1发明，其特征在于，上述银盐乳剂层的银/粘合剂的体积比率为1/4以上。
[3]根据第1发明，其特征在于，上述银盐乳剂层的银/粘合剂的体积比率为1/2～1/0.7。
[4]根据第1发明，其特征在于，上述导电层的线宽为5～10μm。
[5]根据第1发明，其特征在于，还具备透明导电层，上述透明导电层含有导电性微粒和粘合剂，上述导电性微粒与粘合剂的质量比(导电性微粒/粘合剂)为1/3～2/1。
[6]本发明的第2发明涉及一种导电膜形成用感光材料，其具有银盐乳剂层，其特征在于，上述银盐乳剂层的涂布银量为1.5～3.1g/m2，其还具备透明导电层，上述透明导电层含有导电性微粒和粘合剂，上述导电性微粒与粘合剂的质量比(导电性微粒/粘合剂)为1/3～2/1。
[7]根据第2发明，其特征在于，上述银盐乳剂层含有上述导电性微粒，且兼用作上述透明导电层，上述导电性微粒的含量为0.15～0.5g/m2。
[8]根据第2发明，其特征在于，上述透明导电层位于上述银盐乳剂层的上层侧，上述透明导电层的上述导电性微粒的含量为0.2～0.4g/m2。
[9]根据第2发明，其特征在于，上述透明导电层位于上述银盐乳剂层的下层侧，上述透明导电层的上述导电性微粒的含量为0.15～0.5g/m2。
[10]根据第2发明，其特征在于，当上述导电性微粒为球状时，平均粒径为0.085～0.12μm，当上述导电性微粒为针状时，长轴的平均轴长为0.2～20μm、短轴的平均轴长为0.01～0.02μm。
[11]本发明的第3发明涉及一种导电性材料，其特征在于，其是通过将上述第2发明涉及的导电膜形成用感光材料进行图案曝光、显影处理而得到的。
[12]本发明的第4发明涉及一种导电膜，其特征在于，其在支撑体上具有导电层，其中，上述导电层或上述导电层以外的层含有导电性微粒和粘合剂，上述导电性微粒与粘合剂的质量比(导电性微粒/粘合剂)为1/3～2/1。
如上所述，本发明的触摸屏用导电膜具有作为触摸屏用导电膜的良好的导电性，波纹充分减少，触摸屏特性优异。本发明的触摸屏用导电膜由于导电层的表面电阻为1000～2500Ω/sq.，因此触摸屏(特别是静电容量式)的信号特性优异，噪声充分减少。另外，通过使网格图案的间距为1400μm以下，导电层的网格图案变得不醒目，外观良好。因此，通过触摸屏显示的文字和图像等清晰易见，可见性优异。另外，本发明的触摸屏用导电膜由于在要求精度的笔输入中直线性优异，表面电阻的偏差充分减少，因此可以无需触摸屏侧的过度的设定、例如用于补正直线性或电阻偏差的过度地设定。
另外，本发明的导电膜形成用感光材料、导电材料和导电膜可以制造具有上述效果的触摸屏用导电膜。
【附图说明】
图1是局部省略地表示本实施方式的触摸屏用导电膜的截面图。
图2是表示导电层的网格图案的一个例子(直线格子图案)的俯视图。
图3是表示导电层的网格图案的另一例子(波浪线格子图案)的俯视图。
【具体实施方式】
以下，参照图1～图3对将本发明的触摸屏用导电膜、导电膜形成用感光材料、导电材料以及导电膜例如用于触摸屏时的实施方式的例子进行说明。
如图1所示，本实施方式的触摸屏用导电膜10在支撑体12上具有含有银的2层导电层14。2层导电层14间隔着间隙23相向地层叠。这些导电层14通过将银盐乳剂层16曝光显影而形成，银盐乳剂层16的涂布银量为1.5～3.1g/m2。
另外，如图2所示，导电层14形成间距Pa为600μm～800μm的网格图案18，且其表面电阻为200～800Ω/sq.。导电层14是包含形成为网格状的导电部分20和除此以外的开口部22的层。另外，在触摸屏用导电膜10上有时会设置透明导电层，但即使在这种情况下透明导电层的表面电阻也比导电层14的表面电阻大，因此导电层14的表面电阻成为触摸屏用导电膜10的表面电阻。
这样的本实施方式的触摸屏用导电膜10可以通过在下文详述的特定的卤化银感光材料即银盐乳剂层16上曝光显影特定形状的网格图案18来得到。
另外，可以在支撑体12与导电层14之间插入未图示的透明导电层，也可以在导电层14与触摸屏的表面层之间插入透明导电层。
以下，对本实施方式的触摸屏用导电膜10的各层的构成进行详细说明。
[支撑体12]
作为本实施方式的触摸屏用导电膜10中使用的支撑体12，可以列举塑料膜、塑料板、玻璃板等。
作为上述塑料膜和塑料板的原料，例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA等聚烯烃类；乙烯基类树脂；以及聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯酸树脂、三乙酰基纤维素(TAC)等。
作为支撑体12，优选PET(熔点为258℃)、PEN(熔点为269℃)、PE(熔点为135℃)、PP(熔点为163℃)、聚苯乙烯(熔点为230℃)、聚氯乙烯(熔点为180℃)、聚偏氯乙烯(熔点为212℃)或TAC(熔点为290℃)等熔点为约290℃以下的塑料膜或塑料板，特别是从透光性和加工性等观点出发，优选PET。由于触摸屏用导电膜10这样的透明导电性膜要求透明性，因此优选支撑体12的透明度高。
[银盐乳剂层16]
成为触摸屏用导电膜10的导电层14的银盐乳剂层16，除含有银盐和粘合剂外，还含有溶剂和染料等添加剂。
作为本实施方式中使用的银盐，可以列举卤化银等无机银盐以及乙酸银等有机银盐。在本实施方式中，优选使用作为光传感器的特性优异的卤化银。
银盐乳剂层16的涂布银量(银盐的涂布量)换算成银为1.5～3.1g/m2。当该涂布银量不满足上述范围时，制成触摸屏用导电膜10时不能得到所希望的表面电阻。
作为本实施方式中使用的粘合剂，可以列举例如明胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、聚乙烯基胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚海藻酸、聚透明质酸、羧基纤维素等。它们根据官能团的离子性的不同而具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。
本实施方式的银盐乳剂层16中含有的粘合剂的含量没有特殊限定，可以在能够发挥分散性和粘附性的范围内适当决定。银盐乳剂层16中的粘合剂的含量，按Ag/粘合剂体积比计，优选为1/4以上，更优选为1/2以上。Ag/粘合剂体积比优选为100/1以下，更优选为50/1以下。另外，Ag/粘合剂体积比进一步优选为1/2～2/1。最优选为1/2～0.7/1。通过使银盐乳剂层16中的Ag/粘合剂体积比在该范围内，即使在调节了涂布银量的情况下也能抑制电阻值的偏差，得到具有均匀的表面电阻的触摸屏用导电膜10。
<溶剂>
银盐乳剂层16的形成中使用的溶剂没有特殊限定，可以列举例如水、有机溶剂(例如甲醇等醇类、丙酮等酮类、甲酰胺等酰胺类、二甲亚砜等亚砜类、乙酸乙酯等酯类、醚类等)、离子性液体以及它们的混合溶剂。
本实施方式的银盐乳剂层16中使用的溶剂的含量，相对于银盐乳剂层16中含有的银盐、粘合剂等的总质量，为30～90质量％的范围，优选为50～80质量％的范围。
<其他添加剂>
关于本实施方式中使用的各种添加剂，没有特殊限制，可以优选使用公知的添加剂。
[其他的层构成]
在银盐乳剂层16上可以设置未图示的保护层。在本实施方式中，“保护层”是指由明胶或高分子聚合物等粘合剂形成的层，为了发挥防止擦伤和改善力学特性的效果而形成于具有感光性的银盐乳剂层16上。其厚度优选为0.2μm以下。保护层的涂布方法和形成方法没有特殊限定，可以适当选择公知的涂布方法和形成方法。
另外，在银盐乳剂层16的下方，还可以设置例如底涂层。
[导电性聚合物层、导电性微粒层]
本实施方式的触摸屏用导电膜10还可以进一步具有含有PEDOT等导电性聚合物的导电性聚合物层或含有导电性微粒的导电性微粒层。该导电性聚合物层或导电性微粒层是导电性为1.0×107Ω/sq.以上的导电性低的、高电阻的透明导电层。通过设置这种高电阻的透明导电层，在形成了触摸屏用导电膜10后，能使表面电阻的面内偏差均匀，笔输入时的直线性提高。这种高电阻的透明导电层，在制成触摸屏用导电膜10后，只要位于与导电层14电导通的位置即可，例如高电阻的透明导电层优选在制造时与银盐乳剂层16(导电层14)邻接地形成。
导电性微粒层通过使银盐乳剂层16自身、或在与银盐乳剂层16邻接的位置上形成的层、或介于银盐乳剂层16和表面层之间的层、或表面层自身、或介于支撑体12和银盐乳剂层16之间的层含有导电性微粒和粘合剂而形成。导电性微粒和粘合剂的质量比(导电性微粒/粘合剂)优选为1/3～2/1，更优选为1/3～1/1。当使银盐乳剂层16自身含有导电性微粒和粘合剂时，在导电层14的网格图案18的开口部22形成了导电性微粒层。即，网格图案18的开口部22作为分散有导电性微粒的透光部起作用。
当在银盐乳剂层16以外的位置形成导电性微粒层时，导电性微粒层优选形成于与银盐乳剂层16邻接的位置，还优选形成于银盐乳剂层16和支撑体12之间。另外，当导电性微粒层介于银盐乳剂层16和表面层之间时，或为表面层自身时，在触摸屏用导电膜10的制造工序中，导电性微粒发生反应，有可能导致触摸屏用导电膜10的透明性降低。
<导电性微粒和粘合剂>
关于导电性微粒，可以列举SnO2、ZnO、TiO2、Al2O3、In2O3、MgO、BaO以及MoO3等金属氧化物及它们的复合氧化物(含有2种以上金属离子的氧化物)、以及这些金属氧化物中进一步含有异种原子的金属氧化物的粒子。作为金属氧化物，优选SnO2、ZnO、TiO2、Al2O3、In2O3、MgO，特别优选SnO2。
对本实施方式中使用的导电性微粒的形状没有特殊限制，可以列举粒状、针状等。另外，关于其大小，球形粒子时，优选平均粒径为0.085～0.12μm。针状时，优选长轴的平均轴长为0.2～20μm、短轴的平均轴长为0.01～0.02μm。
使银盐乳剂层16中含有导电性微粒和粘合剂时，导电性微粒的涂布量优选为0.15～0.5g/m2。当导电性微粒层位于银盐乳剂层16的上层侧时，导电性微粒的涂布量优选为0.2～0.4g/m2。当导电性微粒层位于银盐乳剂层16的下层侧时，导电性微粒的涂布量优选为0.15～0.5g/m2。
为了使导电性微粒与支撑体12粘附，在导电性微粒层中附加性地使用粘合剂。作为这样的粘合剂，优选使用水溶性聚合物。
作为上述粘合剂，可以列举例如明胶、角叉胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、多糖、聚乙烯基胺、壳聚糖、聚赖氨酸、聚丙烯酸、聚海藻酸、聚透明质酸、羧基纤维素、阿拉伯胶、藻酸钠等。它们因官能团的离子性的不同而具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。
另外，作为明胶，除石灰处理明胶外，还可以采用酸处理明胶，可以使用明胶的水解产物、明胶的酶分解产物、以及氨基、羧基修饰的明胶(邻苯二甲酰化明胶、乙酰化明胶)。
[触摸屏用导电膜10]
本实施方式的触摸屏用导电膜10是通过将形成于支撑体12上的银盐乳剂层16进行网格状图案曝光、显影处理而得到的。
本实施方式中，通过图案曝光、显影处理形成的网格图案18，有如图2所示的网格状、且是直线近似正交形态的直线格子图案，还有如图3所示的交叉部24间的导电部分20具有至少1个弯曲的波浪线格子图案等。本实施方式中，优选导电层14的网格图案18的间距Pa(导电部分20的线宽Wa和开口部22的宽度Wb的合计)为600μm～800μm。
另外，在本实施方式中，通过在导电层14上进一步涂布导电性聚合物，可以进一步形成高电阻的透明导电层。
[曝光]
将银盐乳剂层16进行图案曝光的方法，可以通过利用了光掩模的面曝光来进行，也可以通过利用激光光束的扫描曝光来进行。此时，可以是采用了透镜的折射式曝光，也可以是采用了反射镜的反射式曝光，可以采用接触曝光、近接式曝光、缩小投影曝光、反射投影曝光等曝光方式。
[显影处理]
如上所述，银盐乳剂层16被图案曝光后，进一步实施显影处理。显影处理可以采用在银盐照相胶片、印相纸、印刷制版用胶片、光掩模用乳胶掩模等中常用的显影处理技术。
在本实施方式中，通过进行上述图案曝光和显影处理，在曝光部分形成网格图案状的导电部分20(金属银部)，同时在未曝光部形成开口部22(透光部)。
对银盐乳剂层16的显影处理，可以包含以除去未曝光部分的银盐并实现稳定化为目的而进行的定影处理。对银盐乳剂层16的定影处理可以采用在银盐照相胶片、印相纸、印刷制版用胶片、光掩模用乳胶掩模等中使用的定影处理技术。
如此得到的本实施方式的触摸屏用导电膜10的导电层14，当导电性微粒进入银盐乳剂层16时，导电性微粒分散到没有银盐的开口部22(透光部)，形成电阻高于导电部分20(金属银部)的透明导电层。
另外，当在银盐乳剂层16以外的位置形成导电性微粒层时，导电性微粒层中与导电层14的开口部22对应的部分，与上述同样，作为分散有导电性微粒的透光部起作用。
另外，在本实施方式的触摸屏用导电膜10的制造方法中，无需镀敷等工序。这是因为，在本实施方式的触摸屏用导电膜10的制造方法中，通过调节银盐乳剂层16的涂布银量、银/粘合剂比，即能够得到所希望的表面电阻。另外，根据需要，还可以进行轧光处理等。
(显影处理后的硬膜处理)
对银盐乳剂层16进行显影处理后，优选浸渍到硬膜剂中进行硬膜处理。作为硬膜剂，可以列举例如戊二醛、己二醛、2，3-二羟基-1，4-二噁烷等二醛类以及硼酸等在日本特开平2-141279号中记载的化合物。
上述本实施方式的银盐乳剂层16和导电性材料可以与下述表1和表2中记载的公开公报和国际公开小册子的技术适当组合使用。其中，省略了“特开”、“号公报”、“号小册子”等表述。
[表1]
2004-221564 2007-235115 2006-332459 2007-102200 2006-228478 2006-348351 2007-134439 2007-310091 2005-302508 2008-267814 2008-283029 2009-4213 2008-147507 2008-218096 2008-241987 2004-221565 2007-207987 2009-21153 2006-228473 2006-228836 2007-270321 2007-149760 2007-116137 2008-218784 2008-270405 2008-288305 2009-10001 2008-159770 2008-218264 2008-251274 2007-200922 2006-012935 2007-226215 2006-269795 2007-009326 2007-270322 2007-208133 2007-088219 2008-227350 2008-277675 2008-288419 2009-16526 2008-159771 2008-224916 2008-251275 2006-352073 2006-010795 2006-261315 2006-269795 2006-336090 2007-201378 2007-178915 2007-207883 2008-227351 2008-277676 2008-300720 2009-21334 2008-171568 2008-235224 2008-252046 2007-129205 2006-228469 2007-072171 2006-324203 2006-336099 2007-335729 2007-334325 2007-013130 2008-244067 2008-282840 2008-300721 2009-26933 2008-198388 2008-235467 2008-277428
[表2]
2006/001461 2006/098335 2006/088059 2006/098334 2006/098333 2007/001008 2006/098336 2006/098338
[底涂层]
为了防止导电层14从支撑体12剥离，优选在支撑体12上设置底涂层。作为底涂层的材料，可以使用丙烯酸酯共聚物、聚偏氯乙烯、苯乙烯-丁二烯橡胶、聚酯等。底涂层的厚度优选为0.05～0.5μm。
<触摸屏>
本实施方式的触摸屏用导电膜10例如适用于电阻膜式的触摸屏。
关于电阻膜式的触摸屏，当指尖触碰触摸屏的表面，该部分的导电层14之间接触，在2层导电层14之间流过电流，检测在2层导电层14之间产生的电压，即可求得指尖的坐标。
特别是本实施方式的触摸屏用导电膜10，由于表面电阻为200～800Ω/sq.，因此电阻膜式触摸屏的信号特性优异，能够充分地减少噪声，由此，可以实现精度高且响应速度快的位置检测。
另外，由于导电层14的网格图案18的间距Pa为600μm以上，因此能充分地减少波纹，而且，由于间距Pa为800μm以下，因此导电层14的网格图案18变得不醒目，外观良好。因此，能提供通过触摸屏显示的文字和图像等变得清晰易见、可见性优良的触摸屏。
此外，由于在导电层14的开口部22或在导电层14以外的位置上形成有导电性微粒层或导电性聚合物层等透明导电层，因而能使触摸屏用导电膜10在整个面具有导电性，能够进行忠实地追随于笔输入的坐标检测，例如可以提高笔输入时的直线性。
另外，由于在支撑体12上形成底涂层，而且将银盐乳剂层16进行显影处理后，浸渍到硬膜剂中进行硬膜处理，因此触摸屏的滑动性提高，特别是即使笔在端子附近滑动，也不会出现导电层断线等，能避免局部表面电阻升高的现象。
<实施例>
以下，根据实施例来详细说明本发明，但本发明不限于这些实施例。
[实施例1]：参照表3
(乳剂A的制备)
·1液：
水 750ml
明胶(邻苯二甲酰化处理明胶) 8g
氯化钠 3g
1，3-二甲基咪唑烷-2-硫酮(1，3-Dimethylimidazolidine-2-thione)
20mg
苯硫代磺酸钠 10mg
柠檬酸 0.7g
·2液
水 300ml
硝酸银 150g
·3液
水 300ml
氯化钠 38g
溴化钾 32g
六氯铱(III)酸钾
(0.005％KCl 20％水溶液) 5ml
六氯铑酸铵
(0.001％NaCl 20％水溶液) 7ml
3液中使用的六氯铱(III)酸钾(0.005％KCl 20％水溶液)和六氯铑酸铵(0.001％NaCl 20％水溶液)通过如下方法来制备：将各自的络合物粉末分别在KCl 20％水溶液、NaCl 20％水溶液中溶解，在40℃下加热120分钟。
向保持于38℃、pH为4.5的1液中，边搅拌边用20分钟加入2液和3液的各相当于90％的量，形成0.16μm的核粒子。接着，用8分钟加入下述4液、5液，然后用2分钟加入2液和3液的剩余的10％的量，使核粒子成长至0.21μm。然后，加入碘化钾0.15g，熟化5分钟，结束粒子形成。
·4液
水 100ml
硝酸银 50g
·5液
水 100ml
氯化钠 13g
溴化钾 11g
黄血盐 5mg
然后，根据常规方法，采用絮凝法进行水洗。具体而言，将温度降至35℃，用硫酸使pH下降直至出现卤化银沉淀(pH为3.6±0.2的范围)。
接着，除去约3L上清液(第一水洗)。然后，加入3L蒸馏水后，加入硫酸直至出现卤化银沉淀。再次除去3L上清液(第二水洗)。再重复1次与第二水洗相同的操作(第三水洗)，结束水洗、脱盐工序。
将水洗、脱盐后的乳剂调节至pH为6.4、pAg为7.5，加入苯硫代磺酸钠10mg、苯硫代亚磺酸钠3mg、硫代硫酸钠15mg和氯化金酸10mg，在55℃下实施化学增感以获得最适感度，加入作为稳定剂的1，3，3a，7-四氮杂茚100mg、作为防腐剂的Proxel(商品名，ICI Co.，Ltd.制)100mg。最终得到含有70摩尔％氯化银、0.08摩尔％碘化银的平均粒径为0.22μm、波动系数为9％的碘氯溴化银立方体颗粒乳剂。最终作为乳剂，pH＝6.4，pAg＝7.5，电导率＝40μS/m，密度＝1.2×103kg/m3，粘度＝60mPa·s。
(涂布液的制备)
在上述乳剂A中加入增感色素(SD-1：参照下述化学式)5.7×10-4mol/molAg，实施分光增感。然后加入KBr 3.4×10-4mol/molAg、化合物(Cpd-3：参照下述化学式)8.0×10-4mol/molAg，充分混合。
接着，添加1，3，3a，7-四氮杂茚1.2×10-4mol/molAg、对苯二酚1.2×10-2mol/molAg、柠檬酸3.0×10-4mol/molAg、2，4-二氯-6-羟基-1，3，5-三嗪钠盐90mg/m2、相对于明胶为15wt％的粒径为10μm的胶体二氧化硅、水性乳胶(aqL-6：参照下述化学式)50mg/m2、聚丙烯酸乙酯乳胶100mg/m2、丙烯酸甲酯和2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸钠盐和甲基丙烯酸(2-乙酰氧基乙基)酯的乳胶共聚物(质量比为88∶5∶7)100mg/m2、核壳型乳胶{核：苯乙烯/丁二烯共聚物(质量比为37/63)、壳：苯乙烯/丙烯酸(2-乙酰氧基乙基)酯(质量比为84/16、核/壳比为＝50/50)}100mg/m2、相对于明胶为4wt％的化合物(Cpd-7：参照下述化学式)，用柠檬酸将涂布液的pH调至5.6。
(底涂层)
如下操作，在支撑体上设置底涂层(作为支撑体，采用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)(厚度为100μm)。PET采用事先进行了表面亲水化处理的PET)。作为按照下述说明形成的卤化银乳剂层的底涂层，按照明胶为0.195g/m2的方式设置。该底涂层也兼作为透明导电层。
·1液
水 410ml
明胶 11.4g
Sb掺杂氧化锡(石原产业公司制，商品名SN100P) 19.5g
底涂层中可以添加照相技术中公知的表面活性剂等。
(卤化银乳剂层)
在上述底涂层上涂布使用乳剂A并按上述方法制备的乳剂层涂布液，并使Ag为1.5g/m2、明胶为0.21g/m2。即，按照Ag与明胶(粘合剂)的比为1/1.1(体积比)的方式来涂布。
(保护层)
在卤化银乳剂层上设置保护层。
·1液：
水 985ml
明胶 15g
此外，适当添加照相技术中公知的表面活性剂、防腐剂、pH调节剂。
将如此得到的涂布品干燥后，作为样品A。在透明导电层(底涂层)上按照导电性微粒为0.3354g/m2、导电性微粒/粘合剂比为1.71/1(质量比)的方式涂布导电性微粒。另外，为了分析导电性微粒单独的电阻(开口部的表面电阻)，将该样品A不进行曝光、显影处理而只进行定影处理，测定没有卤化银的表面电阻，结果为1.5×109Ω/sq.。
(曝光、显影处理)
接着，对上述制备的样品A，借助能形成线宽/间隔＝8μm/692μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝692μm/8μm(间距为700μm)的间隔为格子状的光掩模，并用以高压汞灯为光源的平行光进行曝光，用下述显影液显影，然后用定影液(商品名：CN16X用N3X-R：富士胶片株式会社制)进行显影处理后，用纯水淋洗，得到实施例1的触摸屏用导电膜。
[显影液的组成]
在1L显影液中含有以下化合物。
对苯二酚 0.037mol/L
N-甲基氨基苯酚 0.016mol/L
偏硼酸钠 0.140mol/L
氢氧化钠 0.360mol/L
溴化钠 0.031mol/L
焦亚硫酸钾 0.187mol/L
[显影后的硬膜处理]
显影后，在戊二醛水溶液中浸渍，进行硬膜处理。
[实施例2]：参照表3
使Ag为1.7g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例2的触摸屏用导电膜。
[实施例3]：参照表3
使Ag为1.9g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例3的触摸屏用导电膜。
[实施例4]：参照表3
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例4的触摸屏用导电膜。
[实施例5]：参照表3
使Ag为2.3g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例5的触摸屏用导电膜。
[实施例6]：参照表3
使Ag为2.5g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例6的触摸屏用导电膜。
[实施例7]：参照表3
使Ag为2.7g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例7的触摸屏用导电膜。
[实施例8]：参照表4
使Ag为2.9g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例8的触摸屏用导电膜。
[实施例9]：参照表4
使Ag为3.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例9的触摸屏用导电膜。
[实施例10]：参照表4
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝8μm/592μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝592μm/8μm(间距为600μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例10的触摸屏用导电膜。
[实施例11]：参照表4
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝8μm/792μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝792μm/8μm(间距为800μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例11的触摸屏用导电膜。
[实施例12]：参照表4
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，在支撑体上不进行表面亲水化处理，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例12的触摸屏用导电膜。
[实施例13]：参照表4
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，在显影处理后不进行利用戊二醛水溶液浸渍的硬膜处理，除此以外均与实施例1同样操作，得到实施例13的触摸屏用导电膜。
[比较例1]：参照表5
使Ag为1.4g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例1的触摸屏用导电膜。
[比较例2]：参照表5
使Ag为3.2g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例2的触摸屏用导电膜。
[比较例3]：参照表5
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝8μm/492μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝492μm/8μm(间距为500μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例3的触摸屏用导电膜。
[比较例4]：参照表5
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝8μm/892μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝892μm/8μm(间距为900μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例4的触摸屏用导电膜。
[比较例5]
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝8μm/592μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝592μm/8μm(间距为600μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，并且不形成透明导电层，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例5的触摸屏用导电膜。
[比较例6]
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，并且不形成透明导电层，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例6的触摸屏用导电膜。
[比较例7]
使Ag为2.1g/m2来涂布卤化银乳剂层的涂布液，借助能形成线宽/间隔＝8μm/792μm的显影银像的格子状的光掩模线宽/间隔＝792μm/8μm(间距为800μm)的间隔为格子状的光掩模进行曝光，并且不形成透明导电层，除此以外均与实施例1同样操作，得到比较例7的触摸屏用导电膜。
[评价]
(表面电阻的测定和表面电阻的偏差的评价)
导电层14的表面电阻使用COPER电子株式会社制的非接触电阻仪717B(H)来测定。另外，开口部22的表面电阻使用ADVANTEST公司制的数字超高电阻(SR计)R8340A来测定。
(波纹的评价)
准备去除了表面的电磁波屏蔽膜的松下电器制PDP(TH-42PX300)，在其上配置旋转盘，该旋转盘用于设置已制作的触摸屏用导电膜。旋转盘由厚度为5mm的玻璃制成，模仿PDP前面板。此外，还带有角度刻度，可得知设置的触摸屏用导电膜的偏角。将电源切入PDP，将PDP的HDMI端子与图像发生器(ASTROVG828D)连接。将来自图像发生器的输出值最大的白色255信号送至PDP。用胶带将触摸屏用导电膜平整地固定在旋转盘上。使房间成为暗室，使旋转盘在偏角-45°～+45°之间旋转，肉眼观察并评价波纹。关于波纹的可见性，在距离PDP的正面1.5m的观察距离处进行观察，将波纹不明显的评价为◎，将可见极少的波纹但不成为问题的评价为○，将波纹明显的评价为×，对各偏角进行评价。作为综合评分，将成为◎的角度范围为15°以上的评价为○5，将成为◎的角度范围低于15°且在10°以上的评价为○4，将成为◎的角度范围低于10°的评价为△3，将不存在成为◎的角度范围且成为×的角度范围低于10°的评价为△2，将不存在成为◎的角度范围且成为×的角度范围为10°以上的评价为×1。
(外观的评价)
使在波纹的评价中使用的PDP的显示逐渐从黑色变为白色，肉眼观察时，将触摸屏用导电膜的网格图案醒目时的灰阶标准化为5个阶段来进行评价。此时，将网格图案以近黑色的灰度醒目的评价为“×1”，以近白色的灰度醒目的或完全不醒目的评价为“○5”，如此来进行评价，以其间的灰度醒目的，从接近白色向黑色依次分成“○4”、“△3”、“△2”。
(直线性的评价)
在触摸屏用笔输入边长为5cm的正方形，肉眼观察确认此时描绘的正方形的各边是否存在断线或紊乱(细小的凹凸)。当4边均没有断线或紊乱时评价为○5，任意1边有断线或紊乱时评价为○4，任意2边有断线或紊乱时评价为△3，任意3边有短线或紊乱时评价为×2，所有边均有断线或紊乱时评价为×1。
(滑动性的评价)
将长条形触摸屏用导电膜的一端固定，使0.8R的聚缩醛制的笔尖在触摸屏用导电膜中距离固定位置0.5mm的部分上滑动。对笔尖施加500g的负荷，滑动速度为5次/秒，滑动长度为20m。笔尖滑动后，用上述口レスタ一GP(型号MCP-T610)串联4探针(ASP)测定触摸屏用导电膜的表面电阻，分析相对于初期表面电阻的上升率。若上升率低于1.5则评价为○，若在1.5以上且低于2.0则评价为△，若在2.0以上则评价为×。
由实施例1～13可知，触摸屏用导电膜的表面电阻在200～800Ω/sq.的范围内，例如适用于电阻膜式的触摸屏。而且，由于导电层14的网格图案18的间距Pa为600μm以上，因此波纹充分减少。另外，由于网格图案18的间距Pa为800μm以下，因此导电层14的网格图案18变得不醒目，外观良好。因此，特别是实施例1～13，能提供通过触摸屏显示的文字和图像等清晰易见、可见性优异的触摸屏。
此外，由实施例1～13可知，由于形成了不同于导电层14的分散有导电性微粒的透明导电层，因此笔输入时的直线性提高。另外，实施例1～11由于在支撑体上形成了底涂层，而且还进行了硬膜处理，因此滑动性提高。另外，实施例12由于没有形成底涂层，因此其评价为×。另外，实施例13由于没有实施硬膜处理，因此其评价为△。
另一方面，比较例1和2的表面电阻均脱离了200～800Ω/sq.的范围。另外，比较例3由于间距为500μm(低于600μm)，因此波纹醒目，其评价为×2。相对地，比较例4由于间距为900μm(超过800μm)，因此网格图案醒目，其评价为×2。比较例5～7由于没有形成透明导电层，因此直线性差，其评价均为×1。
需要说明的是，本发明的触摸屏用导电膜及其制造方法不限于上述实施方式，在不脱离本发明主旨的前提下，可以采用各种构成，这点毋庸置疑。