导电片结构.pdf

上传人:1520****312 文档编号:788284 上传时间:2018-03-11 格式:PDF 页数:8 大小:362.76KB
返回 下载 相关 举报
摘要
申请专利号:

CN200910306989.8

申请日:

2009.09.14

公开号:

CN102024508A

公开日:

2011.04.20

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||专利申请权的转移IPC(主分类):H01B 5/14变更事项:申请人变更前权利人:群康科技(深圳)有限公司变更后权利人:群康科技(深圳)有限公司变更事项:地址变更前权利人:518109 广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园E区4栋1层变更后权利人:518109 广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园E区4栋1层变更事项:共同申请人变更前权利人:群创光电股份有限公司变更后权利人:奇美电子股份有限公司登记生效日:20120305|||实质审查的生效IPC(主分类):H01B 5/14申请日:20090914|||公开

IPC分类号:

H01B5/14; G02F1/133; B32B9/04; B32B33/00; G06F3/041

主分类号:

H01B5/14

申请人:

群康科技(深圳)有限公司; 群创光电股份有限公司

发明人:

王相华

地址:

518109 广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园E区4栋1层

优先权:

专利代理机构:

代理人:

PDF下载: PDF下载
内容摘要

本发明涉及一种导电片结构,该导电片结构包括一基板、一纳米碳管层和一第一功能层。该导电片结构还包括一第二功能层和一第三功能层。其中,第一功能层、第二功能层和第三功能层各自具有至少下列功能之一:低折射、高折射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电、抗刮。

权利要求书

1: 一种导电片结构,其包括一基板和一纳米碳管层,其特征在于 :该导电片结构进 一步包括一第一功能层,该第一功能层具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、 抗静电和抗刮的功能中的其中之一。
2: 如权利要求 1 所述的导电片结构,其特征在于 :该第一功能层与该纳米碳管层位 于该基板的一侧,且该第一功能层包括一抗反射层、一抗眩层、一抗牛顿环层及一抗刮 的硬化涂层中的其中之一。
3: 如权利要求 2 所述的导电片结构,其特征在于 :该抗反射层包括一低折射率涂 层,该低折射率涂层的折射系数固定且小于该基板的折射系数。
4: 如权利要求 3 所述的导电片结构,其特征在于 :该低折射率涂层的折射系数小于 1.49。
5: 如权利要求 4 所述的导电片结构,其特征在于 :该低折射率涂层的折射系数大于 1.2。
6: 如权利要求 3 所述的导电片结构,其特征在于 :该抗反射层进一步包括一高折射 率涂层,该高折射率涂层的折射系数固定,且大于该低折射率涂层的折射系数并小于该 基板的折射系数。
7: 如权利要求 3 所述的导电片结构,其特征在于 :该低折射率涂层位于该纳米碳管 层与该基板之间,该低折射率涂层的厚度小于 10um。
8: 如权利要求 2 所述的导电片结构,其特征在于 :该纳米碳管层位于该第一功能层 与该基板之间,该第一功能层接触该纳米碳管层,且该第一功能层的厚度小于 2um。
9: 如权利要求 2 所述的导电片结构,其特征在于 :该导电片结构进一步包括一第二 功能层,该第二功能层设于该基板的另一侧,具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛 顿环、抗静电和抗刮的功能中的其中之一。
10: 一种导电片结构,其包括一基板和一纳米碳管层,其特征在于 :该导电片结构进 一步包括一第一功能层,该纳米碳管层位于该第一功能层与该基板之间,该第一功能层 接触该纳米碳管层,且该第一功能层的厚度小于 2um。
11: 如权利要求 10 所述的导电片结构,其特征在于 :该第一功能层包括一抗反射 层、一抗眩层、一抗牛顿环层及一抗括的硬化涂层中的其中之一。
12: 如权利要求 11 所述的导电片结构,其特征在于 :该抗反射层包括一低折射率涂 层,该低折射率涂层的折射系数固定且小于该基板的折射系数。

说明书


导电片结构

    【技术领域】
     本发明涉及一种导电片结构,特别是关于一种具有纳米碳管层的导电片结构。背景技术 触摸屏 (touch panel) 逐渐普遍应用在电子装置中,特别是可携式或手持式电子 装置,例如个人数字助理 (Personal Digital Assistant, PDA) 或移动电话。 触摸屏是将如 电阻式、电容式或光学式的触控技术与显示面板予以结合的一种应用技术。 由于近年来 液晶显示 (Liquid Crystal Display, LCD) 面板技术的成熟发展,因此将触控技术应用于液 晶显示面板上而发展出液晶触摸屏乃成为一种趋势。
     现有技术触摸屏主要使用氧化铟锡 (Indium Tin Oxide, ITO) 材料作为的导电 层,因此一般又称之为 ITO 触摸屏。 近来有使用纳米碳管 (Carbon NanoTube, CNT) 作 为导电层的 CNT 触摸屏的提出。 图 1A 显示现有技术电阻式 CNT 触摸屏的剖面图,其主 要包括上基板 10A 和上 CNT 层 11A 所构成的上层导电片结构,以及下基板 10B 和下 CNT 层 11B 所构成的下层导电片结构。在上、下层导电片结构之间设有间隔物 (spacer)12,且 以黏剂 13 将上、下层导电片结构固定在一起。 位于下基板 10B 底下的是液晶显示 (LCD) 面板 14 及提供光源的背光模块 15。 在操作时,当手指或触控笔触碰上基板 10A 的触控 表面的某一触碰点时,会造成上 CNT 层 11A 和下 CNT 层 11B 接触在一起,因而改变触 碰点的原本电压值。 通过分别侦测上 CNT 层 11A 和下 CNT 层 11B 的电压改变位置,因 而得以决定触碰点的坐标位置。
     图 1B 显示图 1A 上层导电片结构或下层导电片结构的放大剖面图,现有技术 CNT 触摸屏的导电片结构主要包括有基板 10 及 CNT 层 11。 其中,CNT 层 11 透过一黏 着剂 ( 图未示 ) 设于基板 10 的表面,助于两者之间的固着。
     由于 CNT 层 11 是由纳米碳管所构成的薄膜,其光学、物理、化学或电气等特性 异于 ITO 导电层,因此,可进一步改善如图 1B 所示的现有技术导电片结构,使其光学、 物理、化学或电气等特性得以提升。
     发明内容 为解决现有技术导电片的光学、物理、化学或电气特性较差的问题,本发明提 供一种光学、物理、化学或电气特性较好的导电片。
     一种导电片结构,其包括基板、纳米碳管层及设于纳米碳管层上方或下方的功 能层。 其中,功能层具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电及抗刮的功 能中的其中之一。 由此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特性,因而 提升所应用的纳米碳管触摸屏或具有纳米碳管导电层的显示装置的整体效能。
     若纳米碳管层位于功能层与基板之间时,功能层接触纳米碳管层,且功能层的 厚度小于 2um,确保该纳米碳管层仍可因受按压而改变其上的电压。
     附图说明
     图 1A 显示现有技术一种电阻式 CNT 触摸屏的剖面图。 图 1B 显示图 1A 的上层导电片结构或下层导电片结构的放大剖面图。 图 2A 至图 2C 显示本发明第一实施方式的导电片结构。 图 3A 至图 3C 显示本发明第二实施方式的导电片结构。 图 4A 至图 4B 显示本发明第三实施方式的导电片结构。具体实施方式
     以下所讨论的实施方式,其揭露的导电片结构可适用于如图 1A 所示的纳米碳管 (CNT) 触摸屏,然而,这些实施方式所揭露的导电片结构也可适用异于图 1A 的其它 CNT 触摸屏或使用 CNT 导电层的显示装置。
     图 2A 显示本发明第一实施方式的导电片结构。 在本实施方式中,导电片结构包 括基板 20、CNT 层 22 和设于基板 20 和 CNT 层 22 之间的第一功能层 21A。 其中,基板 20 为一透明绝缘层,其材料可选择性地为下列材料之一或其部分的组合 :聚对苯二甲酸 乙二酯 (Poly-Ethylene-Terephthalate, PET)、聚碳酸酯 (Polycarbonate, PC)、聚甲基丙 烯酸甲酯 (Poly-Methyl-Meth-Acrylate, PMMA)、聚氯乙烯 (Polyvinylchloride, PVC)、 三醋酸纤维素 (Triacetyl cellulose,TAC) 膜、玻璃。 CNT 层 22 为一纳米碳管膜,其可以 为单壁或多壁的纳米碳管经单轴或多轴延伸制造具孔隙的丝线状、栅栏状或网状的导电 膜结构。 所形成的纳米碳管膜会在延伸的方向具最小的电阻抗,而在垂直于延伸方向具 最大的电阻抗,因而形成电阻抗异向性。 在本实施方式中,第一功能层 21A 可包括一或多层,其可以使用一般的涂布 (coating) 或镀膜技术来实施。 在一实施方式中,第一功能层 21A 为低折射率涂层 21, 简称为 LR 层,低折射率涂层 21 的折射系数为固定且小于基板 20 的折射系数,用以作为 提升光线的穿透率的抗反射 (anti-reflective, AR) 层,如图 2B 所示,在本实施方式中, 低折射率涂层 21 的折射系数大约小于 1.49,并可进一步大于 1.2。 低折射率涂层 21 的材 料可以为含氟或硅的有机或无机材料。 在本实施方式中,低折射率涂层 21 的厚度范围为 0.05-10um。 上述 CNT 层 22 是具孔隙的导电膜结构,因此,CNT 层 22 的折射系数和基 板 20 的折射系数会不匹配,容易造成光线反射,而本实施方式的低折射率涂层 21 即可助 于减少光线被反射。
     在另一实施方式中,第一功能层 21A 可包括上述的低折射率涂层 21 和一高折射 率涂层 23,高折射率涂层 23 的折射系数为固定,且大于低折射率涂层 21 的折射系数及小 于基板 20 的折射系数,在本实施方式中,高折射率涂层 23 的折射系数大于 1.55。 高折 射率涂层 23 的材料可以为具高折射率的高分子材料,或含高折射率的无机材料如二氧化 钛 (TiO2)、ITO、铝掺杂的氧化锌 (AZO) 等。 高折射率涂层 23 搭配低折射率涂层 21 可 组成另一种具抗反射功能的抗反射层,其结构如图 2C 所示,可用以防止或减少因反射所 造成的光损失,以提升光穿透率。
     第一功能层 21A 也可以是具抗污 (anti-smudge) 功能的抗污层,用以防止或减少 污染物通过 CNT 层 22 的纳米碳管间的空隙而污染导电片结构。 与抗污类似的是抗指纹 (anti-fingerprinting) 功能的抗指纹层,用以防止或减少指纹的油或水份造成导电片结构的
     影响。 抗污或抗指纹的第一功能层 21A 的材料可以为具疏水性官能基,如含氟或硅等官 能基的高分子材料。
     第一功能层 21A 也可以是具抗眩 (anti-glare) 功能的抗眩层或是具抗牛顿环功 能的抗牛顿环层,用以防止或减少因光线散射或高强度光线所造成的光眩及对比度的降 低。 抗眩 / 抗牛顿环的第一功能层 21A 的材料可以是含有机或无机粒子 ( 大小为 1-5um) 的涂层,或以物理压印或化学成型方式制作的表面具微结构特征涂层。
     第一功能层 21A 也可以是具抗静电功能的抗静电层,其可由抗静电粒子与树脂 组成,或使用低介电常数的树脂制作。
     第一功能层 21A 还可以是具抗刮 (anti-scratch) 功能的抗刮层或高硬度层,用以 防止或减少因频繁触碰造成导电片结构的损害。 抗刮的第一功能层 21A 的材料可以是具 聚甲基丙烯酸甲酯 (PMMA)、环氧树脂 (epoxy)、聚胺脂 (PU) 等官能基的有机高分子, 或无机如二氧化硅等材料所制作的硬化涂层。
     根据上述图 2A 所示的第一实施方式,第一功能层 21A 可以选用一种或多种上述 的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮 层 ;藉此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特性,因而提升所应用的 CNT 触摸屏或具有 CNT 导电层的显示装置的整体效能。 关于多层的第一功能层 21A 彼 此之间的固着,或者和基板 20、 CNT 层 22 之间的固着,则可以通过第一功能层 21A 本 身的黏着性或者额外加上黏着层来实施。
     在另一实施方式中,第一功能层 21A 可位于 CNT 层 22 之上且接触 CNT 层 22, 即 CNT 层 22 位于第一功能层 21A 与基板 20 之间,此时,第一功能层 21A 的厚度需做限 制,以确保 CNT 层 22 可因受按压而改变其上的电压,其厚度例如小于 2um 并可进一步大 于 0.05um。
     图 3A 显示本发明第二实施方式的导电片结构。 在本实施方式中,导电片结构包 括基板 20、 CNT 层 22、设于基板 20 和 CNT 层 22 之间的第一功能层 21A,以及设于基 板 20 的远离 CNT 层 22 一侧的第二功能层 21B。 第二功能层 21B 也可以位于 CNT 层 22 远离基板 20 的一侧,如图 3B 所示。 对于图 3A 或图 3B 所示的结构, CNT 层 22、第一 功能层 21A 及基板 20 的结构与第一实施方式相同,因此这些层的功能及材料不再赘述。 与第一实施方式不同之处在于增加了第二功能层 21B,该第二功能层 21B 可包括一层或多 层,可使用一般的涂布或镀膜技术来实施。 其可以选用一种或多种上述的功能层,例如 低抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层。
     在一实施方式中,第二功能层 21B 为上述低折射率涂层 21,用以提升光线的穿 透率,如图 3C 所示。 在本实施方式中,低折射率涂层 21 的厚度范围为大于 0.05 且小于 2um。 对于图 3B 的第二功能层 21B 或图 3C 的低折射率涂层 21,由于其若应用于 CNT 触 摸屏时是面向另一组导电片结构的另一 CNT 层,因此,厚度需要控制在一定厚度以内, 例如小于 2um,以免影响了两组导电片结构的 CNT 层 22 彼此间的导电性,确保本实施方 式的 CNT 层 22 可因受按压而改变其上的电压。
     根据上述图 3A 所示的第二实施方式,第一功能层 21A 及第二功能层 21B 可以各 自选用一种或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿 环层、抗静电层、抗刮层 ;由此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特性,因而提升所应用的 CNT 触摸屏或具有 CNT 导电层的显示装置的整体效能。
     图 4A 显示本发明第三实施方式之导电片结构。 在本实施方式中,导电片结构包 括基板 20、 CNT 层 22、设于基板 20 和 CNT 层 22 之间的第一功能层 21A、设于基板 20 的远离 CNT 层 22 一侧的第二功能层 21B 的设于 CNT 层 22 的远离基板 20 一侧的第三功 能层 21C。 其中, CNT 层 22、第一功能层 21A、基板 20 及第二功能层 21B 的结构与第 二实施方式相同,因此这些层的功能及材料不再赘述。 与第二实施方式不同之处在于增 加了第三功能层 21C,其可包括一层或多层,可使用一般的涂布或镀膜技术来实施。 第 三功能层 21C 可以选用一或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗 眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层。 一般来说,由于第一功能层 21A 在本实施方式 中夹在各层之间,因此,比较不需要抗污、抗指纹、抗刮等功能。
     在一实施方式中,第三功能层 21C 为上述低折射率涂层 21,用以提升光线的穿 透率,如图 4B 所示。 在本实施方式中,低折射率涂层 21 的厚度范围为大于 0.05 且小于 2um。 对于图 4A 的第三功能层 21C 或图 4B 的低折射率涂层 21,由于其面向另一组导电 片结构的另一 CNT 层,因此,厚度需要控制在一定厚度以内,例如小于 2um,以免影响 了两组导电片结构的 CNT 层 22 彼此间的导电性。 根据上述图 4A 所示的第三实施方式,第一功能层 21A、第二功能层 21B、第 三功能层 21C 可以各自选用一种或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹 层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层 ;由此,可以提升导电片结构的光学、物 理、化学或电气等特性,因而提升所应用的 CNT 触摸屏或具有 CNT 导电层的显示装置的 整体效能。
    

导电片结构.pdf_第1页
第1页 / 共8页
导电片结构.pdf_第2页
第2页 / 共8页
导电片结构.pdf_第3页
第3页 / 共8页
点击查看更多>>
资源描述

《导电片结构.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《导电片结构.pdf(8页珍藏版)》请在专利查询网上搜索。

1、10申请公布号CN102024508A43申请公布日20110420CN102024508ACN102024508A21申请号200910306989822申请日20090914H01B5/14200601G02F1/133200601B32B9/04200601B32B33/00200601G06F3/04120060171申请人群康科技(深圳)有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园E区4栋1层申请人群创光电股份有限公司72发明人王相华54发明名称导电片结构57摘要本发明涉及一种导电片结构,该导电片结构包括一基板、一纳米碳管层和一第一功能层。该导电片结构还包括一第二。

2、功能层和一第三功能层。其中,第一功能层、第二功能层和第三功能层各自具有至少下列功能之一低折射、高折射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电、抗刮。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页附图2页CN102024522A1/1页21一种导电片结构,其包括一基板和一纳米碳管层,其特征在于该导电片结构进一步包括一第一功能层,该第一功能层具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电和抗刮的功能中的其中之一。2如权利要求1所述的导电片结构,其特征在于该第一功能层与该纳米碳管层位于该基板的一侧,且该第一功能层包括一抗反射层、一抗眩层、一抗牛顿环层及一抗刮的。

3、硬化涂层中的其中之一。3如权利要求2所述的导电片结构,其特征在于该抗反射层包括一低折射率涂层,该低折射率涂层的折射系数固定且小于该基板的折射系数。4如权利要求3所述的导电片结构,其特征在于该低折射率涂层的折射系数小于149。5如权利要求4所述的导电片结构,其特征在于该低折射率涂层的折射系数大于12。6如权利要求3所述的导电片结构,其特征在于该抗反射层进一步包括一高折射率涂层,该高折射率涂层的折射系数固定,且大于该低折射率涂层的折射系数并小于该基板的折射系数。7如权利要求3所述的导电片结构,其特征在于该低折射率涂层位于该纳米碳管层与该基板之间,该低折射率涂层的厚度小于10UM。8如权利要求2所述。

4、的导电片结构,其特征在于该纳米碳管层位于该第一功能层与该基板之间,该第一功能层接触该纳米碳管层,且该第一功能层的厚度小于2UM。9如权利要求2所述的导电片结构,其特征在于该导电片结构进一步包括一第二功能层,该第二功能层设于该基板的另一侧,具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电和抗刮的功能中的其中之一。10一种导电片结构,其包括一基板和一纳米碳管层,其特征在于该导电片结构进一步包括一第一功能层,该纳米碳管层位于该第一功能层与该基板之间,该第一功能层接触该纳米碳管层,且该第一功能层的厚度小于2UM。11如权利要求10所述的导电片结构,其特征在于该第一功能层包括一抗反射层、一抗眩层、一抗牛。

5、顿环层及一抗括的硬化涂层中的其中之一。12如权利要求11所述的导电片结构,其特征在于该抗反射层包括一低折射率涂层,该低折射率涂层的折射系数固定且小于该基板的折射系数。权利要求书CN102024508ACN102024522A1/4页3导电片结构技术领域0001本发明涉及一种导电片结构,特别是关于一种具有纳米碳管层的导电片结构。背景技术0002触摸屏TOUCHPANEL逐渐普遍应用在电子装置中,特别是可携式或手持式电子装置,例如个人数字助理PERSONALDIGITALASSISTANT,PDA或移动电话。触摸屏是将如电阻式、电容式或光学式的触控技术与显示面板予以结合的一种应用技术。由于近年来液。

6、晶显示LIQUIDCRYSTALDISPLAY,LCD面板技术的成熟发展,因此将触控技术应用于液晶显示面板上而发展出液晶触摸屏乃成为一种趋势。0003现有技术触摸屏主要使用氧化铟锡INDIUMTINOXIDE,ITO材料作为的导电层,因此一般又称之为ITO触摸屏。近来有使用纳米碳管CARBONNANOTUBE,CNT作为导电层的CNT触摸屏的提出。图1A显示现有技术电阻式CNT触摸屏的剖面图,其主要包括上基板10A和上CNT层11A所构成的上层导电片结构,以及下基板10B和下CNT层11B所构成的下层导电片结构。在上、下层导电片结构之间设有间隔物SPACER12,且以黏剂13将上、下层导电片结。

7、构固定在一起。位于下基板10B底下的是液晶显示LCD面板14及提供光源的背光模块15。在操作时,当手指或触控笔触碰上基板10A的触控表面的某一触碰点时,会造成上CNT层11A和下CNT层11B接触在一起,因而改变触碰点的原本电压值。通过分别侦测上CNT层11A和下CNT层11B的电压改变位置,因而得以决定触碰点的坐标位置。0004图1B显示图1A上层导电片结构或下层导电片结构的放大剖面图,现有技术CNT触摸屏的导电片结构主要包括有基板10及CNT层11。其中,CNT层11透过一黏着剂图未示设于基板10的表面,助于两者之间的固着。0005由于CNT层11是由纳米碳管所构成的薄膜,其光学、物理、化。

8、学或电气等特性异于ITO导电层,因此,可进一步改善如图1B所示的现有技术导电片结构,使其光学、物理、化学或电气等特性得以提升。发明内容0006为解决现有技术导电片的光学、物理、化学或电气特性较差的问题,本发明提供一种光学、物理、化学或电气特性较好的导电片。0007一种导电片结构,其包括基板、纳米碳管层及设于纳米碳管层上方或下方的功能层。其中,功能层具有抗反射、抗污、抗指纹、抗眩、抗牛顿环、抗静电及抗刮的功能中的其中之一。由此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特性,因而提升所应用的纳米碳管触摸屏或具有纳米碳管导电层的显示装置的整体效能。0008若纳米碳管层位于功能层与基板之间时,功能。

9、层接触纳米碳管层,且功能层的厚度小于2UM,确保该纳米碳管层仍可因受按压而改变其上的电压。说明书CN102024508ACN102024522A2/4页4附图说明0009图1A显示现有技术一种电阻式CNT触摸屏的剖面图。0010图1B显示图1A的上层导电片结构或下层导电片结构的放大剖面图。0011图2A至图2C显示本发明第一实施方式的导电片结构。0012图3A至图3C显示本发明第二实施方式的导电片结构。0013图4A至图4B显示本发明第三实施方式的导电片结构。具体实施方式0014以下所讨论的实施方式,其揭露的导电片结构可适用于如图1A所示的纳米碳管CNT触摸屏,然而,这些实施方式所揭露的导电片。

10、结构也可适用异于图1A的其它CNT触摸屏或使用CNT导电层的显示装置。0015图2A显示本发明第一实施方式的导电片结构。在本实施方式中,导电片结构包括基板20、CNT层22和设于基板20和CNT层22之间的第一功能层21A。其中,基板20为一透明绝缘层,其材料可选择性地为下列材料之一或其部分的组合聚对苯二甲酸乙二酯POLYETHYLENETEREPHTHALATE,PET、聚碳酸酯POLYCARBONATE,PC、聚甲基丙烯酸甲酯POLYMETHYLMETHACRYLATE,PMMA、聚氯乙烯POLYVINYLCHLORIDE,PVC、三醋酸纤维素TRIACETYLCELLULOSE,TAC膜。

11、、玻璃。CNT层22为一纳米碳管膜,其可以为单壁或多壁的纳米碳管经单轴或多轴延伸制造具孔隙的丝线状、栅栏状或网状的导电膜结构。所形成的纳米碳管膜会在延伸的方向具最小的电阻抗,而在垂直于延伸方向具最大的电阻抗,因而形成电阻抗异向性。0016在本实施方式中,第一功能层21A可包括一或多层,其可以使用一般的涂布COATING或镀膜技术来实施。在一实施方式中,第一功能层21A为低折射率涂层21,简称为LR层,低折射率涂层21的折射系数为固定且小于基板20的折射系数,用以作为提升光线的穿透率的抗反射ANTIREFLECTIVE,AR层,如图2B所示,在本实施方式中,低折射率涂层21的折射系数大约小于14。

12、9,并可进一步大于12。低折射率涂层21的材料可以为含氟或硅的有机或无机材料。在本实施方式中,低折射率涂层21的厚度范围为00510UM。上述CNT层22是具孔隙的导电膜结构,因此,CNT层22的折射系数和基板20的折射系数会不匹配,容易造成光线反射,而本实施方式的低折射率涂层21即可助于减少光线被反射。0017在另一实施方式中,第一功能层21A可包括上述的低折射率涂层21和一高折射率涂层23,高折射率涂层23的折射系数为固定,且大于低折射率涂层21的折射系数及小于基板20的折射系数,在本实施方式中,高折射率涂层23的折射系数大于155。高折射率涂层23的材料可以为具高折射率的高分子材料,或含。

13、高折射率的无机材料如二氧化钛TIO2、ITO、铝掺杂的氧化锌AZO等。高折射率涂层23搭配低折射率涂层21可组成另一种具抗反射功能的抗反射层,其结构如图2C所示,可用以防止或减少因反射所造成的光损失,以提升光穿透率。0018第一功能层21A也可以是具抗污ANTISMUDGE功能的抗污层,用以防止或减少污染物通过CNT层22的纳米碳管间的空隙而污染导电片结构。与抗污类似的是抗指纹ANTIFINGERPRINTING功能的抗指纹层,用以防止或减少指纹的油或水份造成导电片结构的说明书CN102024508ACN102024522A3/4页5影响。抗污或抗指纹的第一功能层21A的材料可以为具疏水性官能。

14、基,如含氟或硅等官能基的高分子材料。0019第一功能层21A也可以是具抗眩ANTIGLARE功能的抗眩层或是具抗牛顿环功能的抗牛顿环层,用以防止或减少因光线散射或高强度光线所造成的光眩及对比度的降低。抗眩/抗牛顿环的第一功能层21A的材料可以是含有机或无机粒子大小为15UM的涂层,或以物理压印或化学成型方式制作的表面具微结构特征涂层。0020第一功能层21A也可以是具抗静电功能的抗静电层,其可由抗静电粒子与树脂组成,或使用低介电常数的树脂制作。0021第一功能层21A还可以是具抗刮ANTISCRATCH功能的抗刮层或高硬度层,用以防止或减少因频繁触碰造成导电片结构的损害。抗刮的第一功能层21A。

15、的材料可以是具聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、环氧树脂EPOXY、聚胺脂PU等官能基的有机高分子,或无机如二氧化硅等材料所制作的硬化涂层。0022根据上述图2A所示的第一实施方式,第一功能层21A可以选用一种或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层;藉此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特性,因而提升所应用的CNT触摸屏或具有CNT导电层的显示装置的整体效能。关于多层的第一功能层21A彼此之间的固着,或者和基板20、CNT层22之间的固着,则可以通过第一功能层21A本身的黏着性或者额外加上黏着层来实施。0023在另一实施方式中,第一功能层2。

16、1A可位于CNT层22之上且接触CNT层22,即CNT层22位于第一功能层21A与基板20之间,此时,第一功能层21A的厚度需做限制,以确保CNT层22可因受按压而改变其上的电压,其厚度例如小于2UM并可进一步大于005UM。0024图3A显示本发明第二实施方式的导电片结构。在本实施方式中,导电片结构包括基板20、CNT层22、设于基板20和CNT层22之间的第一功能层21A,以及设于基板20的远离CNT层22一侧的第二功能层21B。第二功能层21B也可以位于CNT层22远离基板20的一侧,如图3B所示。对于图3A或图3B所示的结构,CNT层22、第一功能层21A及基板20的结构与第一实施方式。

17、相同,因此这些层的功能及材料不再赘述。与第一实施方式不同之处在于增加了第二功能层21B,该第二功能层21B可包括一层或多层,可使用一般的涂布或镀膜技术来实施。其可以选用一种或多种上述的功能层,例如低抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层。0025在一实施方式中,第二功能层21B为上述低折射率涂层21,用以提升光线的穿透率,如图3C所示。在本实施方式中,低折射率涂层21的厚度范围为大于005且小于2UM。对于图3B的第二功能层21B或图3C的低折射率涂层21,由于其若应用于CNT触摸屏时是面向另一组导电片结构的另一CNT层,因此,厚度需要控制在一定厚度以内,例如小于2U。

18、M,以免影响了两组导电片结构的CNT层22彼此间的导电性,确保本实施方式的CNT层22可因受按压而改变其上的电压。0026根据上述图3A所示的第二实施方式,第一功能层21A及第二功能层21B可以各自选用一种或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层;由此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特说明书CN102024508ACN102024522A4/4页6性,因而提升所应用的CNT触摸屏或具有CNT导电层的显示装置的整体效能。0027图4A显示本发明第三实施方式之导电片结构。在本实施方式中,导电片结构包括基板20、CNT层22、设于基板20。

19、和CNT层22之间的第一功能层21A、设于基板20的远离CNT层22一侧的第二功能层21B的设于CNT层22的远离基板20一侧的第三功能层21C。其中,CNT层22、第一功能层21A、基板20及第二功能层21B的结构与第二实施方式相同,因此这些层的功能及材料不再赘述。与第二实施方式不同之处在于增加了第三功能层21C,其可包括一层或多层,可使用一般的涂布或镀膜技术来实施。第三功能层21C可以选用一或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层。一般来说,由于第一功能层21A在本实施方式中夹在各层之间,因此,比较不需要抗污、抗指纹、抗刮等功能。0028在一。

20、实施方式中,第三功能层21C为上述低折射率涂层21,用以提升光线的穿透率,如图4B所示。在本实施方式中,低折射率涂层21的厚度范围为大于005且小于2UM。对于图4A的第三功能层21C或图4B的低折射率涂层21,由于其面向另一组导电片结构的另一CNT层,因此,厚度需要控制在一定厚度以内,例如小于2UM,以免影响了两组导电片结构的CNT层22彼此间的导电性。0029根据上述图4A所示的第三实施方式,第一功能层21A、第二功能层21B、第三功能层21C可以各自选用一种或多种上述的功能层,例如抗反射层、抗污层、抗指纹层、抗眩层、抗牛顿环层、抗静电层、抗刮层;由此,可以提升导电片结构的光学、物理、化学或电气等特性,因而提升所应用的CNT触摸屏或具有CNT导电层的显示装置的整体效能。说明书CN102024508ACN102024522A1/2页7图1A图1B图2A图2B图2C图3A图3B图3C说明书附图CN102024508ACN102024522A2/2页8图4A图4B说明书附图CN102024508A。

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 电学 > 基本电气元件


copyright@ 2017-2020 zhuanlichaxun.net网站版权所有
经营许可证编号:粤ICP备2021068784号-1