一种激光刻蚀薄膜的方法.pdf

本发明是一种紫外激光对PET材料刻蚀的方法，并对其中的机理及影响刻蚀的因素做了讨论。激光通过石英透镜聚焦后，照射在置于真空室内的PET膜片上，膜片可以转动。被激光照射后生成的产物由四极质谱检侧，同时用一个基板来沉积固体产物。X激光刻蚀高分子膜的研究内容之一是每个激光脉冲刻蚀膜层的深度。我们采用穿透法测量每个激光脉冲的刻蚀量，实验中是在PET膜的后面放置一片荧光材料，当荧光黄褐色烟雾生成，这是被解离的产物中含有碳氢化合物在空气中遇到氧气燃烧而造成的，因而在真空中没有火焰，刻蚀质量好。利用这种方法比较简单，效果佳。

1.  一种激光刻蚀薄膜的方法，用于激光对高分子薄膜的刻蚀与表面处理工作，刻蚀效果好。
2权利要求，激光刻蚀高分子薄膜的方法，其特征是依下列步骤进行：
(1)激光通过石英透镜聚焦后，照射在置于真空室内的PET膜片上，膜片可以转动。被激光照射后生成的产物由四极质谱(英国SXP300型)检侧，同时用一个基板来沉积固体产物。XeCl准分子激光器输出波长为308nm，脉宽10ns，单脉冲能量40-110mJ可调。聚苯醚酷全称聚对苯二甲酸乙二醉酌，简称PET，激光刻蚀高分子膜的研究内容之一是每个激光脉冲刻蚀膜层的深度；
(2)我们采用穿透法测量每个激光脉冲的刻蚀量，实验中是在PET膜的后面放置一片荧光材料，当荧光黄褐色烟雾生成，这是被解离的产物中含有碳氢化合物在空气中遇到氧气燃烧而造成的，因而在真空中没有火焰。

3.  根据权利2所述的激光刻蚀薄膜的方法，其特征是在步骤(1)与(2)之间，刻蚀质量好。

一种激光刻蚀薄膜的方法
技术领域
本发明涉及一种激光刻蚀薄膜的方法，该方法主要用于激光对高分子薄膜的刻蚀与表面处理工作。
背景技术
用激光辐照固体材料引起烧蚀溅射是一个激光与物质相互作用的基础性问题，也是一种高新技术，在材料加工，特别是在微电子材料加工以及产生高质量的光电材料薄膜方面有广泛地应用前景.为了给实际应用提供可靠的依据，需要深入研究激光烧蚀溅射的过程。最近十多年来，大量的实验研究工作已经出现。强激光脉冲辐照固体材料将引起材料烧蚀，诱导产生等离子体，从靶面溅射出大量电子、原子、分子、原子分子簇以及它们的正负离子。从动力学来分析等离子体的形成、传播到消失，经历了一个电子、原子、离子、分子和粒团之间相互剧烈碰撞作用的过程。高分子材料由于它们的强度和电特性，对现代工业有十分重要的意义。自R.srinivasan等第一次发现用远紫外(193nm)激光脉冲对高分子材料可以进行精确干净的刻蚀以后，高分子膜在激光脉冲下被剥蚀的研究得到了越来越多的重视。准分子激光山于其波长范围在紫外到远紫外，光子能量为4-6.4eV，所以光化学断键是可能的。而且准分子激光器的光斑尺寸大，便于作为牺射光源，在微电子材料加工方面成为一种很有用的工具。
发明内容
本发明的目的是用于测量离子平动能仪的仪器，填补国内外空白。
我们利用准分子激光器对高分子薄膜在激光脉冲作用下的剥离过程进行研究如下，激光通过石英透镜聚焦后，照射在置于真空室内的PET膜片上，膜片可以转动，被激光照射后生成的产物由四极质谱检侧，同时用一个基板来沉积固体产物。XeCl准分子激光器输出波长为308nm，脉宽10ns，单脉冲能量40-110mJ可调，聚苯醚酷全称聚对苯二甲酸乙二醉酌，简称PET，激光刻蚀高分子膜的研究内容之一是每个激光脉冲刻蚀膜层的深度。我们采用穿透法测量每个激光脉冲的刻蚀量，在PET膜的后面放置一片荧光材料，当荧光黄褐色烟雾生成，这是被解离的产物中含有碳氢化合物在空气中遇到氧气燃烧而造成的，因而在真空中没有火焰，利用这种方法比较简单，效果佳。