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1、10申请公布号CN104195528A43申请公布日20141210CN104195528A21申请号201410449665022申请日20140905C23C16/50520060171申请人厦门大学地址361000福建省厦门市思明南路422号72发明人郑建毅杨群峰庄明凤郑高峰陈新敏74专利代理机构厦门市精诚新创知识产权代理有限公司35218代理人巫丽青54发明名称一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置57摘要本发明涉及化学气相沉积技术领域，本发明提供了一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，包括供气系统、排气系统、真空反应室、支架、喷气系统、激振器、沉积台和电控装置。。
2、本发明采用排气系统可对真空腔抽真空，在连接射频电源RF正极的喷射板、连接负极的载物板之间形成射频电场，供气系统提供惰性气体和反应气体，喷气系统喷出的反应气体在射频电场作用下辉光放电产生大量电子，经一系列化学反应在收集片表面沉积出薄膜，调节加热片加热功率、激振器振动频率、射频电源RF功率、喷射板与载物板间距，通过调整参数沉积出更优质量的薄膜。51INTCL权利要求书2页说明书6页附图4页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书6页附图4页10申请公布号CN104195528ACN104195528A1/2页21一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在。
3、于包括供气系统、排气系统、真空反应室、支架、喷气系统、激振器、沉积台和电控装置，所述支架固定设置在真空反应室内，所述激振器设置在支架底部，所述沉积台位于支架上，所述激振器输出杆与沉积台固定连接，用于产生高频振动能量传递给沉积台，所述喷气系统设置在沉积台上方，且所述喷气系统通过升降台可相对所述支架上下移动，所述喷气系统的喷嘴相对于所述沉积台，所述供气系统分别为真空反应室以及喷气系统提供惰性气体和反应气体，所述排气系统与真空反应室相通，用于为真空反应室抽真空，所述激振器、供气系统和排气系统均与电控装置电性连接，所述电控装置还包括射频电源RF，所述喷气系统和沉积台分别与射频电源RF的正极和负极连接。。
4、2根据权利要求1所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述真空反应室由腔壁、上盖和下盖密封形成，所述腔壁为圆筒形腔壁,所述上盖和下盖分别罩设在圆筒形腔壁的上端和下端，且上盖和下盖均与圆筒形腔壁密封连接，所述圆筒形腔壁的外壁上开设有石英窗，透过该石英窗可以观测到腔壁内部。3根据权利要求1所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述供气系统包括气体发生装置、第一进气管、惰性气体阀、第二进气管和反应气体阀，所述惰性气体阀安装在第一进气管中段，所述第一进气管一端与气体发生装置连通，第一进气管另一端穿过所述上盖与真空反应室内连通，所述反应气体阀安装在。
5、第二进气管中段，所述第二进气管一端与气体发生装置连通，所述第二进气管另一端与喷气系统连通，为喷气系统提供反应气体。4根据权利要求3所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述喷气系统包括连接杆、冂型连接架和喷气板，所述喷气板包括连接板、中板和喷射板，所述连接杆顶部穿过上盖并可相对该上盖上下移动，所述连接杆底部与冂型连接架顶部焊接固定，所述冂型连接架两脚底部与所述连接板顶部焊接固定，所述连接板底面四周通过绝缘层与中板顶面四周连接，所述中板底面四周通过绝缘层与喷射板顶面四周连接，所述连接板和中板之间的空间为上腔、所述中板和喷射板之间的空间为下腔，所述连接板上设有进气口，该。
6、进气口与第一进气管连通，所述中板上均匀设有气流孔，所述喷射板上均匀设有气流喷射孔，所述喷射板与射频电源RF的正极连接。5根据权利要求4所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述升降台包括下连接板、上连接板、滑块、滑轨、丝杆、第二连接杆和滚轮，所述滑轨为两根并列的滑轨，所述上连接板和下连接板分别连接在两根并列的滑轨的上下两端，所述下连接板与上盖的上表面固定连接，所述滑块与两根并列的滑轨滑动配合，所述滑块上端与丝杆连接，丝杆上端穿出所述上连接板中心孔，且所述丝杆与上连接板螺纹配合连接，所述滑块下端与连接杆连接，所述下连接杆下端穿出所述下连接板中心孔，所述上盖还开设有供第。
7、二连接杆穿过的通孔，所述第二连接杆下端与连接杆固定连接，所述丝杆顶部连接滚轮的中心转轴，由滚轮的转动带动丝杆的转动，进而推动滑块沿轨道滑动，而连接在滑块下的连接杆相应地上下运动。6根据权利要求1所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述沉积台包括载物板和U型热板，所述载物板设置在U型热板上，该载物板底面和U型热板内表面围成一通气腔，所述通气腔内的U型热板的底面均匀设有多个加热片，权利要求书CN104195528A2/2页3所述通气腔内的载物板上均匀设有多个热传感器，所述U型热板的底面还开设有多个通气孔，所述载物板上还设有收集片，所述U型热板外底面中部连接有一根支撑杆。
8、，所述支撑杆与所述激振器输出杆固定连接，激振器产生高频振动能量通过输出杆及支撑杆传递给沉积台。7根据权利要求1所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述支架包括底座、固定板、第一固定架、第一圆形滑块、第一绝热层、第二固定架、第二圆形滑块和第二绝热层，所述底座设置在下盖上，所述固定板设置在底座上，所述激振器固定设置在固定板上，所述第一固定架底部与固定板固定连接，所述第一固定架顶部与第一圆形滑块连接，所述第一绝热层与设置在第一圆形滑块上，所述第二固定架底部与第一绝热层固定连接，所述第二固定架顶部与第二绝热层固定连接，所述第二圆形滑块设置在第二绝热层上。8根据权利要求7所。
9、述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于固定板和底座之间还通过两个减震器连接，起到减震效果。9根据权利要求7所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述底座中轴上嵌入一柱形滤网。10根据权利要求9所述的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，其特征在于所述排气系统包括输出管、排气阀和抽气装置，所述输出管一端与下盖相连通，另一端与抽气装置连通，所述排气阀设置在输出管上，所述输出管穿过该下盖并与柱形滤网固定连接。权利要求书CN104195528A1/6页4一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置技术领域0001本发明涉及化学气相沉。
10、积技术领域，具体涉及一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置。背景技术0002等离子增强化学气相沉积法是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，等离子体化学活性很强，很容易发生化学反应，在基片上沉积出所期望的薄膜，具有沉积温度低、沉积速率快。但由于其沉积的薄膜内部含有较大的残余应力，使得薄膜在沉积过程中直接产生裂纹，无法沉积出满意厚度的薄膜。0003目前等离子增强化学气相沉积装置价格较为昂贵，其内部结构固定紧凑不能进行一些必要的改装，沉积薄膜的可调参数较少、可调节范围大，由于沉积参数间隔大往往难以找出最佳沉积点，利用改变沉积参数来沉积出质量优良的薄膜往往比较困。
11、难，并且设备巨大、价格高昂，由于实验用设备所沉积薄膜面积较小，大的腔体造成沉积薄膜所需材料浪费，并且实现真空沉积环境需花费过多抽真空时间。发明内容0004解决上述技术问题，本发明提供了一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，采用高频振动对所沉积薄膜残余应力在沉积过程中进行消除，调节沉积时射频电源RF功率大小、喷射板位置与收集片间距、收集片温度、收集片振动频率等参数使收集片上沉积出质量优良的薄膜。该设备具有在量程范围内任意对沉积参数进行调整，同时采用高频振动对薄膜残余应力进行消除，设备结构简单、经济性好，适合研究沉积参数与薄膜质量关系。0005为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案是。
12、，一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，包括供气系统、排气系统、真空反应室、支架、喷气系统、激振器、沉积台和电控装置，所述支架固定设置在真空反应室内，所述激振器设置在支架底部，所述沉积台位于支架上，所述激振器输出杆与沉积台固定连接，用于产生高频振动能量传递给沉积台，所述喷气系统设置在沉积台上方，且所述喷气系统通过升降台可相对所述支架上下移动，所述喷气系统的喷嘴相对于所述沉积台，所述供气系统分别为真空反应室以及喷气系统提供惰性气体和反应气体，所述排气系统与真空反应室相通，用于为真空反应室抽真空，所述激振器、供气系统和排气系统均与电控装置电性连接，所述电控装置还包括射频电源RF，所述喷。
13、气系统和沉积台分别与射频电源RF的正极和负极连接。0006进一步的，所述真空反应室由腔壁、上盖和下盖密封形成，所述腔壁为圆筒形腔壁,所述上盖和下盖分别罩设在圆筒形腔壁的上端和下端，且上盖和下盖均与圆筒形腔壁密封连接，所述圆筒形腔壁的外壁上开设有石英窗，透过该石英窗可以观测到腔壁内部。0007进一步的，所述供气系统包括气体发生装置、第一进气管、惰性气体阀、第二进气管和反应气体阀，所述惰性气体阀安装在第一进气管中段，所述第一进气管一端与气体发说明书CN104195528A2/6页5生装置连通，第一进气管另一端穿过所述上盖与真空反应室内连通，所述反应气体阀安装在第二进气管中段，所述第二进气管一端与气。
14、体发生装置连通，所述第二进气管另一端与喷气系统连通，为喷气系统提供反应气体。0008更进一步的，所述喷气系统包括连接杆、冂型连接架和喷气板，所述喷气板包括连接板、中板和喷射板，所述连接杆顶部穿过上盖并可相对该上盖上下移动，所述连接杆底部与冂型连接架顶部焊接固定，所述冂型连接架两脚底部与所述连接板顶部焊接固定，所述连接板底面四周通过绝缘层与中板顶面四周连接，所述中板底面四周通过绝缘层与喷射板顶面四周连接，所述连接板和中板之间的空间为上腔、所述中板和喷射板之间的空间为下腔，所述连接板上设有进气口，该进气口与第一进气管连通，所述中板上均匀设有气流孔，所述喷射板上均匀设有气流喷射孔，所述喷射板与射频电。
15、源RF的正极连接。上腔对进气口送来的反应气体预分布，预分布后气体经气流孔进入下腔，进一步对反应气体进行分布，反应气体经气流喷射孔均匀喷向沉积台，采用绝缘层使得接射频电源RF正电极的喷射板与其它部位绝缘。0009更进一步的，所述升降台包括下连接板、上连接板、滑块、滑轨、丝杆、第二连接杆和滚轮，所述滑轨为两根并列的滑轨，所述上连接板和下连接板分别连接在两根并列的滑轨的上下两端，所述下连接板与上盖的上表面固定连接，所述滑块与两根并列的滑轨滑动配合，所述滑块上端与丝杆连接，丝杆上端穿出所述上连接板中心孔，且所述丝杆与上连接板螺纹配合连接，所述滑块下端与连接杆连接，所述下连接杆下端穿出所述下连接板中心孔。
16、，所述上盖还开设有供第二连接杆穿过的通孔，所述第二连接杆下端与连接杆固定连接，所述丝杆顶部连接滚轮的中心转轴，由滚轮的转动带动丝杆的转动，进而推动滑块沿轨道滑动，而连接在滑块下的连接杆相应地上下运动。0010进一步的，所述沉积台包括载物板和U型热板，所述载物板设置在U型热板上，该载物板底面和U型热板内表面围成一通气腔，所述通气腔内的U型热板的底面均匀设有多个加热片，所述通气腔内的载物板上均匀设有多个热传感器，所述U型热板的底面还开设有多个通气孔，所述载物板上还设有收集片，所述U型热板外底面中部连接有一根支撑杆，所述支撑杆与所述激振器输出杆固定连接，激振器产生高频振动能量通过输出杆及支撑杆传递给。
17、沉积台。将加热片设置在通气腔内的U型热板的U型槽底的内表面，使得加热片的受热变形不影响载物板的形状，U型热板的U型槽底贯穿开设有多个通气孔，避免通气腔受热体积变化影响载物板形状，受热时通气腔由通气孔与真空反应室进行气体交换，热传感器贴附于载物板下表面实时测量载物板温度并将参数传送给电控装置，收集片置于载物板上表面，在压紧块压紧力下紧贴载物板，防止在沉积台振动过程中收集片位置变动。0011更进一步的，所述收集片四周通过L型压紧块紧压在载物板上。0012更进一步的，所述U型热板和载物板均为圆形。0013进一步的，所述支架包括底座、固定板、第一固定架、第一圆形滑块、第一绝热层、第二固定架、第二圆形滑。
18、块和第二绝热层，所述底座设置在下盖上，所述固定板设置在底座上，所述激振器固定设置在固定板上，所述第一固定架底部与固定板固定连接，所述第一固定架顶部与第一圆形滑块连接，所述第一绝热层与设置在第一圆形滑块上，所述第二固定架底部与第一绝热层固定连接，所述第二固定架顶部与第二绝热层固定连接，所述第二圆形滑块设置在第二绝热层上。说明书CN104195528A3/6页60014更进一步的，固定板和底座之间还通过两个减震器连接，起到减震效果。0015更进一步的，所述底座中轴上嵌入一柱形滤网。0016更进一步的，所述排气系统包括输出管、排气阀和抽气装置，所述输出管一端与下盖相连通，另一端与抽气装置连通，所述排。
19、气阀设置在输出管上，所述输出管穿过该下盖并与柱形滤网固定连接。0017本发明通过采用上述技术方案，与现有技术相比，具有如下优点本发明采用排气系统可对真空腔抽真空，在连接射频电源RF正极的喷射板、连接负极的载物板之间形成射频电场，供气系统提供惰性气体和反应气体，喷气系统喷出的反应气体在射频电场作用下辉光放电产生大量电子，经一系列化学反应在收集片表面沉积出薄膜，调节加热片加热功率、激振器振动频率、射频电源RF功率、喷射板与载物板间距，通过调整参数沉积出更优质量的薄膜。本发明具有在量程范围内任意对沉积参数进行调整，同时采用高频振动对薄膜残余应力进行消除，设备结构简单、经济性好，适合研究沉积参数与薄膜。
20、质量关系。附图说明0018图1是本发明的实施例的剖视图。0019图2是本发明的实施例升降台A的剖视图。0020图3是本发明的实施例喷气系统剖视图。0021图4是本发明的实施例沉积台剖视图。0022图5是本发明的实施例固定架32的俯视图。0023图6是本发明的实施例固定架32的侧视图。0024符号说明1、气体发生装置，2、惰性气体阀，3、反应气体阀，4、第二进气管，5、第一进气管，6、连接杆，105、下连接板，101、滚轮，107、丝杠，106、连接杆，102、上连接板，103、滑块，104、滑轨，7、第一预留管路，8、压力计，9、上盖，10、连接架，11、腔壁，12、观察口，13、石英窗，14。
21、、输出杆，15、激振器，16、减振器，17、下盖，18、线路，19、显示器，20、排气阀，21、输出管，22、抽气装置，23、第二预留管路，24、柱形滤网，25、底座，26、固定板，27、第一固定架，28、第一圆形滑块，29、第一绝热层，30、沉积台，31、喷气板，32、第二固定架，33、第二绝热层，34、第二圆形滑块，35、真空反应室，201、进气口，202、连接板，203、绝缘层，204、中板，205、绝缘层，206、喷射板，207、气流喷射孔，208、下腔，209、气流孔A，210、上腔，301、收集片，302、压紧块，303、载物板，304、通气腔，305、热板，306、支撑杆，307。
22、、加热片，308、通气孔，309、热传感器，A、升降台。具体实施方式0025现结合附图和具体实施方式对本发明进一步说明。0026作为一个具体的实施例，如图1至图6所示，本发明的一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置，包括供气系统、排气系统、真空反应室、支架、喷气系统、激振器、沉积台30和电控装置19，所述真空反应室35由腔壁11、上盖9和下盖17密封形成，所述腔壁11为圆筒形腔壁11，采用圆筒形腔壁11其内部真空时，其腔壁的受力是均匀的,所说明书CN104195528A4/6页7述上盖9和下盖17分别罩设在圆筒形腔壁11的上端和下端，且上盖9和下盖17均与圆筒形腔壁11密封连接，所述。
23、圆筒形腔壁11的外壁上开设有石英窗13，透过该石英窗13可以观测到腔壁11内部，所述石英窗13可以在圆筒形腔壁11侧面开设多个开口，然后在开口上蒙设一石英玻璃即可。0027所述支架固定设置在真空反应室35内，所述支架包括底座25、固定板26、第一固定架27、第一圆形滑块28、第一绝热层29、第二固定架32、第二圆形滑块34和第二绝热层33，所述底座25设置在下盖17上，该底座25为圆形底座25，所述底座25底部紧紧贴设在下盖17上表面，所述底座25中轴开设一中心孔，中心孔内嵌入一柱形滤网24。0028所述固定板26为圆形固定板26，圆形固定板26受力均匀，设置在底座25上，固定板26和底座25。
24、之间还通过两个减震器16连接，减振器16将激振器16产生的振动进行衰减，起到减震效果。所述第一固定架27为圆筒形固定架27，为了实现对第一固定架27内的反应情况的观察，在所述固定架27侧面相对于石英窗13的位置开设观察口12，透过石英窗13和观察口12可以观察到沉积台上的反应情况。0029其第一固定架27底部与固定板26圆周相匹配，并通过螺栓、螺母相固定连接，所述第一固定架27顶部与第一圆形滑块28连接，所述第一绝热层29与设置在第一圆形滑块28上，所述第二固定架32底部与第一绝热层29固定连接，所述第二固定架32顶部与第二绝热层33固定连接，所述第二圆形滑块34设置在第二绝热层33上。003。
25、0所述激振器15固定设置在固定板26上，所述激振器15设置在支架底部，所述沉积台30位于支架上，所述激振器15输出杆14与沉积台30固定连接，用于产生高频振动能量传递给沉积台30，所述喷气系统设置在沉积台30上方，且所述喷气系统通过升降台A可相对所述支架上下移动，所述喷气系统的喷嘴相对于所述沉积台30，所述供气系统分别为真空反应室35以及喷气系统提供惰性气体和反应气体，所述排气系统与真空反应室35相通，用于为真空反应室35抽真空，所述激振器15、供气系统和排气系统均与电控装置电性连接，所述电控装置19还包括射频电源RF，所述喷气系统和沉积台30分别与射频电源RF的正极和负极连接。0031所述供。
26、气系统包括气体发生装置1、第一进气管5、惰性气体阀2、第二进气管4和反应气体阀3，所述惰性气体阀2安装在第一进气管5中段，所述第一进气管5一端与气体发生装置连通，第一进气管5另一端穿过所述上盖9与真空反应室35内连通，所述反应气体阀3安装在第二进气管4中段，所述第二进气管4一端与气体发生装置连通，所述第二进气管4另一端与喷气系统连通，为喷气系统提供反应气体。0032所述排气系统包括输出管21、排气阀20和抽气装置22，所述输出管21一端与下盖17相连通，另一端与抽气装置22连通，所述排气阀20设置在输出管21上，所述输出管21穿过该下盖17并与柱形滤网24固定连接。0033所述喷气系统包括连接。
27、杆6、冂型连接架10和喷气板31，所述喷气板31包括连接板202、中板204和喷射板206，所述连接杆6顶部穿过上盖9并与升降台A连接，所述连接杆6在升降台A的作用下可相对该上盖9上下移动，具体参考图2所示，所述升降台A包括下连接板105、上连接板102、滑块103、滑轨104、丝杆107、连接杆106和滚轮101，所述滑轨104为两根并列的滑轨104，所述上连接板102和下连接板105分别连接在两根并列的滑轨104的上下两端，所述下连接板105与上盖9的上表面固定连接，所述滑块103与两根说明书CN104195528A5/6页8并列的滑轨104滑动配合，所述滑块103上端与丝杆107连接，丝。
28、杆107上端穿出所述上连接板102中心孔，且所述丝杆107与上连接板102螺纹配合连接，所述滑块103下端与连接杆106连接，所述下连接杆106下端穿出所述下连接板105中心孔，所述上盖还开设有供连接杆106穿过的通孔，所述连接杆106下端与连接杆6固定连接，所述丝杆107顶部连接滚轮101的中心转轴，由滚轮101的转动带动丝杆107的转动，进而推动滑块103沿轨道104滑动，而连接在滑块103下的连接杆106相应地上下运动，所述连接杆6底部与冂型连接架10顶部焊接固定，所述冂型连接架10两脚底部与所述连接板202顶部焊接固定，所述连接板202底面四周通过绝缘层203与中板204顶面四周连接，。
29、所述中板204底面四周通过绝缘层205与喷射板206顶面四周连接，所述连接板202和中板204之间的空间为上腔210、所述中板204和喷射板206之间的空间为下腔208，所述连接板202上设有进气口201，该进气口201与第一进气管5连通，压力计8测量端与真空反应室35相通，所述中板204上均匀设有气流孔209，所述喷射板206上均匀设有气流喷射孔207，所述喷射板206与射频电源RF的正极连接。上腔210对进气口201送来的反应气体预分布，预分布后气体经气流孔209进入下腔208，进一步对反应气体进行分布，反应气体经气流喷射孔207均匀喷向沉积台30，采用绝缘层使得接射频电源RF正电极的喷射。
30、板206与其它部位绝缘。0034本实施例中，所述沉积台30包括载物板303和U型热板305，所述U型热板305和载物板303均为圆形。所述载物板303设置在U型热板305上，且载物板303和U型热板305均良好连接射频电源RF负极，该载物板303底面和U型热板305内表面围成一通气腔304，所述通气腔304内的U型热板305的底面均匀设有多个加热片307，所述通气腔304内的载物板303上均匀设有多个热传感器309，所述U型热板305的底面还开设有多个通气孔308，具体地是U型热板305的U型槽底贯穿开设有多个通气孔308，避免通气腔304受热体积变化影响载物板303形状，受热时通气腔304由。
31、通气孔308与真空反应室35进行气体交换。所述载物板303上还设有收集片301，所述U型热板305外底面中部连接有一根支撑杆306，所述支撑杆306与所述激振器15输出杆14固定连接，第一圆形滑块28、第二圆形滑块34分别保证支撑杆306、连接架10在运动过程中的直线性，以保证沉积台30和喷气板31位置上下对应。0035将加热片307设置在通气腔304内的U型热板305的U型槽底的内表面，使得加热片307的受热变形不影响载物板303的形状，热传感器309贴附于载物板303下表面实时测量载物板303温度并将参数传送给电控装置19，收集片301置于载物板303上表面，所述收集片301四周通过L型压。
32、紧块302紧压在载物板303上，在压紧块302压紧力下紧贴载物板303，防止在沉积台30振动过程中收集片301位置变动。所述电控装置19包括一壳体，以及设置在壳体上的显示器和操控面板，射频电源RF和控制电路均设置在壳体内部，所述显示器、操控面板、热传感器309、加热片307、抽气装置22、激振器15均与该控制电路电性连接。激振器15产生高频振动能量通过输出杆14及支撑杆306传递给沉积台30。激振器15产生的高频振动经输出杆14、支撑杆306传给紧贴于载物板303的收集片301，使得收集片301收集薄膜时产生高频振动，将振动能量传给沉积薄膜；射频电源RF正极连接喷射板206，负极连接载物板30。
33、3，工作时喷射板206、载物台303之间形成射频电场；射频电场使得喷射板206气流喷射孔207喷出的反应气体发生辉光放电，在辉光放电区域产生大量电子，经一系列化学反应在高频振动的收集片301表面沉积薄膜；旋动升降台A的滚轮说明书CN104195528A6/6页9101，与连接板102螺纹配合的丝杠107转动带动滑块103沿滑轨104移动，使得与滑块103相固定连接的连接杆6、连接架10、喷气系统上下移动，对喷气系统、沉积台30之间距离调节；第二绝热层33、第一绝热层29对加热片307产生的热进行绝缘，防止过热影响上盖9、下盖17与腔壁11连接的密封性，及对激振器15工作性能产生影响，柱形滤网2。
34、4置于输出管21端口以对排出的残余气体内固体颗粒过滤；调节加热片307加热功率改变收集片301收集温度，热传感器309测量载物板303温度参数并通过电控装置19的显示器显示。0036为了更好地对本发明进行后期拓展，本实施例还设有第一预留管路7、第二预留管路23，其上均设有阀门。0037本发明的工作原理为作时，先对真空腔35抽真空，关闭混合气体阀3、第一预留管路7、第二预留管路23阀门，打开惰性气体阀2、排气阀20、排气系统22，对真空腔35内的残余气体排放同时对真空腔35用惰性气体填充10分钟，关闭惰性气体阀2，真空腔35真空度通过压力计8观察，待达到要求真空值时，激振器15激振、加热片307。
35、加热，待激振器15达到所需的激振频率、收集片301达到反应所需温度，打开混合气体阀3对真空腔35充反应气体，反应气体经喷气系统31进气口201、上腔210、气流孔A209、下腔208、气流孔B207均匀喷出，打开射频电源RF并旋转滚轮101调节喷射板206位置，均匀喷出的反应气体在射频电场作用下辉光放电产生大量电子，经一系列化学反应在高温、振动的收集片301表面沉积出薄膜，透过石英窗13、观察口12对真空腔35内反应情况观察，调节射频电源RF功率大小、喷射板206位置、加热片307加热功率、激振器15激振频率等参数使收集片301上沉积出质量更佳的薄膜，沉积完成后，关闭激振器15电源、关闭射频电。
36、源RF、关闭混合气体阀3、打开惰性气体阀2，真空腔35内残余反应气体经柱形滤网24后固体颗粒被残留在柱形滤网24、气体被排出，直到真空腔内压力达到与外界气压一致时，关闭排气系统22，待加热片307冷却至室温，打开上盖取出收集片301，在收集片301表面获得沉积薄膜。0038尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本发明，但所属领域的技术人员应该明白，在不脱离所附权利要求书所限定的本发明的精神和范围内，在形式上和细节上可以对本发明做出各种变化，均为本发明的保护范围。说明书CN104195528A1/4页10图1说明书附图CN104195528A102/4页11图2说明书附图CN104195528A113/4页12图3图4说明书附图CN104195528A124/4页13图5图6说明书附图CN104195528A13。