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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201620990820.4 (22)申请日 2016.08.30 (73)专利权人 上海奈菱机电科技有限公司 地址 200231 上海市闵行区华宁路4018弄 58号14号楼205室437号 (72)发明人 沈蕾 (51)Int.Cl. A47K 3/022(2006.01) A61L 2/20(2006.01) (54)实用新型名称 一种微纳米臭氧气泡的足浴盆 (57)摘要 本实用新型为涉及一种微纳米臭氧气泡的 足浴盆， 包括： 壳体、 足浴池、 循环管路、 微纳米气 泡生产。
2、装置； 其中， 足浴池设置所述壳体内， 在所 述足浴池上设有循环进水口、 循环出水口和排水 口； 所述足浴池内设有按摩脚底穴位的按摩轮； 循环管路分别与循环进水口和循环出水口相连 接， 在所述循环管路上设有调速水泵， 以调节水 流速度； 微纳米气泡生产装置设置在所述循环管 路上， 所述微纳米气泡生产装置的进气口与臭氧 发生装置相连通。 有益效果是： 臭氧溶解度高， 通 过臭氧能够清除足浴盆内滋生的细菌、 真菌， 能 缓解脚气病的发生； 通过按摩轮可以实现对穴位 的刺激。 权利要求书1页 说明书2页 附图1页 CN 206534563 U 2017.10.03 CN 206534563 U 1.。
3、一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 其特征在于， 包括： 壳体； 足浴池， 设置所述壳体内， 在所述足浴池上设有循环进水口、 循环出水口和排水口； 所 述足浴池内设有按摩脚底穴位的按摩轮； 循环管路， 分别与循环进水口和循环出水口相连接， 在所述循环管路上设有调速水泵， 以调节水流速度； 微纳米气泡生产装置， 设置在所述循环管路上， 所述微纳米气泡生产装置的进气口与 臭氧发生装置相连通； 所述循环管路上还设有加热装置； 所述循环进水口设有滤网。 2.根据权利要求1所述的一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 其特征在于， 在所述臭氧发生 装置和微纳米气泡生产装置之间还设有气流调节阀。 3.根据权利要求1所述的。
4、一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 其特征在于， 所述按摩轮的表 面设有众多凸起。 4.根据权利要求1所述的一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 其特征在于， 所述循环进水口 设有止回阀。 权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 206534563 U 2 一种微纳米臭氧气泡的足浴盆 技术领域 0001 本实用新型涉及家用电器技术领域， 尤其是涉及一种微纳米臭氧气泡的足浴盆。 背景技术 0002 脚气在青年和成年人中非常常见， 脚气(脚臭)是由于身体的小汗腺分泌旺盛， 产 生汗液， 足部皮肤的温度和汗液形成湿度以及皮屑， 构成足部皮肤表面微生物(特别是厌氧 菌)滋生、 繁殖和腐败的适宜条件， 再加上汗液中。
5、的尿酸、 乳酸等有机物分解， 结果变的异常 难闻甚至导致恶臭。 引起脚臭的罪魁祸首是真菌， 也就是通常说的香港脚菌， 它分解皮肤代 谢物后产生难闻的恶臭。 脚气有时奇痒无比， 其最大特点就是易复发和难根除。 虽然脚气本 身不影响日常生活， 但脚气的治愈并不是人们想象中的那么简单， 在日常生活中足部长期 反复的瘙痒， 甚至糜烂、 皲裂、 臭味确实使生活质量大打折扣！ 在机体免疫机能低下时， 还容 易引发手癣、 体癣、 股癣、 甲癣或丹毒、 淋巴管炎等严重疾患。 当人们在泡脚后， 脚上的真菌 和臭味还有残留时， 脚趾间还在发痒， 甚至还想用手去挠一挠， 此时心情是可想而知的。 0003 足浴盆顾名。
6、思义， 指用于足部冲洗按摩的容器。 足浴是中国传统医学发汗疗术中 行之有效的理疗、 保健方法， 可以促进足部和全身的血液循环加速， 驱散足底沉积物和消除 体内的疲劳物质， 促使各内分泌体分泌各种激素。 经常通过足浴盆洗脚可以在一定程度上 缓解脚气病的问题， 但无法根除。 0004 臭氧是一种强氧化剂， 对促进环境清洁有重大贡献。 臭氧在常温、 常压下分子结构 不稳定， 很快自行分解成氧气(02)和单个氧原子(0)； 后者具有很强的活性， 对细菌有极强 的氧化作用， 臭氧氧化分解了细菌内部氧化葡萄糖所必须的酶， 从而破坏其细胞膜， 将它杀 死， 多余的氧原子则会自行重新结合成为普通氧分子(02)。
7、， 不存在任何有毒残留物， 故称无 污染消毒剂， 它不但对各种细菌、 真菌有极强的杀灭能力， 而且对杀死霉菌也很有效。 0005 因此， 本实用新型将臭氧和足浴盆相结合， 提出了一种具有微纳米臭氧气泡的足 浴盆， 以达到臭氧溶解度高、 提高消毒效果的目的。 实用新型内容 0006 本实用新型提供一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 以解决现有技术中的足浴盆功能 简单、 臭氧溶解度不高、 消毒效果差的问题。 0007 本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现： 0008 一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 包括： 0009 壳体； 0010 足浴池， 设置所述壳体内， 在所述足浴池上设有循环进水口、 。
8、循环出水口和排水 口； 所述足浴池内设有按摩脚底穴位的按摩轮； 0011 循环管路， 分别与循环进水口和循环出水口相连接， 在所述循环管路上设有调速 水泵， 以调节水流速度； 0012 微纳米气泡生产装置， 设置在所述循环管路上， 所述微纳米气泡生产装置的进气 说 明 书 1/2 页 3 CN 206534563 U 3 口与臭氧发生装置相连通。 0013 作为优选的技术方案， 在所述臭氧发生装置和微纳米气泡生产装置之间还设有气 流调节阀。 0014 作为优选的技术方案， 所述循环管路上还设有加热装置， 对足浴池内的水进行持 续性加热。 0015 作为优选的技术方案， 所述按摩轮的表面设有众多。
9、凸起， 以实现对穴位的刺激。 0016 作为优选的技术方案， 所述循环进水口设有滤网， 以过滤水中杂质。 0017 作为优选的技术方案， 所述循环进水口设有止回阀， 以防止水倒流。 0018 本实用新型具有的有益效果是： 臭氧溶解度高， 通过臭氧能够清除足浴盆内滋生 的细菌、 真菌， 能缓解脚气病的发生； 通过按摩轮可以实现对穴位的刺激。 附图说明 0019 为了更清楚地说明本发明实施方案或现有技术中的技术方案， 下面将对实施方案 或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图仅仅 是本发明的一些实施方案， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动性的前。
10、提 下， 还可以根据这些附图获得其他的附图。 0020 图1为本实用新型： 一种微纳米臭氧气泡的足浴盆的结构示意图。 具体实施方式 0021 为了使本实用新型实现的技术手段、 创作特征、 达成目的与功效易于明白了解， 下 面结合具体图示， 进一步阐述本实用新型。 0022 参照图1所示， 一种微纳米臭氧气泡的足浴盆， 包括： 壳体1、 足浴池2、 循环管路6、 微纳米气泡生产装置4。 0023 足浴池2设置壳体1内， 在足浴池2上设有循环进水口21、 循环出水口22和排水口3； 排水口3用以排水。 在足浴池2内设有按摩脚底穴位的按摩轮5， 为了达到按摩穴位的目的， 按摩轮5表面设有众多凸起。 。
11、0024 循环管路6分别与循环进水口21和循环出水口22相连接， 在循环管路6上设有调速 水泵61， 以调节水流速度。 循环管路6上还设有加热装置9， 对足浴池2内的水进行持续性加 热。 循环进水口21设有滤网62和止回阀63， 以过滤水中杂质， 并以防止水倒流。 0025 微纳米气泡生产装置4设置在循环管路6上， 微纳米气泡生产装置4的进气口与臭 氧发生装置7相连通， 为了便于控制臭氧溶解量， 在臭氧发生装置7和微纳米气泡生产装置4 之间还设有气流调节阀8。 0026 为了实现自动化的控制， 本实用新型还设有控制器10， 控制器10分别与调速水泵 61、 气流调节阀8、 加热装置9电性连接， 以调节水温、 流速、 臭氧溶解量等操作。 0027 以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。 本行 业的技术人员应该了解， 本实用新型不受上述实施例的限制， 上述实施例和说明书中描述 的只是说明本实用新型的原理， 在不脱离本实用新型精神和范围的前提下， 本实用新型还 会有各种变化和改进， 这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。 本实用新型 要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。 说 明 书 2/2 页 4 CN 206534563 U 4 图1 说 明 书 附 图 1/1 页 5 CN 206534563 U 5 。