一字排列式显影处理装置及显影处理方法.pdf

本发明提供一种不增加运送线的长度、不产生显影不均匀的一字排列式显影处理装置。对于在表面上形成了曝光过的抗蚀剂膜的基板(W)，在显影液供给部(2)中向表面供给显影液，在运送的同时进行显影反应，然后在显影液回收部(4)中回收显影液，之后在漂洗液供给·回收部(6)中进行清洗和清洗液回收，最后送至干燥部(8)。在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，于该处理部之前的待机部、例如该处理部是显影液回收部(4)的情况下，在其之前的待机部(3)中，使滚轮(10a)重复进行正反旋转，基板(W)往返移动。结果是，在基板(W)的背面，与滚轮(10a)接触的部分始终移动而不停止在一个部位上，基板的温度分布是均匀的。

1、  一种一字排列式显影处理装置，在该一字排列式显影处理装置中，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给部，与该显影液供给部相比沿着运送线在下游测设置次工序处理部，其特征在于，在所述显影液供给部和次工序处理部之间设置待机部，可以正反旋转构成该待机部的滚轮。

2、  一种一字排列式显影处理装置，在该一字排列式显影处理装置中，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给部，与该显影液供给部相比沿着运送线在下游侧设置次工序处理部，其特征在于，所述次工序处理部是显影液回收部，可以正反旋转构成该显影液供给部的滚轮。

3、  根据权利要求1或2所述的一字排列式显影处理装置，其特征在于，所述滚轮在轴方向上具有相同的直径，以便在轴方向上连续与基板背面接触。

4、  一种一字排列式显影处理方法，在一字排列式显影处理方法中，通过多个滚轮构成的运送线运送基板同时供给显影液，然后在向下游侧运送基板的同时回收显影液，其特征在于在进行所述显影液的供给、显影液的回收和漂洗期间使基板连续移动而不停止。

一字排列式显影处理装置 及显影处理方法
技术领域
本发明涉及一种对玻璃基板等基板连续进行显影液的供给、显影液的回收和漂洗等工序的一字排列式显影处理装置及其方法。
背景技术
在用作液晶基板等的玻璃基板上形成预定图形的抗蚀剂膜时，对在玻璃基板表面上形成的抗蚀剂膜进行预定图形的曝光，通过显影只留下(或除去)预定图形的抗蚀剂膜。
在进行上述显影处理时，首先在曝光后的抗蚀剂膜表面上供给施加显影液，在预定时间内进行显影反应，反应结束之后，回收或废弃显影液，然后经漂洗工序后进行干燥。而且，通过滚轮在运送基板的同时进行所述显影工序的一字排列式显影方法是公知的(专利文献1)。
此外，还提出在玻璃基板的表面和背面的前后左右隔开间隔来配置喷出调温空气的喷嘴(专利文献2)。
[专利文献]
专利文献1：特开平11-204411号公报段落[0002]
专利文献2：特开2002-72492号公报段落[0002]～[0006]
发明内容
在上述显影处理中，显影液的供给需要的时间、显影反应需要的时间、显影液的回收需要的时间以及漂洗需要的时间彼此不同，因此在采用一字排列式显影处理装置进行显影的情况下，需要将时间最长的工序与其它工序调配。为此，一旦基板在运送线的预定位置停止，则要调整生产节拍时间。
基板停止期间滚轮不旋转。为此，滚轮与基板背面的规定位置接触、且不与其它位置接触的状态持续规定时间。如果滚轮的表面温度与环境空气温度不同，因此在与滚轮接触的部分和不与其接触的部分上，在基板表面产生温度差，因此显影液的挥发速度局部地变化，在其影响下，表面的抗蚀剂显影化学处理速度存在差别，因而显影不均匀。
特别是，作为滚轮，有时采用将轴方向长度比基板宽度短的滚轮以交错形式设置的运送线，这种情况下，由于滚轮接触的部分和不接触的部分的温度差而在基板的背面产生水滴，因此显影不均匀性更明显。
此外，在由专利文献2提供的方法中，产生卷起粒子并附着于基板表面的新问题。特别是，随着目前玻璃基板的大型化，不均匀性的产生成为一个大问题。
反之，即使在滚轮的温度和周围空气温度相同的情况下，由于空气和滚轮的热传递系数不同，因此仍产生显影不均匀的问题。
此外，如果不停止基板，则可以消除滚轮在基板的特定位置接触规定时间而造成的问题，但必须增长这部分的运送线，因而装置规模大。
为解决上述问题，根据本发明提供一种一与排列式显影处理装置，在由多个滚轮构成的运送线的途中设置将显影液施加于基板表面的显影液供给部，与该显影液供给部相比沿着运送线在下游侧设置显影液回收、漂洗或干燥等次工序处理部，在所述显影液供给部和次工序处理部之间设置待机部，可以正反旋转构成该待机部的滚轮。
所述滚轮在轴方向上具有相同的直径，以便在轴方向上连续与基板背面接触。
利用上述构成，根据本发明的一字排列式显影处理方法，即使各个工序的处理时间各不相同，也不必停止基板，即可一面不断地改变滚轮与基板背面的接触位置，一面进行显影。
附图说明
图1(a)是根据本发明的显影装置的整体平面图，图1(b)是其侧视图。
图2是待机部的放大侧视图。
图3(a)是根据本发明的显影装置的另一实施例的整体平面图，图3(b)是该另一实施例的侧视图。
附图标记说明如下：
1：运送线，2：显影液供给部，3、5、7：待机部，4：显影液回收部，5：待机部，6：漂洗液供给·回收部，8：干燥部，10、10a：滚轮，W：基板
具体实施方式
下面参照附图介绍本发明的实施方式。这里，图1(a)和图1(b)分别是根据本发明的显影装置的平面图及其侧视图，图2是待机部的放大侧视图，图3(a)和图3(b)是根据本发明的另一实施例的平面图及其侧视图。
一字排列式显影装置沿着基板的运送线1、从上游侧依次配置显影液供给部2、待机部3、显影液回收部4、待机部5、漂洗液供给·回收部6、待机部7及干燥部8，构成运送线1的多个滚轮(圆筒状滚子)10等间隔地隔开并且在与基板的运送方向垂直的方向上配置轴。
此外，在图示地例子中，分别在显影液回收部4、漂洗液供给部·回收部6以及干燥部8等各种部件之前设置待机部，但也可以在所有的工序之前不设置待机部，而在其中一个工序之前设置待机部。
在所述显影液供给部2上配置一对显影液供给用缝隙式喷嘴21，在显影液回收部4上配置吸引回收显影液的缝隙式喷嘴41，在漂洗液供给·回收部6上配置漂洗液供给喷嘴61和回收喷嘴62。此外，代替设置显影液回收用的缝隙式喷嘴41，也可以设置使基板稍微倾斜或弯曲而使表面上施加的显影液落下的机构。
滚轮10是设置得比基板W的宽度稍长，并且在沿轴方向在所有部位上都为同一直径的连续型滚轮，与玻璃基板W的背面面接触。而且，在滚轮中的待机部3、5、7上设置的滚轮10a可以正反旋转。
如上所述，表面上形成曝光过的抗蚀剂膜的基板W，在显影液供给部2中向抗蚀剂膜表面提供显影液，在运送的同时进行显影化学反应，然后显影液回收部4中回收显影液，之后在漂洗液供给·回收部6中进行清洗和清洗液的回收，最终送至干燥部8。
在这一系列显影处理的过程中，在基板进入下游侧的处理部的情况下，在该处理部之前的待机部，例如，该处理部是显影液回收部4的情况下，在其之前待机部3中使滚轮10a重复进行正反旋转，如图2所示，基板W往返移动。结果是，在基板W的背面，与滚轮10a接触的部分始终移动而不停止在一个位置上，基板的温度分布均匀。
由于基板的温度分布均匀，因此可以均匀地进行显影处理。
在图3所示的另一实施例中，为了可以根据显影时间的长短来改变显影开始位置。而并列设置多个显影液供给部。例如，显影时间需要120秒的情况下，在显影液供给部2中装上显影液，原封不动地直接通过显影液供给部2’到达显影液回收部4。此外，在显影时间需要60秒的情况下，直接通过显影液供给部2而在显影液供给部2’中装上显影液。由于不用担心在显影处理结束的时刻发生显影不均，因此在另一实施例中不设置新的待机部，通过使显影液回收部4的滚轮10a正反旋转来兼用待机部。通过这种构成，处理装置整体不大即可。
如上所述，根据本发明的一字排列式显影装置，由于始终使滚轮旋转来变化基板背面和滚轮接触的接触位置，因此基板背面的温度分布均匀，并且可以进行没有显影不均匀和线宽变化的高精度显影处理。
此外，在待机部中可以使滚轮正反旋转，即，由于不用停止基板而使其往复运动，因此不用延伸生产线整体长度而以小型方式构成效率高的一字排列式显影装置。
而且，如果将显影液回收部和待机部进行兼用，则可以进一步实现装置的小型化。