等离子体显示板 【技术领域】
本发明涉及一种等离子体显示板，尤其涉及等离子体显示板的阻挡肋。
本申请参考并结合了下列两申请的内容，并要求享有下列两申请的优先权：2002年12月17日向韩国工业产权局提交的名称为“等离子体显示板(PLASMA DISPLAY PANEL)”、申请号为2002-0080804的申请；和2003年1月15日向韩国工业产权局提交的名称为“等离子体显示板(PLASMADISPLAY PANEL)”、申请号为2003-0002682的申请。
背景技术
等离子体显示板(PDP)一般包括界定放电单元的阻挡肋(barrier ribs)。众所周知，有两类主要的阻挡肋：闭合式阻挡肋(closed barrier ribs)和开放式阻挡肋(open barrier ribs)。开放式阻挡肋通常形成为条纹结构。因为形成在这种条纹型阻挡肋之间的放电单元是联通的(即，每对相邻阻挡肋之间的放电单元是联通的)，所以制造过程中较容易实现PDP的排气和PDP内放电气体的密封。
反之，对于闭合式阻挡肋，放电单元不联通。即，阻挡肋形成各自的单元，有四边形、六边形或其它形状。对于闭合式阻挡肋，为每个象素形成单独的放电单元，并且在形成每个象素的阻挡肋的整个内表面上形成荧光材料。
在利用此种闭合式阻挡肋的第一类PDP中，形成在阻挡肋远端和与形成有阻挡肋的基底相对的基底之间的间隙用作排气路径。该间隙通过调节阻挡肋的高度或通过在阻挡肋远端区域的预定部位形成凹陷而形成。但是因为间隙的尺寸极小，所导致地排气阻力必须花大量时间来使PDP排气。这样就降低了总生产效率。
为了克服这些问题已经公开了多种结构。例如，日本专利公开号平4-274141披露了一种结构，其中将开放式条纹型(open stripe-type)阻挡肋和闭合式格栅型(closed lattice-type)阻挡肋组合以减小排气阻力。但是，对于这种组合式结构，制造PDP时在基底上形成每个阻挡肋的工艺很复杂。因此这种结构的产量低下到很难批量生产的程度。
日本专利公开号平2002-83545披露了一种PDP，其中利用具有热收缩性质的材料形成闭合式阻挡肋。形成的阻挡肋具有高度较低的区域，用作排气路径，由此形成网状结构的排气路径。虽然申请人声明这种阻挡肋结构减小了排气过程中的排气阻力，但实际上作为网状结构的结果，可以进行排气的路径数量很有限。这样可能导致PDP的排气不充分。
【发明内容】
本发明要解决的技术问题是提供一种包括排气效率最高的阻挡肋的等离子体显示板。
更具体地说，本发明提供的等离子体显示板包括通过有效利用放电单元而能提高亮度的阻挡肋。
在一实施方式中，本发明提供的等离子体显示板包括：一个第一基底；一个第二基底，它与所述第一基底相对安置并与第一基底间有一预定间隙，由此形成一个真空组件；和形成在第一基底和第二基底之间的阻挡肋，这些阻挡肋界定放电单元。在每个放电单元的阻挡肋中形成径向排气路径。
通过阻挡肋形成闭合结构的放电单元，所述放电单元分布成格栅图案或△图案(delta pattern)。
在另一实施方式中，本发明提供的等离子体显示板包括：一个第一基底；一个第二基底，它与所述第一基底相对安置并与第一基底间有一预定间隙，由此形成一个真空组件；和形成在第二基底上并在朝向第一基底的方向延伸预定距离的阻挡肋，所述阻挡肋界定放电单元。阻挡肋的平面图是这样的，即，如果作出将阻挡肋的远端表面一分为二的虚线，则虚线形成多个包围每个放电单元的多边形形状，由此使放电单元呈多边形形状。另外，如果阻挡肋对应于放电单元多边形形状的中心部位的区域中画出的第一内接圆的半径为R，对应于放电单元多边形形状的中心部位之间预定点的区域中画出的第二内接圆的半径为r，则满足下列条件：
R＞r
或者，形成的阻挡肋可以满足下列条件：
R＞2r
阻挡肋由具有热收缩性质的材料制成，并且阻挡肋远端表面的宽度以连续的或阶跃的方式沿形成阻挡肋的方向变化。
另外，在阻挡肋中形成排气路径，使得在阻挡肋对应于多边形放电单元每个边的区域中形成一个排气路径。排气路径形成在阻挡肋的远端中。
本等离子体显示板还包括形成在多边形放电单元角部会聚处的阻挡肋区域中的排气支路。这些排气支路由形成在阻挡肋中的排气槽构成。
在又一实施方式中，本发明提供的等离子体显示板包括：一个第一基底；一个第二基底，它与所述第一基底相对安置并与第一基底间有一预定间隙，由此形成一个真空组件；和形成在第二基底上并在朝向第一基底的方向延伸预定距离的阻挡肋，这些阻挡肋界定放电单元。阻挡肋的平面图是这样的，即，如果作出将阻挡肋的远端表面一分为二的虚线，则虚线形成多个包围每个放电单元的多边形形状，由此使放电单元呈多边形形状。
另外，从形成在第二基底上算起到第二基底的远端为止测得的阻挡肋的高度在对应于多边形放电单元角部的区域处比在多边形放电单元角部之间的区域处大。
阻挡肋的高度在对应于多边形放电单元角部的区域处最大，在多边形放电单元角部之间的预定点处最小。
阻挡肋远端的宽度在对应于多边形放电单元角部的区域处大于多边形放电单元角部之间的区域处。
另外，阻挡肋的高度以连续的方式从最大高度开始变化到最小高度为止。
下文将参考附图更具体地描述本发明。通过下面的描述及所附的权利要求，本发明的其它优点和特点将变得更加清晰。
【附图说明】
通过下文结合附图的详细描述，可以对本发明及其优点有更全面地理解，其中相同的标号表示相同或类似的部件。附图中：
图1是本发明第一实施方式的等离子体显示板的局部剖切透视图；
图2是图1所示的阻挡肋的结构平面图；
图3A和3B是沿图2中A-A线和B-B线的截面图；
图4是本发明第二实施方式的阻挡肋结构的平面图；
图5、6和7是本发明第三实施方式的阻挡肋结构的平面图；
图8是本发明第四实施方式的等离子体显示板的局部剖切透视图；
图9是图8所示排气支路的放大透视图；和
图10是本发明第五实施方式的等离子体显示板的局部平面图。
【具体实施方式】
下面参考附图详细描述本发明的实施方式。
图1是本发明第一实施方式的等离子体显示板的局部剖切透视图；图2是图1所示阻挡肋结构的平面图；图3A和3B是沿图2中A-A线和B-B线的截面图。
参考附图，根据本发明第一实施方式的等离子体显示板(PDP)包括彼此相对的、之间有一间隙的第一基底10和第二基底12。第一基底10和第二基底12的组合形成一个真空组件。
在第二基底12上以预定的图案(如条纹图案)和预定的间隔形成地址电极14。在第二基底12上还形成一个覆盖地址电极14的第一介电层16。另外，在第一介电层16上形成阻挡肋18，并以预定的图案界定多个放电单元17。
在第一实施方式中，阻挡肋18由具有低熔点的玻璃材料制成。关于阻挡肋18形成的平面视图，参见图1和图2，在作出将阻挡肋18的远端表面一分为二的虚线L的情况中，虚线L形成多个包围每个放电单元17的多边形。在第一实施方式中，虚线L形成多个四边形。
阻挡肋18包括行部分18a和列部分18b，行部分18a在基本上垂直于地址电极14形成的方向上延伸，列部分18b在基本上平行于地址电极14形成的方向上延伸。行部分18a和列部分18b交叉的区域，即四个相邻的放电单元17之间阻挡肋18的区域占据比阻挡肋18的其它区域更大的空间。下面详细描述阻挡肋18的形成、尤其是阻挡肋18的相对宽度。
作为实例，四个相邻放电单元17之间的阻挡肋18的区域在阻挡肋18的所有区域中最大，而阻挡肋18的对应于相邻放电单元17的长边和短边中心的区域在阻挡肋18的所有区域中最小。具体地说，在四个相邻放电单元17之间的阻挡肋18的区域之一中画着的第一内接圆C1(见图2)的半径R大于在对应于相邻放电单元17的长边和短边中心的区域中画着的第二内接圆C2(见图2)的半径r。即，这些半径R和r满足条件R＞r，更优选的是满足条件R＞2r。
参见图3A和3B，画着第二内接圆C2的区域、即阻挡肋对应于相邻放电单元17的长边和短边中心的最小宽度的区域具有高度H1，在阻挡肋18的所有区域中最小，而四个相邻放电单元17之间的阻挡肋18的区域具有高度H2，在阻挡肋18的所有区域中最大。
对于这种结构，在第一基底10与阻挡肋18的行部分18a和列部分18b的远端之间由高度H1和H2之差形成预定尺寸的间隙。优选高度H1和H2之差在5～10μm之间。这些间隙起着排气路径P的作用，当在制造显示板的过程中要在其中形成真空时，PDP内部的空气穿过排气路径P。结果是为每个放电单元17都提供了径向路径P。在第一实施方式中，为每个放电单元17提供了四个排气路径P。
通过通常用在PDP的制造中的喷沙处理形成阻挡肋18。如果利用喷沙处理可以形成的阻挡肋18的最小宽度为m，则上述第二内接圆C2的半径r满足下列条件：
2r＜m
另外，参见图2，阻挡肋18的行部分18a和列部分18b的宽度可以随其距中心(形成内接圆C2的地方)的距离增大而连续变大(即不是突变，也不是阶跃变化)。另外，参见图3A和3B，行部分18a和列部分18b的高度可以从高度为H2的地方起连续地朝高度为H1的区域减小。
如上所述构成的阻挡肋18按照本发明的下列制造方法制造。
首先，在地址电极14和第一介电层16形成在第二基底12上的状态下，通过一种糊剂形成预定厚度的阻挡肋材料层，其中该糊剂通过赋形剂(vehicle)与低熔点的玻璃粉均匀混合而成，并且利用丝网印刷法或层叠法在第一介电层16上形成阻挡肋材料层。低熔点玻璃粉例如可以由包含50～60％(重量百分比)的Pbo、5～10％(重量百分比)的B2O3、10～20％(重量百分比)的SiO2、15～25％(重量百分比)的Al2O2和不多于5％或更少(重量百分比)的CaO的材料制成。
在阻挡肋材料层经干燥之后，形成一个光敏干燥膜或沉积一种抗蚀剂材料。然后，利用包括曝光和显影的光刻工艺形成对应于阻挡肋期望形状的栅格图案的切割掩模。因为阻挡肋材料层会发生热收缩，应将掩模图案的尺寸设置成大于阻挡肋的所需尺寸。
接下来，利用喷沙工艺去除阻挡肋材料层的未掩蔽部分，直到暴露出介电层。然后进行加热和烘干，以此完成阻挡肋的成形。
切割掩模具有与上述阻挡肋18相应的各种形状的图案。
在位于放电单元17内的第一介电层16的区域上以及放电单元17内的阻挡肋18的内表面上沉积红、绿和蓝色荧光层20R、20G和20B(见图1)，由此形成相应的象素(即，R、G和B象素)。在第一实施方式中，放电单元17布置成栅格图案，其中每个放电单元通过阻挡肋18单独地形成完全闭合的单元。
另外，形成在与第二基底12相对的第一基底10的表面上的是放电维持电极22，它包括公共电极22a、扫描电极22b和形成在每个公共电极22a及扫描电极22b上的总线电极22c。公共电极22a和扫描电极22b均由如氧化铟锡(ITO)之类的透明材料制成，而总线电极22c由如银(Ag)或金(Au)之类的导体材料制成。
放电维持电极22形成在基本上与形成地址电极14的方向垂直的方向上。在第一基底10上形成第二介电层24以覆盖放电维持电极22，并且在第二介电层24之上形成由MgO制成的保护层26。保护层26起着保护放电维持电极22的作用，并且还起着通过发射二次电子而协助放电的作用。
在具有上述结构的闭合式阻挡肋的PDP中，提供了每个放电单元17的径向排气路径P，使得排气效率比现有技术显著提高。
图4是根据本发明第二实施方式的阻挡肋结构的平面图。第二实施方式中的阻挡肋28具有第一实施方式中的阻挡肋的基本结构。但界定放电单元27的阻挡肋28的行部分28a定位不同。具体地说，相邻放电单元27(即在形成行部分28a的方向上相邻)的阻挡肋28的行部分28a偏离，不象第一实施方式中那样对中。结果是由阻挡肋28界定的放电单元27呈△图案(delta pattern)排列。
图5、6和7是根据本发明第三实施方式的阻挡肋结构的平面图。图5示出将阻挡肋38的远端表面一分为二的虚线L形成为多个六边形的结构。与前述不同，形成的阻挡肋38界定多个放电单元37，使得放电单元37形成为单独的、形状为六边形或类似形状的闭合单元。此结构的结果是放电单元37可以分布成△结构。
在第三实施方式中，任何三个相互相邻的放电单元37之间阻挡肋38的区域与阻挡肋38的其它区域、即阻挡肋38的主要部分38a相比占据最大的面积和最大的高度。这导致在阻挡肋38的主要部分38a中形成排气路径。因为每个放电单元37有比第一实施方式中多的排气路径，所以排气效率更高。
图5、6和7的基本结构示出了界定放电单元37、使得放电单元37形成为闭合的、十二个侧面的独立单元的阻挡肋38。如图6所示，形成每个放电单元37的十二条边的长度基本相等，并且阻挡肋38彼此放置的位置关系使得相邻放电单元37之间的主要部分38a具有随着主要部分38a中心的距离增大而增大的宽度。
在图7中，形成每个放电单元37的十二条边的长度不相等。即，形成主要部分38a的边长于三个相互相邻的放电单元37集中的区域中的边。因此，阻挡肋38沿主要部分38a的宽度保持恒定。
图8是根据本发明第四实施方式的等离子体显示板的局部剖切透视图。其中用相同的标号表示第四实施方式中与第一实施方式相同的元件。
本发明第四实施方式的PDP利用与第一实施方式的PDP相同的基本结构。但是，在行部分18a和列部分18b交叉的区域、即四个相邻放电单元17之间的阻挡肋18区域形成排气支路40。
形成的排气支路40使相邻的放电单元17之间联通，由此改进了排气过程。还参见图9，排气支路40通过在阻挡肋18中形成排气槽而实现。排气支路40可以利用蚀刻过程以简单的方式形成。例如，形成的排气槽可以具有10～100μm的宽度和0～130μm的深度。
关于第四实施方式中的PDP，除了由参考第一实施方式所述的阻挡肋18的行部分18a和列部分18b的具体结构形成径向排气路径之外，排气支路40更进一步地提高了排气效率。
图10是根据本发明第五实施方式的等离子体显示板的局部平面图。在第五实施方式中，在形成阻挡肋48以实现放电单元的△分布的情况下，在阻挡肋48上形成排气支路50。虽然排气支路50形成在相邻放电单元之间的每个角部区域，但也可以在其它选取的部位形成排气支路50。
虽然通过所描述的实施方式图解说明了本发明，这些实施方式只是对重要的细节作了描述，而不意味着对本发明范围的任何限制。本发明的其它优点及改型对于本领域的技术人员是显而易见的。因此，本发明的范围不限于具体的细节、具有代表性的装置和方法以及图示并描述的实例。因此，在不超出本发明由权利要求限定的构思和保护范围的前提下可以进行各种改型。