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1、(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201710486013.8 (22)申请日 2017.06.23 (71)申请人 霍山县安绿园农业发展有限公司 地址 237202 安徽省六安市霍山县黑石渡 镇柳树店村 (72)发明人 秦先屈 (74)专利代理机构 安徽力澜律师事务所 34127 代理人 王际复 (51)Int.Cl. A01G 9/18(2006.01) A01B 79/02(2006.01) C05D 7/00(2006.01) C05F 15/00(2006.01) C05F 17/00(2006.01)。
2、 (54)发明名称 一种大棚内浅埋秸秆生成二氧化碳的方法 (57)摘要 本发明公开了一种大棚内浅埋秸秆生成二 氧化碳的方法， 包含以下步骤： 步骤一： 在蔬菜生 长季节， 在大棚内挖坑， 平均每亩挖4个坑， 且呈 阵列分布， 坑的尺寸为80*80cm， 深度为20cm； 步 骤二： 向每个坑内铺入510kg秸秆， 并在秸秆的 表层均匀撒上发酵菌， 然后覆土20cm； 步骤三： 覆 土完毕后， 浇水发酵， 三天后在秸秆的位置打孔 透气， 一周后秸秆进行分解， 产生二氧化碳； 步骤 四： 定期检查坑内的秸秆余量， 视蔬菜生产情况 补加秸秆， 持续发酵。 本发明通过秸秆在发酵菌 的作用下， 分解产生。
3、二氧化碳， 用于蔬菜光合作 用， 一定程度上提高了蔬菜的产量。 权利要求书1页 说明书2页 CN 107318533 A 2017.11.07 CN 107318533 A 1.一种大棚内浅埋秸秆生成二氧化碳的方法， 其特征在于， 包含以下步骤： 步骤一： 在蔬菜生长季节， 在大棚内挖坑， 平均每亩挖4个坑， 且呈阵列分布， 坑的尺寸 为80*80cm， 深度为20cm； 步骤二： 向每个坑内铺入510kg秸秆， 并在秸秆的表层均匀撒上发酵菌， 然后覆土 20cm； 步骤三： 覆土完毕后， 浇水发酵， 三天后在秸秆的位置打孔透气， 一周后秸秆进行分解， 产生二氧化碳； 步骤四： 定期检查坑内的。
4、秸秆余量， 视蔬菜生产情况补加秸秆， 持续发酵。 权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 107318533 A 2 一种大棚内浅埋秸秆生成二氧化碳的方法 技术领域 0001 本发明涉及一种大棚内浅埋秸秆生成二氧化碳的方法， 应用于蔬菜种植技术领 域。 背景技术 0002 大棚蔬菜的生长需要植物进行光合作用， 而光合作用是植物的叶绿素在光的作用 下， 通过吸收二氧化碳和水， 生产有机物的过程， 蔬菜大棚是一个相对密闭的环境， 植物多， 对二氧化碳的需求量大， 二氧化碳经常处于匮乏状态， 一定程度上降低了蔬菜的产量， 目前 市场上在进行大棚种植蔬菜时， 多数是采用给大棚通风， 以便蔬菜摄取二氧。
5、化碳， 但当天气 较寒冷时， 通风时间不多， 因此在操作时具有一定的难度。 发明内容 0003 为解决上述的问题， 本发明公开了一种大棚内浅埋秸秆生成二氧化碳的方法， 包 含以下步骤： 步骤一： 在蔬菜生长季节， 在大棚内挖坑， 平均每亩挖4个坑， 且呈阵列分布， 坑的尺寸 为80*80cm， 深度为20cm； 步骤二： 向每个坑内铺入510kg秸秆， 并在秸秆的表层均匀撒上发酵菌， 然后覆土 20cm； 步骤三： 覆土完毕后， 浇水发酵， 三天后在秸秆的位置打孔透气， 一周后秸秆进行分解， 产生二氧化碳； 步骤四： 定期检查坑内的秸秆余量， 视蔬菜生产情况补加秸秆， 持续发酵。 0004 采。
6、用本技术方案， 本发明的有益效果是： 通过秸秆在发酵菌的作用下， 分解产生二 氧化碳， 用于蔬菜光合作用， 一方面可利于秸秆还田， 同时还提高了蔬菜的产量， 且操作起 来非常方便， 不受气候影响。 具体实施方式 0005 为了使本发明实现的技术手段、 创作特征、 达成目的与功效易于明白了解， 下面结 合具体实施例， 进一步阐述本发明。 0006 本发明公开了一种大棚内浅埋秸秆生成二氧化碳的方法， 包含以下步骤： 步骤一： 在蔬菜生长季节， 在大棚内挖坑， 平均每亩挖4个坑， 且呈阵列分布， 坑的尺寸 为80*80cm， 深度为20cm； 步骤二： 向每个坑内铺入510kg秸秆， 并在秸秆的表层。
7、均匀撒上发酵菌， 然后覆土 20cm； 步骤三： 覆土完毕后， 浇水发酵， 三天后在秸秆的位置打孔透气， 一周后秸秆进行分解， 产生二氧化碳； 步骤四： 定期检查坑内的秸秆余量， 视蔬菜生产情况补加秸秆， 持续发酵。 说 明 书 1/2 页 3 CN 107318533 A 3 0007 最后应说明的是： 以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术 方案； 因此， 尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明， 但是， 本 领域的普通技术人员应当理解， 仍然可以对本发明进行修改或等同替换； 而一切不脱离本 发明的精神和范围的技术方案及其改进， 其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。 说 明 书 2/2 页 4 CN 107318533 A 4 。