CN94100074.5
1994.01.11
CN1105457A
1995.07.19
撤回
无权
|||公开|||
G03F7/00; H01L21/30
中国科学院电子学研究所;
谈凯生
100080北京市中关村路17号
中科院专利事务所
戎志敏
光子去胶机在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3),光源(3)的上方有一反光片(2),光源的下方有一样品支架(5)。本发明是一种非接触式的干法去胶装置,去胶彻底,无需用擦拭等补充手段去除残胶,不会产生因擦拭不当等原因造成的衬底表面损坏,特别适用于半导体制造业。
1: 光子去胶机其特征为在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3),光源(3)的上方有一反光片(2)光源的下方有一样品支架(5)。2: 按权利要求1所述的光子去胶机其特征为在工作室(1)内有一电机(6)带动支架(5)旋转。3: 按权利要求1或2所述的光子去胶机其特征是支架(5)上下可调。4: 按权利要求1所述的光子去胶机其特征为工作室(1)下部接有一智能控制器(9)。5: 按权利要求1或4所述的光子去胶机其特征为工作室(1)内有一温度传感器(7)。
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光子去胶机在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3),光源(3)的上方有一反光片(2),光源的下方有一样品支架(5)。本发明是一种非接触式的干法去胶装置,去胶彻底,无需用擦拭等补充手段去除残胶,不会产生因擦拭不当等原因造成的衬底表面损坏,特别适用于半导体制造业。 。
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