光子去胶机.pdf

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摘要
申请专利号:

CN94100074.5

申请日:

1994.01.11

公开号:

CN1105457A

公开日:

1995.07.19

当前法律状态:

撤回

有效性:

无权

法律详情:

|||公开|||

IPC分类号:

G03F7/00; H01L21/30

主分类号:

G03F7/00; H01L21/30

申请人:

中国科学院电子学研究所;

发明人:

谈凯生

地址:

100080北京市中关村路17号

优先权:

专利代理机构:

中科院专利事务所

代理人:

戎志敏

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内容摘要

光子去胶机在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3),光源(3)的上方有一反光片(2),光源的下方有一样品支架(5)。本发明是一种非接触式的干法去胶装置,去胶彻底,无需用擦拭等补充手段去除残胶,不会产生因擦拭不当等原因造成的衬底表面损坏,特别适用于半导体制造业。

权利要求书

1: 光子去胶机其特征为在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3),光源(3)的上方有一反光片(2)光源的下方有一样品支架(5)。
2: 按权利要求1所述的光子去胶机其特征为在工作室(1)内有一电机(6)带动支架(5)旋转。
3: 按权利要求1或2所述的光子去胶机其特征是支架(5)上下可调。
4: 按权利要求1所述的光子去胶机其特征为工作室(1)下部接有一智能控制器(9)。
5: 按权利要求1或4所述的光子去胶机其特征为工作室(1)内有一温度传感器(7)。

说明书


本发明涉及一种仪器,特别是半导体工业中使用的去除光刻胶的仪器。

    目前已有两种典型的去除涂敷在衬底表面上的光刻胶的方法。

    1.湿法去胶,如用浓硫酸及有机化学溶剂浸泡,擦拭去除光刻胶。这种方法主要缺点是去胶不彻底,擦拭残胶易造成衬底划伤,影响产品的成品率和性能。废液还会导致环境污染等弊病。

    2.干法去胶,如等离子体去胶。其去胶过程大致如下:把带胶的衬底送入石英反应管,抽真空至其一真空度,再输入一定流量的氧气。在高频电磁场作用下,氧气电离产生活化氧占一定比例的氧等离子体,与光刻胶反应生成CO2、H2O和CO等挥发性气体,逸出衬底表面从而达到去胶的目的。这种去胶方法有两个致命的弱点:一是等离子体化过程中放出的电子容易与衬底材料碰撞,引起电子注入,产生晶格缺损;等离子体化过程中产生的高温对某些衬底材料来说是无法容忍的。此外,氧等离子体去胶方法不易去净离子刻蚀产生的络化物。

    本发明的目的是应用能量分别为hν1和hν2的紫外光子对光刻胶或有机物所起的光敏氧化作用达到彻底去除涂敷在衬底表面上的光刻胶或有机物。

    本发明的主要特点是在工作室(1)内地上方有一紫外光源(3),光源的上方有一反光片(2),光源的下方有一样品支架。

    本发明是一种非接触式的干法去胶装置,去胶彻底,无需用擦试等补充手段去清除残胶,不会产生因擦试不当等原因造成的衬底表面损坏,特别适用于半导体制造业。

    附图1是光子去胶器去胶原理图。

    附图2是光子去胶器结构示意图。

    图中1为工作室、2为反射片、3为紫外光源、4为样品、5为样品支架、6为电动机、7为温度传感器、8为门开关、9为智能控制器。

    下面结合附图详述本发明。

    由图1知,hν1和hν2分别表示由紫外光源发射的紫外光光子的能量。其中hν1的能量能够把光刻胶或其它有机物激发分解。(或称敏化),产生如图1所示的离子,游离态原子,受激分子和中性分子。hν2的能量大于hν1。氧分子在吸收hν1之后,分解成臭氧O3和原子氧O,而臭氧在吸收了hν1之后又分解出氧分子O2和原子氧O。由原子氧O具有强烈的氧化作用。使得被hν1激发过的光刻胶(或有机物)的分解物氧化成挥发性气体,当这些分解物全被氧化成挥发性气体逸出表面后,留下的是一个极为洁净的表面。这已用俄歇谱仪的分析结果得到证实。

    由图2知,悬挂在封闭的工作室(1)上方的紫外光光源(3)能发出能量分别为hν1和hν2的紫外光光子。为了使投射到放置在样品支架(5)上的光子数尽可能的多,在紫外光光源上方放置了一块紫外光反射片,样品支架(5)由一个低速电动机(6)带动旋转,这样保证投射到样品表面上的光子数比较均匀,以达到整个样品表面均匀去胶的目的。样品支架(5)与电动机(6)是用螺钉连在一起的。根据工作需要样品支架(5)可以上下移动,调整样品与光源之间的距离。工作室内的温度传感器(7)用来限定工作室(1)内的温度,由智能控制器(9)控制。操作人员根据样品的衬底材料的性质或需要,可以应用智能控制器(9)设置工作室(1)的温度上限。而当工作开始后智能控制器(9)上的数码管即显示工作室的实际温度。当工作室(1)内的温度由于光源温度过高或其它因素的影响超过所设置的温度上限时,智能控制器(9)能自动切断光源(3)的电源。此外,还可利用智能控制器(9)设置去胶时间,处理时间以倒计时的方式由数码管显示。当处理时间到达预定值,整机停止工作,扬声器发出音乐声响,报告去胶工作完毕。为了防止操作人员的误操作,出现紫外光对人体的直接辐射,本装置在封闭工作室的送样门上设置了一个门开关(8),只要送样门是开启的,光源的电压即处于切断状态。

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光子去胶机在工作室(1)内的上方有一紫外光源(3),光源(3)的上方有一反光片(2),光源的下方有一样品支架(5)。本发明是一种非接触式的干法去胶装置,去胶彻底,无需用擦拭等补充手段去除残胶,不会产生因擦拭不当等原因造成的衬底表面损坏,特别适用于半导体制造业。 。

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