提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201620067841.9

申请日:

20160122

公开号:

CN205337369U

公开日:

20160629

当前法律状态:

有效性:

有效

法律详情:

IPC分类号:

A21B5/02,A47J37/06

主分类号:

A21B5/02,A47J37/06

申请人:

宁波凯波集团有限公司

发明人:

严杰波

地址:

315324 浙江省宁波市慈溪市周巷镇环城北路156号

优先权:

CN201620067841U

专利代理机构:

浙江翔隆专利事务所(普通合伙)

代理人:

胡龙祥

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内容摘要

本实用新型公开了一种提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机,属于烹饪电器,现有华夫机在闭合上烤盘时华夫粉受上烤盘的挤压向前流动的较多而使得华夫粉在烤盘内分布不均匀,本实用新型将上煎烤面制为从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状、将下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,将华夫粉倒在下烤盘上后,华夫粉会自动汇集在下烤盘的中央,且在闭合上烤盘的过程中,华夫粉能够被较为均匀地被挤向烤盘边缘,这样使华夫粉能均匀地分布于烤盘内。而且还在上烤盘的上裙边上开设有缺口,利于内部气体顺利排出,从而使华夫粉与烤盘能充分接触,使煎烤变得均匀,也使华夫饼变得更加酥脆。

权利要求书

1.提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,包括可闭合在一起的上烤盘(03)、下烤盘(04),所述上烤盘(03)具有上煎烤面(31),所述下烤盘(04)具有下煎烤面(41),其特征是:所述上煎烤面(31)从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状;所述下煎烤面(41)从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,所述下烤盘(04)上设有围绕所述下煎烤面(41)的一圈下裙边(42);所述的上烤盘(03)、下烤盘(04)闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面(31)与所述坑状的下煎烤面(41)相吻合且在二者之间保持有间隙(06)。 2.根据权利要求1所述的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,其特征是:所述的上煎烤面(31)从整体上表现为突出的锥面;所述的下煎烤面(41)从整体上表现为凹陷的锥面。 3.根据权利要求1所述的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,其特征是:所述上烤盘(03)上设有围绕所述上煎烤面(31)的一圈上裙边(32),所述的上裙边(32)上开设有缺口(33);所述的上烤盘(03)、下烤盘(04)闭合在一起时所述的上裙边(32)与下裙边(42)对应。 4.根据权利要求3所述的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,其特征是:所述的上煎烤面(31)由上隔离壁(34)分割为至少两个子区域,所述的下煎烤面(41)由下隔离壁(43)分割为至少两个子区域,所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁(34)与下隔离壁(43)对应,所述的上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有所述的缺口。 5.华夫机,包括上壳(01)、下壳(02)、上烤盘(03)、下烤盘(04),所述上烤盘(03)具有上煎烤面(31),所述下烤盘(04)具有下煎烤面(41),所述的上烤盘(03)安装在上壳(01)上构成上机体,所述的下烤盘(04)安装在下壳(02)上构成下机体,所述的上机体和下机体通过轴(05)连接并可绕轴旋转使得所述的上烤盘、下烤盘可闭合在一起或者分开,其特征是:所述上煎烤面(31)从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状;所述下煎烤面(41)从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,所述下烤盘(04)上设有围绕所述下煎烤面(41)的一圈下裙边(42);所述的上烤盘(03)、下烤盘(04)闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面(31)与所述坑状的下煎烤面(41)相吻合且在二者之间保持有间隙(06)。 6.根据权利要求5所述的华夫机,其特征是:所述的上煎烤面(31)从整体上表现为突出的锥面;所述的下煎烤面(41)从整体上表现为凹陷的锥面。 7.根据权利要求5所述的华夫机,其特征是:所述上烤盘(03)上设有围绕所述上煎烤面(31)的一圈上裙边(32),所述的上裙边(32)上开设有缺口(33);所述的上烤盘(03)、下烤盘(04)闭合在一起时所述的上裙边(32)与下裙边(42)对应。 8.根据权利要求7所述的华夫机,其特征是:所述的上煎烤面(31)由上隔离壁(34)分割为至少两个子区域,所述的下煎烤面(41)由下隔离壁(43)分割为至少两个子区域,所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁(34)与下隔离壁(43)对应,所述的上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有所述的缺口。

说明书

技术领域

本实用新型属于烹饪电器,具体是一种提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机。

背景技术

在现有技术中,所有的华夫烤盘都是平的,而消费者放华夫粉时又不一定恰好放在正中央,即便是放在正中央,在闭合上烤盘时,因上、下烤盘之间存在角度,华夫粉受上烤盘的挤压向前流动的较多,这就使得华夫粉在烤盘内分布不均匀。此外,市场上的华夫烤盘没有排气槽,煎烤时产生的气体闷在华夫饼里面使得华夫粉和烤盘接触不均匀而影响煎烤效果。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题和提出的技术任务是克服现有华夫机在闭合上烤盘时华夫粉受上烤盘的挤压向前流动的较多而使得华夫粉在烤盘内分布不均匀的缺陷,提供一种提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机。

为达到上述目的,本实用新型的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,包括可闭合在一起的上烤盘、下烤盘,所述上烤盘具有上煎烤面,所述下烤盘具有下煎烤面,其特征是:

所述上煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状;

所述下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,所述下烤盘上设有围绕所述下煎烤面的一圈下裙边;

所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面与所述坑状的下煎烤面相吻合且在二者之间保持有间隙。

作为提高华夫机煎烤效果的烤盘结构的优选技术手段:所述的上煎烤面从整体上表现为突出的锥面;所述的下煎烤面从整体上表现为凹陷的锥面。

作为提高华夫机煎烤效果的烤盘结构的优选技术手段:所述上烤盘上设有围绕所述上煎烤面的一圈上裙边,所述的上裙边上开设有缺口;所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述的上裙边与下裙边对应。

作为提高华夫机煎烤效果的烤盘结构的优选技术手段:所述的上煎烤面由上隔离壁分割为至少两个子区域,所述的下煎烤面由下隔离壁分割为至少两个子区域,所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁与下隔离壁对应,所述的上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有所述的缺口。

为达到上述目的,本实用新型的华夫机,包括上壳、下壳、上烤盘、下烤盘,所述上烤盘具有上煎烤面,所述下烤盘具有下煎烤面,所述的上烤盘安装在上壳上构成上机体,所述的下烤盘安装在下壳上构成下机体,所述的上机体和下机体通过轴连接并可绕轴旋转使得所述的上烤盘、下烤盘可闭合在一起或者分开,其特征是:

所述上煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状;

所述下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,所述下烤盘上设有围绕所述下煎烤面的一圈下裙边;

所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面与所述坑状的下煎烤面相吻合且在二者之间保持有间隙。

作为华夫机的优选技术手段:所述的上煎烤面从整体上表现为突出的锥面;所述的下煎烤面从整体上表现为凹陷的锥面。

作为华夫机的优选技术手段:所述上烤盘上设有围绕所述上煎烤面的一圈上裙边,所述的上裙边上开设有缺口;所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述的上裙边与下裙边对应。

作为华夫机的优选技术手段:所述的上煎烤面由上隔离壁分割为至少两个子区域,所述的下煎烤面由下隔离壁分割为至少两个子区域,所述的上烤盘、下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁与下隔离壁对应,所述的上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有所述的缺口。

本实用新型通过将上煎烤面制为从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状、将下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,将华夫粉倒在下烤盘上后,华夫粉会自动汇集在下烤盘的中央,且在闭合上烤盘的过程中,华夫粉能够被较为均匀地被挤向烤盘边缘,这样使华夫粉能均匀地分布于烤盘内。

本实用新型还在上烤盘的上裙边上开设有缺口,利于内部气体顺利排出,从而使华夫粉与烤盘能充分接触,使煎烤变得均匀,也使华夫饼变得更加酥脆。

附图说明

图1为本实用新型上烤盘的一个轴侧图;

图2为本实用新型上烤盘的一个正投影示图;

图3为图2的A-A向剖视图;

图4为本实用新型下烤盘的一个轴侧图;

图5为本实用新型下烤盘的一个正投影示图;

图6为图5的B-B向剖视图;

图7为图3所示上烤盘与图6所示下烤盘闭合在一起的示意图;

图8为图7中的K部放大图;

图9为图7所示的上烤盘、下烤盘分别装配在上壳、下壳上的示意图;

图10为图1的上烤盘、图4所示的下烤盘分别装配在上壳、下壳上并处于分开状态的示意图;

图中标号说明:

01-上壳;

02-下壳;

03-上烤盘:31-上煎烤面,32-上裙边,33-缺口,34-上隔离壁;

04-下烤盘:41-下煎烤面,42-下裙边,43-下隔离壁;

05-轴;

06-间隙。

具体实施方式

以下结合说明书附图对本实用新型做进一步说明。

如图1-3、4-7、7-8所示,本实用新型的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,包括可闭合在一起(参见图7-8、9)的上烤盘03、下烤盘04,上烤盘03具有上煎烤面31,下烤盘04具有下煎烤面41;上煎烤面31从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状(参见图3);下煎烤面41从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,下烤盘04上设有围绕下煎烤面41的一圈下裙边42,防止倒入的华夫粉外溢;上烤盘、下烤盘闭合在一起时隆起状的上煎烤面31与坑状的下煎烤面41相吻合且在二者之间保持有间隙06(参见图7、图8),该间隙以均匀为宜以便煎烤出厚薄均匀的华夫饼。

依据上述提高华夫机煎烤效果的烤盘结构,本实用新型的华夫机如图9-10所示,其包括上壳01、下壳02、上烤盘03、下烤盘04,上烤盘03具有上煎烤面31,下烤盘04具有下煎烤面41,上烤盘03安装在上壳01上构成上机体,下烤盘04安装在下壳02上构成下机体,上机体和下机体通过轴05连接(参见图9、图10,具体连接时可以是上壳01与下壳02通过轴05连接,也可以是上烤盘03与下烤盘04通过轴05连接,还可以是上壳01、下壳02、上烤盘03、下烤盘04均通过轴05连接)并可绕轴旋转使得上烤盘03、下烤盘04可闭合在一起或者分开,闭合在一起时用以煎烤华夫饼,分开时用以加料或者取出煎烤好的华夫饼;上煎烤面31从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状;下煎烤面41从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状,下烤盘04上设有围绕下煎烤面的一圈下裙边42;上烤盘03、下烤盘04闭合在一起时隆起状的上煎烤面与坑状的下煎烤面相吻合且在二者之间保持有间隙。

使用时,将华夫粉倒在下烤盘上后,华夫粉会自动汇集在下烤盘的中央,且在闭合上烤盘的过程中,华夫粉能够被较为均匀地被挤向烤盘边缘,这样使华夫粉能均匀地分布于烤盘内。

具体的,上煎烤面从整体上表现为突出的锥面,该锥面表现为图3所示的角度α,该角度α接近于180°但小于180°,譬如175±2°;下煎烤面从整体上表现为凹陷的锥面,该锥面表现为图6所示的角度β,该角度β接近于180°但小于180°,譬如175±2°。

为了利于煎烤时内部气体顺利排出,上烤盘03上设有围绕上煎烤面31的一圈上裙边32,上裙边32上开设有缺口33,从而使华夫粉与烤盘能充分接触,使煎烤变得均匀,也使华夫饼变得更加酥脆;上烤盘、下烤盘闭合在一起时上裙边与下裙边对应。

上煎烤面31由上隔离壁34分割为至少两个子区域,下煎烤面41由下隔离壁43分割为至少两个子区域,上烤盘、下烤盘闭合在一起时上隔离壁与下隔离壁对应,上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有缺口。图示上煎烤面、下煎烤面上的隔离壁为“十”字状而将煎烤面分割成为4块扇形,具体实施时可以是按照放射状分布。

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1、(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201620067841.9 (22)申请日 2016.01.22 A21B 5/02(2006.01) A47J 37/06(2006.01) (73)专利权人 宁波凯波集团有限公司 地址 315324 浙江省宁波市慈溪市周巷镇环 城北路 156 号 (72)发明人 严杰波 (74)专利代理机构 浙江翔隆专利事务所 ( 普通 合伙 ) 33206 代理人 胡龙祥 (54) 实用新型名称 提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机 (57) 摘要 本实用新型公开了一种提高华夫机煎烤效果 的烤盘结构及华夫机, 属于烹饪电器, 现有华夫机 在闭合上。

2、烤盘时华夫粉受上烤盘的挤压向前流动 的较多而使得华夫粉在烤盘内分布不均匀, 本实 用新型将上煎烤面制为从整体上表现为从其周围 向其中部逐渐突出的隆起状、 将下煎烤面从整体 上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 将 华夫粉倒在下烤盘上后, 华夫粉会自动汇集在下 烤盘的中央, 且在闭合上烤盘的过程中, 华夫粉能 够被较为均匀地被挤向烤盘边缘, 这样使华夫粉 能均匀地分布于烤盘内。而且还在上烤盘的上裙 边上开设有缺口, 利于内部气体顺利排出, 从而使 华夫粉与烤盘能充分接触, 使煎烤变得均匀, 也使 华夫饼变得更加酥脆。 (51)Int.Cl. (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用。

3、新型专利 权利要求书1页 说明书3页 附图5页 CN 205337369 U 2016.06.29 CN 205337369 U 1.提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 包括可闭合在一起的上烤盘 (03) 、 下烤盘 (04) , 所 述上烤盘 (03) 具有上煎烤面 (31) , 所述下烤盘 (04) 具有下煎烤面 (41) , 其特征是: 所述上煎烤面 (31) 从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状; 所述下煎烤面 (41) 从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 所述下烤盘 (04) 上设有围绕所述下煎烤面 (41) 的一圈下裙边 (42) ; 所述的上烤盘 (03) 、 。

4、下烤盘 (04) 闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面 (31) 与所述坑状 的下煎烤面 (41) 相吻合且在二者之间保持有间隙 (06) 。 2.根据权利要求1所述的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 其特征是: 所述的上煎烤面 (31) 从整体上表现为突出的锥面; 所述的下煎烤面 (41) 从整体上表现为凹陷的锥面。 3.根据权利要求1所述的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 其特征是: 所述上烤盘 (03) 上设有围绕所述上煎烤面 (31) 的一圈上裙边 (32) , 所述的上裙边 (32) 上开设有缺口 (33) ; 所述的上烤盘 (03) 、 下烤盘 (04) 闭合在一起时所述的上裙边 (32)。

5、 与下裙边 (42) 对应。 4.根据权利要求3所述的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 其特征是: 所述的上煎烤面 (31) 由上隔离壁 (34) 分割为至少两个子区域, 所述的下煎烤面 (41) 由下隔离壁 (43) 分割为 至少两个子区域, 所述的上烤盘、 下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁 (34) 与下隔离壁 (43) 对应, 所述的上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有所述的缺口。 5.华夫机, 包括上壳 (01) 、 下壳 (02) 、 上烤盘 (03) 、 下烤盘 (04) , 所述上烤盘 (03) 具有上 煎烤面 (31) , 所述下烤盘 (04) 具有下煎烤面 (41) , 所述。

6、的上烤盘 (03) 安装在上壳 (01) 上构 成上机体, 所述的下烤盘 (04) 安装在下壳 (02) 上构成下机体, 所述的上机体和下机体通过 轴 (05) 连接并可绕轴旋转使得所述的上烤盘、 下烤盘可闭合在一起或者分开, 其特征是: 所述上煎烤面 (31) 从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状; 所述下煎烤面 (41) 从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 所述下烤盘 (04) 上设有围绕所述下煎烤面 (41) 的一圈下裙边 (42) ; 所述的上烤盘 (03) 、 下烤盘 (04) 闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面 (31) 与所述坑状 的下煎烤面 (41) 相吻合。

7、且在二者之间保持有间隙 (06) 。 6.根据权利要求5所述的华夫机, 其特征是: 所述的上煎烤面 (31) 从整体上表现为突出 的锥面; 所述的下煎烤面 (41) 从整体上表现为凹陷的锥面。 7.根据权利要求5所述的华夫机, 其特征是: 所述上烤盘 (03) 上设有围绕所述上煎烤面 (31) 的一圈上裙边 (32) , 所述的上裙边 (32) 上开设有缺口 (33) ; 所述的上烤盘 (03) 、 下烤盘 (04) 闭合在一起时所述的上裙边 (32) 与下裙边 (42) 对应。 8.根据权利要求7所述的华夫机, 其特征是: 所述的上煎烤面 (31) 由上隔离壁 (34) 分割 为至少两个子区。

8、域, 所述的下煎烤面 (41) 由下隔离壁 (43) 分割为至少两个子区域, 所述的 上烤盘、 下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁 (34) 与下隔离壁 (43) 对应, 所述的上裙边上 对应每个被分割的子区域均开设有所述的缺口。 权 利 要 求 书 1/1 页 2 CN 205337369 U 2 提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机 技术领域 0001 本实用新型属于烹饪电器, 具体是一种提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫 机。 背景技术 0002 在现有技术中, 所有的华夫烤盘都是平的, 而消费者放华夫粉时又不一定恰好放 在正中央, 即便是放在正中央, 在闭合上烤盘时, 因上、 下烤盘之间。

9、存在角度, 华夫粉受上烤 盘的挤压向前流动的较多, 这就使得华夫粉在烤盘内分布不均匀。 此外, 市场上的华夫烤盘 没有排气槽, 煎烤时产生的气体闷在华夫饼里面使得华夫粉和烤盘接触不均匀而影响煎烤 效果。 实用新型内容 0003 本实用新型要解决的技术问题和提出的技术任务是克服现有华夫机在闭合上烤 盘时华夫粉受上烤盘的挤压向前流动的较多而使得华夫粉在烤盘内分布不均匀的缺陷, 提 供一种提高华夫机煎烤效果的烤盘结构及华夫机。 0004 为达到上述目的, 本实用新型的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 包括可闭合在 一起的上烤盘、 下烤盘, 所述上烤盘具有上煎烤面, 所述下烤盘具有下煎烤面, 其特征是:。

10、 0005 所述上煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状; 0006 所述下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 所述下烤盘上 设有围绕所述下煎烤面的一圈下裙边; 0007 所述的上烤盘、 下烤盘闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面与所述坑状的下煎烤 面相吻合且在二者之间保持有间隙。 0008 作为提高华夫机煎烤效果的烤盘结构的优选技术手段: 所述的上煎烤面从整体上 表现为突出的锥面; 所述的下煎烤面从整体上表现为凹陷的锥面。 0009 作为提高华夫机煎烤效果的烤盘结构的优选技术手段: 所述上烤盘上设有围绕所 述上煎烤面的一圈上裙边, 所述的上裙边上开设有缺口; 所述。

11、的上烤盘、 下烤盘闭合在一起 时所述的上裙边与下裙边对应。 0010 作为提高华夫机煎烤效果的烤盘结构的优选技术手段: 所述的上煎烤面由上隔离 壁分割为至少两个子区域, 所述的下煎烤面由下隔离壁分割为至少两个子区域, 所述的上 烤盘、 下烤盘闭合在一起时所述的上隔离壁与下隔离壁对应, 所述的上裙边上对应每个被 分割的子区域均开设有所述的缺口。 0011 为达到上述目的, 本实用新型的华夫机, 包括上壳、 下壳、 上烤盘、 下烤盘, 所述上 烤盘具有上煎烤面, 所述下烤盘具有下煎烤面, 所述的上烤盘安装在上壳上构成上机体, 所 述的下烤盘安装在下壳上构成下机体, 所述的上机体和下机体通过轴连接并。

12、可绕轴旋转使 得所述的上烤盘、 下烤盘可闭合在一起或者分开, 其特征是: 0012 所述上煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状; 说 明 书 1/3 页 3 CN 205337369 U 3 0013 所述下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 所述下烤盘上 设有围绕所述下煎烤面的一圈下裙边; 0014 所述的上烤盘、 下烤盘闭合在一起时所述隆起状的上煎烤面与所述坑状的下煎烤 面相吻合且在二者之间保持有间隙。 0015 作为华夫机的优选技术手段: 所述的上煎烤面从整体上表现为突出的锥面; 所述 的下煎烤面从整体上表现为凹陷的锥面。 0016 作为华夫机的优选技术。

13、手段: 所述上烤盘上设有围绕所述上煎烤面的一圈上裙 边, 所述的上裙边上开设有缺口; 所述的上烤盘、 下烤盘闭合在一起时所述的上裙边与下裙 边对应。 0017 作为华夫机的优选技术手段: 所述的上煎烤面由上隔离壁分割为至少两个子区 域, 所述的下煎烤面由下隔离壁分割为至少两个子区域, 所述的上烤盘、 下烤盘闭合在一起 时所述的上隔离壁与下隔离壁对应, 所述的上裙边上对应每个被分割的子区域均开设有所 述的缺口。 0018 本实用新型通过将上煎烤面制为从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的 隆起状、 将下煎烤面从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 将华夫粉倒在下 烤盘上后, 华夫粉会自。

14、动汇集在下烤盘的中央, 且在闭合上烤盘的过程中, 华夫粉能够被较 为均匀地被挤向烤盘边缘, 这样使华夫粉能均匀地分布于烤盘内。 0019 本实用新型还在上烤盘的上裙边上开设有缺口, 利于内部气体顺利排出, 从而使 华夫粉与烤盘能充分接触, 使煎烤变得均匀, 也使华夫饼变得更加酥脆。 附图说明 0020 图1为本实用新型上烤盘的一个轴侧图; 0021 图2为本实用新型上烤盘的一个正投影示图; 0022 图3为图2的A-A向剖视图; 0023 图4为本实用新型下烤盘的一个轴侧图; 0024 图5为本实用新型下烤盘的一个正投影示图; 0025 图6为图5的B-B向剖视图; 0026 图7为图3所示上。

15、烤盘与图6所示下烤盘闭合在一起的示意图; 0027 图8为图7中的K部放大图; 0028 图9为图7所示的上烤盘、 下烤盘分别装配在上壳、 下壳上的示意图; 0029 图10为图1的上烤盘、 图4所示的下烤盘分别装配在上壳、 下壳上并处于分开状态 的示意图; 0030 图中标号说明: 0031 01-上壳; 0032 02-下壳; 0033 03-上烤盘: 31-上煎烤面, 32-上裙边, 33-缺口, 34-上隔离壁; 0034 04-下烤盘: 41-下煎烤面, 42-下裙边, 43-下隔离壁; 0035 05-轴; 0036 06-间隙。 说 明 书 2/3 页 4 CN 20533736。

16、9 U 4 具体实施方式 0037 以下结合说明书附图对本实用新型做进一步说明。 0038 如图1-3、 4-7、 7-8所示, 本实用新型的提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 包括可闭 合在一起 (参见图7-8、 9) 的上烤盘03、 下烤盘04, 上烤盘03具有上煎烤面31, 下烤盘04具有 下煎烤面41; 上煎烤面31从整体上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状 (参见图3) ; 下煎烤面41从整体上表现为从其周围向其中部逐渐低洼的坑状, 下烤盘04上设有围绕下煎 烤面41的一圈下裙边42, 防止倒入的华夫粉外溢; 上烤盘、 下烤盘闭合在一起时隆起状的上 煎烤面31与坑状的下煎烤面41相吻。

17、合且在二者之间保持有间隙06 (参见图7、 图8) , 该间隙 以均匀为宜以便煎烤出厚薄均匀的华夫饼。 0039 依据上述提高华夫机煎烤效果的烤盘结构, 本实用新型的华夫机如图9-10所示, 其包括上壳01、 下壳02、 上烤盘03、 下烤盘04, 上烤盘03具有上煎烤面31, 下烤盘04具有下煎 烤面41, 上烤盘03安装在上壳01上构成上机体, 下烤盘04安装在下壳02上构成下机体, 上机 体和下机体通过轴05连接 (参见图9、 图10, 具体连接时可以是上壳01与下壳02通过轴05连 接, 也可以是上烤盘03与下烤盘04通过轴05连接, 还可以是上壳01、 下壳02、 上烤盘03、 下烤。

18、 盘04均通过轴05连接) 并可绕轴旋转使得上烤盘03、 下烤盘04可闭合在一起或者分开, 闭合 在一起时用以煎烤华夫饼, 分开时用以加料或者取出煎烤好的华夫饼; 上煎烤面31从整体 上表现为从其周围向其中部逐渐突出的隆起状; 下煎烤面41从整体上表现为从其周围向其 中部逐渐低洼的坑状, 下烤盘04上设有围绕下煎烤面的一圈下裙边42; 上烤盘03、 下烤盘04 闭合在一起时隆起状的上煎烤面与坑状的下煎烤面相吻合且在二者之间保持有间隙。 0040 使用时, 将华夫粉倒在下烤盘上后, 华夫粉会自动汇集在下烤盘的中央, 且在闭合 上烤盘的过程中, 华夫粉能够被较为均匀地被挤向烤盘边缘, 这样使华夫粉。

19、能均匀地分布 于烤盘内。 0041 具体的, 上煎烤面从整体上表现为突出的锥面, 该锥面表现为图3所示的角度 , 该 角度 接近于180 但小于180 , 譬如1752 ; 下煎烤面从整体上表现为凹陷的锥面, 该锥面 表现为图6所示的角度 , 该角度 接近于180 但小于180 , 譬如1752 。 0042 为了利于煎烤时内部气体顺利排出, 上烤盘03上设有围绕上煎烤面31的一圈上裙 边32, 上裙边32上开设有缺口33, 从而使华夫粉与烤盘能充分接触, 使煎烤变得均匀, 也使 华夫饼变得更加酥脆; 上烤盘、 下烤盘闭合在一起时上裙边与下裙边对应。 0043 上煎烤面31由上隔离壁34分割为。

20、至少两个子区域, 下煎烤面41由下隔离壁43分割 为至少两个子区域, 上烤盘、 下烤盘闭合在一起时上隔离壁与下隔离壁对应, 上裙边上对应 每个被分割的子区域均开设有缺口。 图示上煎烤面、 下煎烤面上的隔离壁为 “十” 字状而将 煎烤面分割成为4块扇形, 具体实施时可以是按照放射状分布。 说 明 书 3/3 页 5 CN 205337369 U 5 图1 图2 说 明 书 附 图 1/5 页 6 CN 205337369 U 6 图3 图4 图5 说 明 书 附 图 2/5 页 7 CN 205337369 U 7 图6 图7 图8 说 明 书 附 图 3/5 页 8 CN 205337369 U 8 图9 说 明 书 附 图 4/5 页 9 CN 205337369 U 9 图10 说 明 书 附 图 5/5 页 10 CN 205337369 U 10 。

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