《新型结构的电容式触摸屏及其生产方法.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《新型结构的电容式触摸屏及其生产方法.pdf（6页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、10申请公布号CN104199584A43申请公布日20141210CN104199584A21申请号201410461771022申请日20140911G06F3/04420060171申请人苏州胜利精密制造科技股份有限公司地址215151江苏省苏州市高新区浒关工业园浒泾路55号72发明人何代永张兴国王立良74专利代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司32103代理人范晴54发明名称新型结构的电容式触摸屏及其生产方法57摘要本发明公开了一种新型结构的电容式触摸屏，包括玻璃基材，所述玻璃基材具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，所述玻璃基材的第二表面用真空溅镀的方式镀有SIO2消隐层，。
2、所述SIO2消隐层的外表面设有感应电极层，所述感应电极层是由镀在SIO2消隐层外表面的ITO层和金属导电层经过黄光蚀刻工艺形成的，所述感应电极层的非可视区喷涂形成有油墨层；本发明先镀膜再印刷油墨图案，克服了先印刷油墨图案再镀膜形成的段差问题，消除了段差造成的不良，提高了生产良率。51INTCL权利要求书1页说明书3页附图1页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书3页附图1页10申请公布号CN104199584ACN104199584A1/1页21一种新型结构的电容式触摸屏，包括玻璃基材（1），所述玻璃基材（1）具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，其特征在。
3、于所述玻璃基材（1）的第二表面用真空溅镀的方式镀有SIO2消隐层（2），所述SIO2消隐层（2）的外表面设有感应电极层（3），所述感应电极层（3）是由镀在SIO2消隐层（2）外表面的ITO层（31）和金属导电层（32）经过黄光蚀刻工艺形成的，所述感应电极层（3）的非可视区喷涂形成油墨层（4）。2根据权利要求1所述的一种新型结构的电容式触摸屏，其特征在于所述金属导电层（32）为金属铜或者有色金属。3一种用于生产权利要求1所述的新型结构的电容式触摸屏的方法，包括玻璃基材（1），所述玻璃基材（1）具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，其特征在于包括以下步骤1）所述玻璃基材（1）的第二表面用真。
4、空溅镀的方式镀有SIO2消隐层（2）；2）在所述SIO2消隐层（2）外表面上镀有ITO层（31）和金属导电层（32），将ITO层（31）和金属导电层（32）经过黄光蚀刻工艺形成感应电极层（3）；3）在所述感应电极层（3）的非可视区喷涂形成油墨层（4）。4根据权利要求3所述的一种用于生产新型结构的电容式触摸屏的方法，其特征在于所述金属导电层（32）为金属铜或者有色金属。权利要求书CN104199584A1/3页3新型结构的电容式触摸屏及其生产方法技术领域0001本发明涉及新型结构的电容式触摸屏及其生产方法。背景技术0002触摸屏作为一种人机友好交换的介质，目前广泛应用于各类电子产品中。例如手机、。
5、电脑、游戏机、工控、MP3等。0003电容式触摸屏结构复杂，生产工序较多，产出率较低。生产良率低是现阶段电容式触摸屏主要的瓶颈。电容式触摸屏结构主要有GF、GFF、GG、OGS。现阶段市面上中等尺寸以GF、GFF为主。GF相对于GFF薄一层，更备受消费者喜爱。GF结构电容式触摸屏分为两类。一类为驱动线路和感应线路都铺在FILM上。这种架构技术难度较高，国内还不是很盛行。另一类为感应线路铺在玻璃盖板上，驱动线路铺在FILM上。0004目前盖板上铺感应线路良率低是影响该架构大量量产的主要因素。盖板非可视区上先铺一层黑色油墨，在经过镀ITO、镀铜、黄光蚀刻把线路做出来。不良的主要原因是黑框区与可视区。
6、交界处存在大约6UM到15UM的段差，断线的几率很高。发明内容0005本发明目的是提供一种解决段差问题、提高生产良率的新型结构的电容式触摸屏。0006本发明的技术方案是一种新型结构的电容式触摸屏，包括玻璃基材，所述玻璃基材具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，所述玻璃基材的第二表面用真空溅镀的方式镀有SIO2消隐层，所述SIO2消隐层的外表面设有感应电极层，所述感应电极层是由镀在SIO2消隐层外表面的ITO层和金属导电层经过黄光蚀刻工艺形成的，所述感应电极层的非可视区喷涂形成油墨层。0007上述“感应电极层3的非可视区喷涂形成油墨层4”的含义为由于感应电极层是由镀在SIO2消隐层外表面。
7、的ITO层和金属导电层经过黄光蚀刻工艺形成的，因此感应电极层具有凸设结构和位于凸设结构之间的镂空部分，所述凸设结构为非可视区，所述镂空部分为可视区，所述可视区内由于蚀刻形成有多个感应电极，本发明仅在其凸设结构的外表面喷涂形成油墨层。0008上述SIO2消隐层起着打底和消隐的作用，打底是提升后续镀ITO的附着力，消隐是消除ITO的蚀刻痕迹。0009优选的，所述金属导电层为金属铜或者有色金属。更优选的，所述金属导电层为金属铜。0010本发明的又一技术方案是一种用于生产新型结构的电容式触摸屏的方法，包括玻璃基材，所述玻璃基材具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，包括以下步骤1）所述玻璃基材的。
8、第二表面用真空溅镀的方式镀有SIO2消隐层；说明书CN104199584A2/3页42）在所述SIO2消隐层外表面上镀有ITO层和金属导电层，将ITO层和金属导电层经过黄光蚀刻工艺形成感应电极层；3）在所述感应电极层的非可视区喷涂形成油墨层。0011由于感应电极层是由镀在SIO2消隐层外表面的ITO层和金属导电层经过黄光蚀刻工艺形成的，因此感应电极层具有凸设结构和位于凸设结构之间的镂空部分，所述凸设结构为非可视区，所述镂空部分为可视区，本发明仅在其凸设结构的外表面喷涂形成油墨层。0012上述SIO2消隐层起着打底和消隐的作用，打底是提升后续镀ITO的附着力，消隐是消除ITO的蚀刻痕迹。0013。
9、优选的，所述金属导电层为金属铜或者有色金属。更优选的，所述金属导电层为金属铜。0014本发明的优点是1、本发明先镀膜再印刷油墨图案，克服了先印刷油墨图案再镀膜形成的段差问题，消除了段差造成的不良，提高了生产良率。0015、本发明镀的金属可以经过工艺处理，呈现不同的颜色，油墨图案采用与金属颜色一样的油墨，这样产品外观就呈现出不同的颜色，可以满足不同的客户。0016、本发明中的SIO2消隐层起着打底和消隐的作用，打底是提升后续镀ITO的附着力，消隐是消除ITO的蚀刻痕迹。附图说明0017下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述图1为本发明的简易示意图。0018其中1玻璃基材；2SIO2消隐层；3感。
10、应电极层；31ITO层；32金属导电层；4油墨层。具体实施方式0019实施例如图1所示，一种新型结构的电容式触摸屏，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，所述玻璃基材1的第二表面用真空溅镀的方式镀有SIO2消隐层2，所述SIO2消隐层2的外表面设有感应电极层3，所述感应电极层3是由镀在SIO2消隐层2外表面的ITO层31和金属导电层32经过黄光蚀刻工艺形成的，所述感应电极层3的非可视区喷涂形成油墨层4。0020上述“感应电极层3的非可视区喷涂形成油墨层4”的含义为由于感应电极层3是由镀在SIO2消隐层2外表面的ITO层31和金属导电层32经过黄光蚀刻工艺形。
11、成的，因此感应电极层3具有凸设结构和位于凸设结构之间的镂空部分，所述凸设结构为非可视区A，所述镂空部分为可视区B，所述可视区B内由于蚀刻形成有多个感应电极6，本发明仅在其凸设结构（非可视区A）的外表面喷涂形成油墨层。0021本实施例中，所述金属导电层32优选为金属铜，厚度为15UM。0022一种用于生产新型结构的电容式触摸屏的方法，包括玻璃基材1，所述玻璃基材1具有第一表面以及与第一表面相对设置的第二表面，包括以下步骤说明书CN104199584A3/3页51）所述玻璃基材1的第二表面用真空溅镀的方式镀有SIO2消隐层2；2）在所述SIO2消隐层2外表面上镀有ITO层31和金属导电层32，将I。
12、TO层31和金属导电层32经过黄光蚀刻工艺形成感应电极层3；3）在所述感应电极层3的非可视区喷涂形成油墨层4。0023上述“感应电极层3的非可视区喷涂形成油墨层4”的含义为由于感应电极层3是由镀在SIO2消隐层2外表面的ITO层31和金属导电层32经过黄光蚀刻工艺形成的，因此感应电极层3具有凸设结构和位于凸设结构之间的镂空部分，所述凸设结构为非可视区A，所述镂空部分为可视区B，所述可视区B内由于蚀刻形成有多个感应电极6，本发明仅在其凸设结构（非可视区A）的外表面喷涂形成油墨层。0024本实施例中，所述金属导电层32优选为金属铜，厚度为15UM。0025本发明中的SIO2消隐层2起着打底和消隐的作用，打底是提升后续镀ITO的附着力，消隐是消除ITO的蚀刻痕迹。0026本发明先镀膜再印刷油墨图案，克服了先印刷油墨图案再镀膜形成的段差问题，消除了段差造成的不良，提高了生产良率。0027本发明镀的金属可以经过工艺处理，呈现不同的颜色，油墨图案采用与金属颜色一样的油墨，这样产品外观就呈现出不同的颜色，可以满足不同的客户。0028以上仅是本发明的具体应用范例，对本发明的保护范围不构成任何限制。除上述实施例外，本发明还可以有其它实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明所要求保护的范围之内。说明书CN104199584A1/1页6图1说明书附图CN104199584A。