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1、10申请公布号CN104102093A43申请公布日20141015CN104102093A21申请号201410118166322申请日20140327201307645920130401JPG03F7/2020060171申请人佳能株式会社地址日本东京72发明人神谷重雄74专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人柳爱国54发明名称保持器、光刻装置以及制造物品的方法57摘要本发明提供了一种用于保持基质的保持器，该保持器包括基部，该基部将由台板接收；该基部包括第一表面，该第一表面布置成接收要由保持器保持的基质；以第二表面，该第二表面与第一表面相反地布置；第一支撑件，该第。
2、一支撑件提供于第二表面上、布置成包围形成于基部中的通孔并且构造成接触台板；第二支撑件，该第二支撑件提供于第二表面上并且布置成包围第一支撑件并接触台板；以及多个第一销，这些第一销提供于第二表面的、在第二支撑件与基部的外边缘之间的区域中，并且布置成接触台板。本发明还提供了一种光刻装置和一种制造物品的方法。30优先权数据51INTCL权利要求书2页说明书4页附图3页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书4页附图3页10申请公布号CN104102093ACN104102093A1/2页21一种用于保持基质的保持器，该保持器包括基部，该基部将由台板接收；该基部包括第一表面，。
3、该第一表面布置成接收要由保持器保持的基质；以第二表面，该第二表面与第一表面相反地布置；第一支撑件，该第一支撑件提供于第二表面上、布置成包围形成于基部中的通孔并且构造成接触台板；第二支撑件，该第二支撑件提供于第二表面上并且布置成包围第一支撑件并接触台板；以及多个第一销，这些第一销提供于第二表面的、在第二支撑件与基部的外边缘之间的区域中，并且布置成接触台板。2根据权利要求1所述的保持器，还包括保持部分，该保持部分提供于第一表面上，并且布置成密封第一表面与要由保持器保持的基质之间的空间；其中，保持部分布置成与第二支撑件至少部分地重叠。3根据权利要求2所述的保持器，其中保持部分布置成使得该保持部分与第。
4、二支撑件整体重叠。4根据权利要求2或3所述的保持器，还包括多个第二销，这些第二销提供于第一表面的、在所述保持部分与基部的外边缘之间的区域中，并布置成接触要保持的基质；所述多个第二销均布置成至少部分地与第二表面上的多个第一销中的相应一个重叠。5根据权利要求4所述的保持器，其中所述多个第二销均布置成与所述多个第一销中的相应一个整体重叠。6根据权利要求1所述的保持器，还包括保持部分，该保持部分在第一表面上，并布置成密封第一表面与要保持的基质之间的空间；其中，保持部分提供于第一表面的、在基部的外边缘与第一表面的在第二支撑件上方的区域之间的区域中。7根据权利要求6所述的保持器，其中保持部分是提供于第一表。
5、面上并且布置成与要保持的基质接触的所有部分当中的最外侧部分。8一种光刻装置，用于在基质上形成图形，该光刻装置包括如权利要求1中所述的保持器，以保持基质。9根据权利要求8所述的装置，还包括投影光学系统，其中，通过由投影光学系统使基质暴露于辐射束，从而在要保持的基质上形成图形。10一种制造物品的方法，该方法包括使用光刻装置在基质上形成图形；以及处理其上已形成有图形的基质，以制造所述物品，其中，光刻装置包括构造成保持基质的保持器，该保持器包括基部，该基部将由台板接收；该基部包括第一表面，该第一表面布置成接收要由保持器保持的基质；以第二表面，该第二表面与第一表面相反地布置；第一支撑件，该第一支撑件提供。
6、于第二表面上、布置成包围形成于基部中的通孔并且权利要求书CN104102093A2/2页3构造成接触台板；第二支撑件，该第二支撑件提供于第二表面上并且布置成包围第一支撑件并接触台板；以及多个第一销，这些第一销提供于第二表面的、在第二支撑件与基部的外边缘之间的区域中，并且布置成接触台板。权利要求书CN104102093A1/4页4保持器、光刻装置以及制造物品的方法技术领域0001本发明涉及一种保持器、一种光刻装置以及一种制造物品的方法。背景技术0002随着半导体设备朝着更高的密度和微粉化程度的发展，用于制造它们的曝光装置已经提升了投影光学系统的数值孔径（NA）。随着投影光学系统的NA提升，曝光装。
7、置的分辨能力提高，但是焦距的有效深度降低。因此，曝光装置需要保持具有高平直度的基质，日本专利申请公开NO2004140071提出了一种相关技术。0003另外，为了获得较高生产率，曝光装置的处理量提高，例如，需要具有提高加速度的、用于保持基质的平台。实现平台的高加速度的一种方法是降低平台的重量，并且试图减小夹紧和保持基质的保持器（夹具）的重量。0004不过，随着使保持器变得更薄以降低平台的重量，保持器自身的刚性降低。因此，保持器自身的挠曲影响基质的平面校正性能。发明内容0005本发明例如提供了一种保持器，该保持器提高了由它保持的基质的平直度。0006根据本发明的第一方面，提供了一种用于保持基质的。
8、保持器，该保持器包括基部，该基部将由台板接收，该基部包括第一表面，该第一表面布置成接收要由保持器保持的基质；以第二表面，该第二表面与第一表面相反地布置；第一支撑件，该第一支撑件提供于第二表面上、布置成包围形成于基部中的通孔并且构造成接触台板；第二支撑件，该第二支撑件提供于第二表面上并且布置成包围第一支撑件并接触台板；以及多个第一销，这些第一销提供于第二表面的、在第二支撑件与基部的外边缘之间的区域中，并且布置成接触台板。0007根据本发明的第二方面，提供了一种光刻装置，用于在基质上形成图形，该光刻装置包括上述保持器，以便保持基质。0008根据本发明的第三方面，提供了一种制造物品的方法，该方法包括。
9、使用光刻装置在基质上形成图形；以及处理其上已形成有图形的基质，以制造所述物品，其中，光刻装置包括构造成保持基质的保持器，该保持器包括基部，该基部将由台板接收，该基部包括第一表面，该第一表面布置成接收要由保持器保持的基质；以第二表面，该第二表面与第一表面相反地布置；第一支撑件，该第一支撑件提供于第二表面上、布置成包围形成于基部中的通孔并且构造成接触台板；第二支撑件，该第二支撑件提供于第二表面上并且布置成包围第一支撑件并接触台板；以及多个第一销，这些第一销提供于第二表面的、在第二支撑件与基部的外边缘之间的区域中，并且布置成接触台板。0009通过下面参考附图对实施例的说明，将清楚本发明的其它方面。下。
10、面所述的本发明各实施例能够单独地实施，或者在需要时或者当来自各个实施例的元件或特征组合在单个实施例中很有利时以多个实施例或者其特征的组合的方式实施。说明书CN104102093A2/4页5附图说明0010图1是示出根据本发明一个方面的光刻装置的布置的示意图。0011图2是示出根据第一实施例的基质平台的布置的剖视图。0012图3是示出根据第一实施例的基质平台的布置的平面图。0013图4是示出根据第二实施例的基质平台的布置的剖视图。0014图5是示出根据第二实施例的基质平台的布置的平面图。具体实施方式0015下面将参考附图介绍本发明的优选实施例。应当知道，在全部附图中，相同参考标号表示相同部件，并。
11、将不会进行重复说明。0016图1是示出根据本发明一个方面的光刻装置1的布置的示意图。光刻装置1是在基质上形成（转印）图形的装置。在本实施例中，光刻装置1被实施为曝光装置，该曝光装置经由投影光学系统而使得基质曝光，并在基质上形成图形。不过，光刻装置1并不局限于曝光装置。例如，光刻装置1可以是绘图装置，它使用带电粒子束（例如电子束或离子束）经由带电粒子光学系统而在基质上绘图和形成图形。光刻装置1可以是压印装置，它使用模具模制基质上的压印材料（例如树脂），并在基质上形成图形。0017如图1中所示，光刻装置1包括照明光学系统102、保持标线片104的标线片平台（未示出）、投影光学系统106和保持基质1。
12、08的基质平台110。0018在光刻装置1中，来自光源（未示出）的光经由照明光学系统102而照射保持在标线片平台上的标线片104。已经经过标线片104的光经由投影光学系统106而照射基质108（也就是，标线片104的图形的图像形成于基质108上）。基质平台110是保持装置，它能够在保持基质108的同时运动，并包括保持器（夹具）112和平台板114，保持器112布置在该平台板114上。下面将在各个实施例中介绍基质平台110的详细结构。00190020图2和3是示出根据本发明第一实施例的基质平台110的布置的视图。图2是基质平台110的剖视图，图3是基质平台110的保持器112的第二表面的平面图。。
13、0021保持器112包括基部202，该基部202由具有高热导率的材料，例如SIC陶瓷来制造，并且基部202包括在基质侧的第一表面（前表面）202A和在与第一表面相反侧的第二表面（后表面）202B。基部202具有一个或更多个基质真空孔302作为穿过基部202延伸的通孔。平台板114具有与基质真空孔302连通的基质真空孔，其与真空源（未示出）连接。平台板114还具有构造成夹紧保持器112的保持器真空孔，该保持器真空孔与真空源（未示出）连接。0022为了将基质108输送至保持器112或者从保持器112收集基质108，需要用于传递基质108的升降销（夹紧基质108并相对于平台板114上下运动的销）。因。
14、此，直径大于升降销直径的升降销孔304在基部202中形成为穿过该基部202延伸的通孔。0023通过周边来包围升降销孔304的（多个）周向第一保持部分（未示出）和包围该第一保持部分的周向第二保持部分204形成于基部202的第一表面202A上以便夹紧（保持）基质108。第二保持部分204密封基质108与基部202的第一表面202A之间的空间。第一说明书CN104102093A3/4页6保持部分和第二保持部分204接触基质108，并限定了保持基质108的基质保持平面。第二保持部分204形成于第一表面202A的、在基部202的外边缘与投影区域（在该投影区域中，形成于基部202的第二表面202B上的第二。
15、支撑部分208投影至基部202的第一表面202A上）之间的区域中。换句话说，第二保持部分204形成于基部202的外边缘与第一表面202A的、在第二支撑部分208上方的区域之间。在本实施例中，第二保持部分204是在形成于基部202的第一表面202A上并与基质108接触的部件当中的、形成在最外侧位置处的部件。另外，第二保持部分204形成为直径比基质108的直径小。接触基质108的多个销（销形凸起）206形成于第一表面202A的、由第二保持部分204包围的区域中，更具体地说，在第一表面202A的、在第二保持部分204和第一保持部分之间的区域中。所述多个销206还与第一保持部分和第二保持部分204一起。
16、限定了保持基质108的基质保持平面。第一保持部分、第二保持部分204和销206因此限定了基质保持平面。这使得能够在真空夹紧基质108时保持基质108，同时保持高的平直度。0024通过周边来包围升降销孔304的周向支撑部分306和通过周边来包围基质真空孔302的周向支撑部分308形成于基部202的第二表面202B上，以便夹紧（保持）基质108。支撑部分306和308构成通过周边来包围穿过基部202延伸的通孔的第一支撑部分。周向第二支撑部分208也以包围作为第一支撑部分的支撑部分306和308的方式形成于基部202的第二表面202B上。支撑部分306和308以及第二支撑部分208接触平台板114。。
17、接触平台板114的多个销（销形凸起）210形成于第二表面202B的、由第二支撑部分208包围的区域中，更具体地，形成在第二表面202B的、在第二支撑部分208与支撑部分306、308（第一支撑部分）之间的区域中。因此支撑部分306和308以及第二支撑部分208接触平台板114。这使得能够在真空夹紧基质108或保持器112时维持保持器112的高平直度。0025另外，接触平台板114的多个第二表面侧销212形成于第二支撑部分208的外侧，也就是形成在第二表面202B的、在基部202的外边缘与第二支撑部分208之间的区域中。这能够抑制由于保持器112的外边缘（外周边）的重量而引起的挠曲（这种挠曲在将。
18、保持器112制成更薄时更明显），并减少保持器112的变形。因此，即使当将保持器112制成更薄时，也能够抑制保持器112的平直度（基质108的平面校正性能）的降低。因此能够保持基质108，同时维持高平直度。00260027图4和5是示出根据本发明第二实施例的基质平台110的布置的视图。图4是基质平台110的剖视图，图5是基质平台110的保持器112的第二表面的平面图。0028在本实施例的保持器112中，除了在第一实施例中所述的特征之外，接触基质108的多个第一表面侧销214形成于第二保持部分204的外侧，也就是形成在第一表面202A的、在第二保持部分204与基部202的外边缘之间的区域中。002。
19、9另外，在本实施例中，第二保持部分204与第二支撑部分208从基部202的第二表面侧向第一表面侧投影的投影区域重叠。换句话说，第二保持部分204以至少部分地重叠在第二支撑部分208上的方式形成。特别是，在图4中，第二保持部分204以处在第二支撑部分208的范围内（并不离开第二支撑部分208）的方式形成。因此，第二保持部分204的宽度小于第二支撑部分208的宽度。0030在本实施例中，第一表面侧销214与第二表面侧销212从基部202的第二表面侧说明书CN104102093A4/4页7向第一表面侧投影的投影区域重叠。换句话说，第一表面侧销214均以至少部分地重叠在相应一个第二表面侧销212上的方。
20、式形成。特别是，在图4中，各第一表面侧销214以处在相应一个第二表面侧销212的范围内（并不离开第二表面侧的销212）的方式形成。因此，第一表面侧销214的宽度小于第二表面侧销212的宽度。0031通过这种布置，在本实施例中，与第一实施例相比，第二支撑部分208能够在更外侧形成于基部202的第二表面202B上。因此能够抑制由于将保持器112制成更薄而引起的、保持器112的外边缘部分的挠曲，并进一步减少保持器112的变形。0032如上所述，在本实施例中，形成于第二支撑部分208外侧的第二表面侧销212接触平台板114，另外，接触基质108的第一表面侧销214形成为与第二表面侧销212同轴。这能够。
21、校正保持器112由于挠曲（该挠曲由保持器112的外边缘的重量引起并且在将保持器112制成更薄时更明显）而产生的变形、由于基质108的外边缘部分的重量引起的挠曲以及基质108的外周边的下垂。因此能够保持基质108，同时维持高平直度。0033在第一和第二实施例中，第二表面侧销212和第一表面侧销214能够有多种形状和形式。例如，第二表面侧销212和第一表面侧销214能够具有圆形、正方形、矩形、三角形或椭圆形形状，或者锥形或柱形形式。0034如上所述，即使当将保持器112制成更薄时，光刻装置1也能够抑制由于保持器112的重量引起的挠曲，并防止基质保持性能和平面校正性能降低。因此，能够同时实现高生产率。
22、和套刻性能的改进。因此，光刻装置1能够以较高生产率经济地提供物品，例如高质量器件。0035根据本发明实施例的、制造物品的方法适用于制造物品例如微器件，例如具有精细结构的半导体器件或元件。这种制造方法包括使用光刻装置1而在基质（该基质具有施加于其上的光致抗蚀剂）上形成图形的步骤以及处理（例如显影）其上已形成有图形的基质的步骤。在形成步骤之后，制造方法能够包括其它已知处理（例如氧化、沉积、气相沉积、掺杂、平面化、蚀刻、抗蚀剂剥离、切成小块、粘接和封装）。与常规方法相比，根据本实施例的制造物品的方法在物品的性能、质量、生产率和制造成本中的至少一个方面有利。0036应当知道，本发明不仅可用于光刻装置，而且可用于包括保持器和平台板的其它装置（例如测量装置）。0037尽管已经参考示例性实施例介绍了本发明，但是应当知道，本发明并不局限于所述示例性实施例。下面的权利要求的范围将根据最广义的解释，以便包含所有这些变化形式以及等效结构和功能。说明书CN104102093A1/3页8图1说明书附图CN104102093A2/3页9图2图3说明书附图CN104102093A3/3页10图4图5说明书附图CN104102093A10。