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1、10申请公布号CN104142611A43申请公布日20141112CN104142611A21申请号201410340364422申请日20140716G03F1/2620120171申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人北京京东方显示技术有限公司72发明人张思凯74专利代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司11291代理人黄志华54发明名称一种掩模板57摘要本发明涉及到显示装置制造的技术领域，公开了一种掩模板。该掩模板包括透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置一一对。
2、应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。在上述技术方案中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙上，使得更多的光线能够照射到被曝光的基板上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。51INTCL权利要求书1页说明书4页附图2页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书4页附图2页10申请公布号CN104142611ACN104142611A1/1页21一种掩模板，其特征在于，包括透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设置有与所述遮光条设置位置一一对应且将照射到遮光条上的。
3、光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。2如权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述透明基板上背离所述遮光条的一表面上设置有与所述遮光条设置位置一一对应的凹槽，所述凹槽与所述透明基板形成所述透镜结构。3如权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽为弧形凹槽，且所述弧形凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同。4如权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的宽度不大于所述遮光条的宽度。5如权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽的宽度等于所述遮光条的宽度。6如权利要求5所述的掩模板，其特征在于，所述弧形凹槽为圆弧形凹槽。7如权利要求6所述的掩模板，其特征在于，所述圆弧形凹槽的圆。
4、弧角满足以下关系其中，为圆弧角，1圆弧端部的入射光线的折射角，L3为遮光条与被曝光的基板上需要保留的金属条的重叠宽度，D为透明基板与被曝光的基板之间的间距。8如权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽为V型凹槽，且所述V型凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同。9如权利要求18任一项所述的掩模板，其特征在于，所述遮光条为铬条。权利要求书CN104142611A1/4页3一种掩模板技术领域0001本发明涉及到显示装置制造的技术领域，尤其涉及到一种掩模板。背景技术0002如图1所示，目前掩模板主要是由石英玻璃1和一层有着特定图形设计的铬层2组成，假定铬层2的图形宽度为L2，铬层2之间的间隙宽。
5、度为L1。曝光时，曝光灯光线先从掩模板无铬的那一侧进入，到达有铬的那一侧时，对应L2宽度的光线被铬层2图形挡住从而不能透过，其余光线从L1宽度的间隙中透过，到达涂有光刻胶的玻璃基板3后形成图案。0003由于L1狭缝对曝光光线的衍射作用，最终在玻璃基板3形成的图案宽度要比L1大2L3。0004以上可以看出，正常的掩模板的设计对于曝光灯能量的利用率为在L1减小，L2增大的情况下，光利用率会大幅下降。发明内容0005本发明提供了一种掩模板，用以提高光线的利用率。0006本发明提供了一种掩模板，该掩模板包括透明基板，多个间隔设置在所述透明基板一个表面上的遮光条，且所述透明基板上背离所述遮光条的一表面设。
6、置有与所述遮光条设置位置一一对应且将照射到遮光条上的光线折射到相邻的遮光条之间间隙的透镜结构。0007在上述技术方案中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙上，使得更多的光线能够照射到被曝光的基板上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。0008优选的，所述透明基板上背离所述遮光条的一表面上设置有与所述遮光条设置位置一一对应的凹槽，所述凹槽与所述透明基板形成所述透镜结构。通过凹槽与透明基板形成的透镜结构使光线发生折射。0009优选的，所述凹槽为弧形凹槽，且所述弧形凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同。通过不同结构的凹槽形成入射面。0010优选的，所述弧形凹槽的宽度不。
7、大于所述遮光条的宽度。从而使得形成的透镜结构不影响原来照射到遮光条之间间隙的光线。0011优选的，所述弧形凹槽的宽度等于所述遮光条的宽度。使得更多的照射到遮光条上的光线折射到遮光条之间的间隙。0012优选的，所述弧形凹槽为圆弧形凹槽。采用圆弧面作为入射面。0013优选的，所述圆弧形凹槽的圆弧角满足以下关系0014其中，为圆弧角，1圆弧端部的入射光线的折射角，L3为遮光条与被曝光的基板上需要保留的金属条的重叠宽度，D为透明基板与被曝光的基板之间说明书CN104142611A2/4页4的间距。使得被曝光的基板上形成的图案与使用现有技术的遮光板形成的图案相同。0015优选的，所述凹槽为横截面为V型凹。
8、槽，且所述凹槽的长度方向与所述遮光条的长度方向相同。采用V型凹槽的侧壁作为入射面。0016优选的，所述遮光条为铬条。具有良好的遮光效果。附图说明0017图1为现有技术中的掩模板的使用状态参考图；0018图2为本发明实施例提供的掩模板的使用状态参考图；0019图3为本发明实施例提供的另一掩模板的使用状态参考图。0020附图标记00211石英玻璃2铬层3玻璃基板002210透明基板11遮光条12凹槽0023121弧形凹槽122V型凹槽20被曝光的基板具体实施方式0024为了提高曝光光线的利用率，本发明提供了一种掩模板，在本发明实施例的技术方案中，通过采用在透明基板上增设透镜结构将原来照射到遮光条上。
9、的光线折射到遮光条之间的间隙上，从而使其能够照射到被曝光的基板，提高了光线的利用率。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下以非限制性的实施例为例对本发明作进一步详细说明。0025如图2所示，图2示出了本发明实施例提供的掩模板的结构。0026本发明实施例提供了一种掩模板，该掩模板包括透明基板10，多个间隔设置在透明基板10一个表面上的遮光条11，且透明基板10上背离遮光条11的一表面设置有与遮光条11设置位置一一对应且将照射到遮光条11上的光线折射到相邻的遮光条11之间间隙的透镜结构。0027在上述实施例中，通过采用透镜结构将原来照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间的间隙上，使得。
10、更多的光线能够照射到被曝光的基板20上，提高了光线的利用率。具体的，在光线照射到透镜结构上时，光线在入射面上发生折射，改变光线的传播路径，由于透明基板10的折射率大于空气的折射率，因此，当光线照射到入射面上时，入射角大于折射角，光线发生折射，使得原来照射到遮光条11上的光线能够更多的折射到遮光条11之间的间隙上，参与曝光，从而提高了光线的利用率。另外，当参与曝光的光线能量增加时，为保证和目前掩模板曝光时相同的曝光量，本实施例提供的掩模板就可以通过以下手段来实现1保证相同曝光时间的情况下，降低曝光灯的照度。这样做的优点是可以延长曝光灯的使用寿命。2保证曝光灯照度的情况下，减少曝光时间。这样做的优。
11、点是能够减少曝光时间，使得产线能够在相同时间内生产更多的产品，提高产能。0028其中的遮光条11为铬条。具有良好的遮光效果。0029具体的，设置在透明基板10上的透镜结构可以选用不同的结构来实现对光线的折射效果。较佳的，透明基板10上背离所述遮光条11的一表面设置有与所述遮光条11设置位置一一对应的凹槽12，所述凹槽12与所述透明基板10形成所述透镜结构。其中的凹槽12可以为不同形状的凹槽，下面结合具体实施例对其结构进行详细说明。说明书CN104142611A3/4页50030实施例10031继续参考图2，凹槽12为弧形凹槽121，且弧形凹槽121的长度方向与遮光条11的长度方向相同。0032。
12、具体的，平行的光线在照射到弧形凹槽121的侧壁上时，由于光线在弧形面上的入射角小于九十度，因此，光线在弧形面上发生折射，使得原来照射到遮光条11上的光线能够折射到遮光条11之间的间隙内，从而参与曝光，提高光线的利用率。0033此外，为了避免形成的弧形凹槽121影响原来照射到遮光条11之间间隙的光线，较佳的，弧形凹槽121的宽度不大于遮光条11的宽度，从而使得照射到遮光条11之间间隙内的光线增多，进而提高光线的利用率，更佳的，弧形凹槽121的宽度等于遮光条11的宽度。使得更多的照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间的间隙内，提高光线的利用率。0034其中弧形凹槽121可以为圆弧形凹槽、椭圆。
13、弧形凹槽或其他任意能够将照射到遮光条11上的光线折射到相邻的遮光条11之间间隙的弧形凹槽。0035较佳的，弧形凹槽121为圆弧形凹槽，并且圆弧形凹槽的圆弧角满足以下关系0036其中，为圆弧角，1圆弧端部的入射光线的折射角，L3为遮光条11与被曝光的基板20上需要保留的金属条的重叠宽度，D为透明基板10与被曝光的基板20之间的间距。0037具体的，如图2所示，当光线从空气进入凹面弧形区域时，由于空气的折射率为1，透明基板10较佳的采用石英玻璃制作的透明基板折射率为N1，光线会在凹面处发生折射现象，其中以A1和B1处入射的光线折射偏转角度最大。以A1处入射光线为例，假设出射角为1，那么与1满足以下。
14、关系0038把A1和B1处的出射光线反向延长，两条线的交点即为该凹面弧形区域的焦点F。焦点F与遮光条11两端进行连接形成的两条线与线A1B1线相交于A2和B2点。设定A1A2以及B1B2区域的宽度均为W，当入射光线落在这两个区域的时候，可以保证光线经过折射后最终不被遮光条11遮挡住。设定掩模板使用的透明基板10的厚度为D，那么W的大小如下式所示00390040此时，曝光光线能量的利用率为00410042从上式可以看出，本实施例提供的掩模板的光能利用率可以通过，D以及说明书CN104142611A4/4页6L2的大小来进行调整，但不管如何调整，利用率相比于现有技术中的掩模板设计提高了0043此外。
15、，由于折射作用，凹面出射的光线变为斜线，为保证最终玻璃基板上图案的L3与现有技术中正常的掩模板形成的图案一样，需要对凹面的弧度角进行限定。假设曝光时掩模板的遮光条11距离被曝光的基板20上表面的距离为D。角需要满足的条件如下式所示从而保证了曝光形成的图案与现有技术中的掩模板形成的图案相同。0044实施例20045如图3所示，图3示出了另外一种的凹槽结构。该凹槽12为V型凹槽122，且V型凹槽122的长度方向与遮光条11的长度方向相同。0046具体的，平行的光线在照射到V型凹槽122的V型侧壁上时，由于光线在侧壁上的入射角小于九十度，因此，光线在弧形面上发生折射，使得原来照射到遮光条11上的光线。
16、能够折射到遮光条11之间的间隙内，从而参与曝光，提高光线的利用率。0047通过上述描述可以看出，本实施例提供的透镜结构可以采用不同的形状的凹槽形成透镜结构，只需满足能够将照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间的间隙即可，应当理解的是，本实施例提供的透镜结构不仅限于上述具体实施例1和实施2列举的形状，其他任意可实现改变光线传播路径，将照射到遮光条11上的光线折射到遮光条11之间间隙的光线均可，如凹槽的横截面为具有四条线段的折线、具有五条线段的折线等任意形状的凹槽。0048显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。说明书CN104142611A1/2页7图1图2说明书附图CN104142611A2/2页8图3说明书附图CN104142611A。