配线基板技术领域
本发明涉及配线基板，例如涉及能够防止静电放电对电连接的电子电路(集成电
路等)的损伤且适合在例如触摸屏面板等中使用的配线基板。
背景技术
近来，在液晶显示面板等中，其制造过程中的静电所引起的带电破坏成为问题，
为了解决该问题，提出了日本特开平05-216062号公报以及日本特开平05-198806号
公报等所述的技术。
另一方面，提出了在触摸屏面板等的位置输入装置中减小从透明电极到IC电路
的配线部的电阻的结构(参照日本特开2012-043298号公报)、和降低多个配线之间
的各电阻值之差来减小配线之间的RC时间常数之差的结构(参照日本特开
2010-140041号公报)。
发明内容
另外，触摸屏面板具有：形成有用于检测触摸位置的多个电极的配线基板；和与
配线基板电连接的控制电路(集成电路等的电子部件)。并且，经由在配线基板的周
边部形成的多个端子配线，使多个电极与控制电路电连接。
并且，在配线基板的周边部、特别是在多个端子配线部的形成部分的外侧，形成
有被保持为固定电位(例如，接地电位)的屏蔽配线。这是为了抑制静电放电所引起
的噪声电流流入控制电路或电极部，即为了应对静电放电噪声。
在触摸屏面板中，作为静电放电噪声对策，在端子配线部的外侧加入屏蔽配线。
但是，随着近年来的画面尺寸的大型化，特别是无法通过屏蔽配线来抑制由在画面中
央部产生的静电放电所引起的噪声电流流入控制电路。
因此，考虑通过日本特开平05-216062号公报或日本特开平05-198806号公报所
述的方法来应对触摸屏面板的静电放电噪声。但是，针对液晶显示面板的静电破坏防
止对策是用于防止静电放电从端子配线的外部对形成在面板内的TFT(薄膜晶体管)
等造成静电破坏。因此，无法为了抑制由在画面中央部产生的静电放电所引起的噪声
电流流入控制电路而应用上述方法。
并且，在日本特开2012-043298号公报中，记载了使从电极到IC电路的配线图
案的电阻减小这样的结构。在日本特开2010-140041号公报中，记载了降低端子配线
之间的电阻值之差来减小端子配线之间的RC时间常数之差这样的结构。但是，无法
将这些结构作为可抑制由在画面中央部产生的静电放电所引起的噪声电流流入控制
电路的结构来应用。
本发明是考虑这样的问题而完成的。即，本发明的目的在于提供一种能够实现以
下的(1)和(2)的配线基板。
(1)能够抑制由在端子配线部和画面中央部产生的静电放电所引起的噪声电流
流入控制电路。
(2)能够促进例如触摸屏面板的画面尺寸的大型化。
[1]本发明的配线基板具有绝缘基板和配置在该绝缘基板的正面的导电部，其
特征在于，导电部具有：多个电极部，它们配置在绝缘基板的正面；多个端子部，它
们与多个电极部对应地配置在绝缘基板的正面，与外部电路进行电连接；以及端子配
线部，其配置在绝缘基板的正面，将多个电极部与各个对应的端子部电连接，在各端
子配线部中的至少进入以与对应的端子部的边界部为中心且半径为10mm的圆中的
部分，具有线宽为5μm以上且100μm以下的部分，端子配线部的配线电阻值均为100
欧姆以上且10k欧姆以下。
一般，以对伴随静电放电而产生的噪声电流流入外部电路这一情况进行抑制为目
的，期望在外部电路与端子配线部之间插入连接有保护电阻元件。因此，在本发明中，
发现了在配线基板上形成与保护电阻元件同等功能的条件。即，通过满足上述结构，
既能够将端子配线部的电阻值增加限制在最低限度，又能够抑制除了在端子配线部还
在画面中央部产生的静电放电所引起的噪声电流流入外部电路。其结果是，能够促进
例如触摸屏面板的画面尺寸的大型化。
[2]在本发明中，各端子配线部中的进入以与各个对应的端子部的边界部为中
心且半径为10mm的圆中的部分的线宽越窄，则作为应对静电放电噪声的对策就越有
效。但是，另一方面，在配线的线宽过窄时，发生断线的可能性也增加。因此，上述
的线宽优选为“10μm以上且100μm以下”，更优选为“10μm以上且50μm以下”。
端子配线部的线宽可考虑材料的导电率、制造能力、断线等的害处来决定。
[3]并且，更优选的是，多个端子配线部的配线电阻值均为200欧姆以上且5k
欧姆以下。
[4]对于多个端子配线部中的、由于端子配线部的导电率、端子配线部的厚度
和端子配线部的宽度的制约而不满足规定的电阻值的端子配线部，可以将其绕引得比
直线距离长。
[5]对于多个端子配线部中的、由于端子配线部的导电率、端子配线部的厚度
和端子配线部的配线宽度的制约而不满足规定的电阻值的端子配线部，可以具有至少
1个弯折部。
[6]在该情况下，更优选的是，进入上述的半径为10mm的圆中的部分具有使
弯折部至少重复1次而成的图案，图案的间隔为构成该图案的配线宽度的2倍以上。
[7]作为多个端子配线部中的对线宽进行限制的范围，设定了进入以与对应的
端子部的边界部为中心且半径为10mm的圆中的部分。但是，在对该范围实施了特别
的对策、例如采用了搭载触摸传感器面板的壳体的静电破坏防止结构等的情况下，有
时也将该静电破坏防止对策部位的边界部视作半径为10mm的圆的基点。
[8]在本发明中，也可以在绝缘基板的背面中的靠近端子部且与多个端子配线
部各自的一部分对置的部分处，形成有被维持为固定电位的电极膜。在该情况下，在
端子配线部中的分别靠近端子部的部分与电极膜之间形成电容器。由此，能够使在端
子配线部或画面中央部产生的静电暂时蓄积于电容器并逐渐放电，从而能够使配线基
板具有对抗静电放电的耐受性。
[9]并且，优选的是，导电部由单一的导电性材料构成，单一的导电性材料由
银、铜、铝中的1种金属构成，或者由包含这些金属中的至少1种的合金构成，导电
部的导电率为1×106S/m～5×106S/m。
[10]端子配线部中的、进入以与对应的端子部的边界部为中心且半径为10mm
的圆中的部分以外的部分的线宽优选为20μm～200μm。在该情况下，可以考虑端子
配线部的导电率、端子配线部的厚度、端子配线部的电阻值和所搭载的面板的设计等
来决定。
[11]在本发明中，也可以是，导电部具有：由透明导电层构成的多个电极部，
其配置在绝缘基板的正面；多个端子部，其与多个电极部对应地配置在绝缘基板的正
面，与外部电路进行电连接；以及端子配线部，其配置在绝缘基板的正面，将多个电
极部与各个对应的端子部电连接，各部位的导电部的厚度相同。
根据本发明的配线基板，能够防止在画面周边部和画面中央部产生的静电放电所
引起的噪声电流流入控制电路，从而能够促进例如触摸屏面板的画面尺寸的大型化。
根据参照附图说明的如下实施方式的说明，能够容易理解上述目的、特征和优点。
附图说明
图1是示出将本实施方式的配线基板应用于触摸屏面板的结构例的分解立体图。
图2是示出层叠导电性膜的截面结构的一例和控制系统(自容式)的一例的说明
图。
图3是从上方观察第1导电性膜的主要部分(第1电极部、第1连线部、第1
端子配线部和第1端子部)而示出的俯视图。
图4是将在第2导电性膜中形成的第2导电部的图案的另一例与第1导电部的图
案一并示出的俯视图。
图5是示出层叠导电性膜的截面结构的一例和控制系统(互容式)的一例的说明
图。
图6是示出在仿真中使用的触摸屏面板的层结构和各层的厚度的说明图。
图7是示出在触摸屏面板的透明基体的正面和背面形成的第1导电部和第2导电
部的结构例的俯视图。
图8是示出第1端子部和第1端子配线部的连接部分的详细情况的放大图。
图9是示出在以第1端子配线部为完全导体且线宽为500μm的情况为基准(0dB)
的情况下改变第1端子配线部的线宽和导电率时的感应噪声(噪声电压)的变化的特
性图。
图10A是从上方观察第1具体例的第1导电性膜的主要部分(第1电极部、第1
连线部、第1端子配线部和第1端子部)而示出的俯视图，图10B是从上方观察第2
具体例的第1导电性膜的主要部分而示出的俯视图，图10C是从上方观察第3具体
例的第1导电性膜的主要部分而示出的俯视图。
图11是从上方观察第1导电性膜的主要部分(第1电极部、第1连线部、第1
端子配线部和第1端子部)和在第1透明基体的背面形成的电极膜的例子而示出的俯
视图。
图12是示出层叠导电性膜的截面结构的另一例的说明图。
具体实施方式
以下，参照图1～图12，对将本发明的配线基板例如应用于触摸屏面板的实施方
式例进行说明。另外，在本说明书中，表示数值范围的“～”是作为其前后所记载的
数值为下限值和上限值而包含它们的含义来使用。并且，在本说明书中，采用了大致
长方形的电极部图案形状，然而电极部形状不限于该形状，也可以将电极部应用于构
成为菱形形状的组合的图案等中。
如图1所示，应用了本实施方式的配线基板的触摸屏面板10具有传感器主体12
和控制电路14(由IC电路等构成：参照图2)。传感器主体12具有：层叠导电性膜
18，其是层叠第1导电性膜16A(配线基板)和第2导电性膜16B(配线基板)而构
成的；以及例如玻璃制的覆盖层20，其层叠在层叠导电性膜18上。层叠导电性膜18
和覆盖层20配置在例如液晶显示器等显示装置22中的显示面板24上。第1导电性
膜16A和第2导电性膜16B在从上表面观察时具有：与显示面板24的显示画面24a
对应的第1传感器区域26A和第2传感器区域26B；和与显示面板24的外周部分对
应的第1端子配线区域28A和第2端子配线区域28B(所谓的边框)。
如图2所示，第1导电性膜16A具有：第1透明基体32A；在该第1透明基体
32A的正面上形成的上述的第1导电部30A；以及以包覆第1导电部30A的方式形
成的第1透明粘接剂层34A。
如图1和图3所示，在第1传感器区域26A中形成有由以金属细线构成的透明
导电层所形成的多个第1电极部36A。第1电极部36A具有组合多个格子38(参照
图3)而构成的带状的网眼图案40(参照图3)，第1电极部36A沿第1方向(x方
向)延伸，并沿与第1方向垂直的第2方向(y方向)排列。
在如上所述构成的第1导电性膜16A中，由金属配线形成的第1端子配线部44a
分别经由第1连线部42a与各第1电极部36A的一个端部电连接。
即，如图2所示，在应用于触摸屏面板10的第1导电性膜16A中，在与第1传
感器区域26A对应的部分排列有上述的多个第1电极部36A，在第1端子配线区域
28A中排列有从各第1连线部42a引出的多个第1端子配线部44a。并且，如图1所
示，在第1端子配线部44a的外侧，从一个第1接地端子部46a到另一个第1接地端
子部46a以包围第1传感器区域26A的方式形成有以屏蔽效果为目的的第1接地线
48a。
在图1的例子中，在从上表面观察时，第1导电性膜16A的外形具有长方形状，
第1传感器区域26A的外形也具有长方形状。在第1端子配线区域28A中的、第1
导电性膜16A的一个长边侧的周缘部，在其长度方向中央部分，除了上述的一对第1
接地端子部46a以外，沿着所述一个长边的长度方向还排列形成有多个第1端子部
50a。并且，沿着第1传感器区域26A的一个长边(与第1导电性膜16A的一个长边
最接近的长边：y方向)呈直线状排列有多个第1连线部42a。从各第1连线部42a
引出的第1端子配线部44a朝向第1导电性膜16A的一个长边的大致中央部绕引，
并分别与对应的第1端子部50a电连接。
另一方面，如图2所示，第2导电性膜16B具有：第2透明基体32B；在该第2
透明基体32B的正面上形成的上述的第2导电部30B；以及以包覆第2导电部30B
的方式形成的第2透明粘接剂层34B。
如图1所示，与上述的第1导电性膜16A同样，在第2传感器区域26B中具有
由以金属细线构成的透明导电层所形成的多个第2电极部36B。尽管未作图示，然而
第2电极部36B与第1电极部36A同样地具有组合多个格子38而构成的带状的网眼
图案40，第2电极部36B沿第2方向(y方向)延伸，并沿第1方向(x方向)排列。
在如上所述构成的第2导电性膜16B中，由金属配线形成的第2端子配线部44b
分别经由第2连线部42b例如与序号为奇数的各第2电极部36B的一个端部和序号
为偶数的各第2电极部36B的另一个端部电连接。
即，如图1所示，在应用于触摸屏面板10的第2导电性膜16B中，在与第2传
感器区域26B对应的部分中排列有多个第2电极部36B，在第2端子配线区域28B
中排列有从各第2连线部42b引出的多个第2端子配线部44b。并且，在第2端子配
线部44b的外侧，从一个第2接地端子部46b到另一个第2接地端子部46b以包围第
2传感器区域26B的方式形成有以屏蔽效果为目的的第2接地线48b。
如图1所示，在第2端子配线区域28B中的、第2导电性膜16B的一个长边侧
的周缘部，在其长度方向中央部分，除了上述的一对第2接地端子部46b之外，沿着
所述一个长边的长度方向还排列形成有多个第2端子部50b。并且，沿着第2传感器
区域26B的一个短边(与第2导电性膜16B的一个短边最接近的短边：x方向)呈直
线状排列有多个第2连线部42b(例如，序号为奇数的第2连线部42b)。沿着第2
传感器区域26B的另一个短边(与第2导电性膜16B的另一个短边最接近的短边：x
方向)呈直线状排列有多个第2连线部42b(例如，序号为偶数的第2连线部42b)。
多个第2电极部36B中的例如序号为奇数的第2电极部36B分别与对应的序号
为奇数的第2连线部42b连接，序号为偶数的第2电极部36B分别与对应的序号为
偶数的第2连线部42b连接。从序号为奇数的第2连线部42b引出的第2端子配线部
44b以及从序号为偶数的第2连线部42b引出的第2端子配线部44b朝向第2导电性
膜16B的一个长边的大致中央部绕引，并分别与对应的第2端子部50b电连接。
另外，可以使第1端子配线部44a的引出方式与上述的第2端子配线部44b相同，
也可以使第2端子配线部44b的引出方式与上述的第1端子配线部44a相同。
并且，在使用该层叠导电性膜18作为触摸屏面板10的情况下，将覆盖层20层
叠在第1导电性膜16A上。使从第1导电性膜16A的多个第1电极部36A引出的第
1端子配线部44a和从第2导电性膜16B的多个第2电极部36B引出的第2端子配线
部44b与例如对扫描进行控制的控制电路14(参照图2)连接。
作为在第2导电性膜16B上形成的第2导电部30B的图案，除了上述的图1所
示的图案以外，还可以优选采用图4所示的图案。图4是从上表面观察使第1导电性
膜16A和第2导电性膜16B层叠的状态而示出的俯视图。
即，如图4所示，使由金属细线形成的第2端子配线部44b分别经由第2连线部
42b与各第2电极部36B的一个端部电连接。并且，在第2端子配线区域28B中的与
第1导电性膜16A的第1端子配线部44a对置的位置处形成电极膜58，使该电极膜
58与第2接地端子部46b电连接。
作为触摸位置的检测方式，可以优选采用自容式或互容式。
如图2所示，在自容式中，从控制电路14向第1端子配线部44a依次提供用于
检测触摸位置的第1脉冲信号P1，从控制电路14向第2端子配线部44b依次提供用
于检测触摸位置的第2脉冲信号P2。
通过使指尖接触或接近覆盖层20的上表面，使得与触摸位置对置的第1电极部
36A及第2电极部36B和GND(大地)之间的电容增加，因而，来自该第1电极部
36A和第2电极部36B的传递信号的波形成为与来自其他电极部的传递信号的波形
不同的波形。因此，在控制电路14中，根据从第1电极部36A和第2电极部36B提
供的传递信号来运算触摸位置。
另一方面，如图4所示，在互容式中，从控制电路14对第2电极部36B依次施
加用于触摸位置检测的电压信号S2，对第1电极部36A依次进行感测(传递信号S1
的检测)。通过使指尖接触或接近覆盖层20的上表面，针对与触摸位置对置的第1
电极部36A和第2电极部36B之间的寄生电容并联地施加手指的杂散电容。由此，
来自该第2电极部36B的传递信号S1的波形成为与来自其他的第2电极部36B的传
递信号S1的波形不同的波形。因此，在控制电路14中，根据提供有电压信号S2的
第2电极部36B的顺序和被提供的来自第1电极部36A的传递信号S1，对触摸位置
进行运算。
通过采用这样的自容式或互容式的触摸位置的检测方法，即使同时使两个指尖接
触或接近覆盖层20的上表面，也能够检测出各触摸位置。
另外，作为与投影型静电电容方式的检测电路相关的现有技术文献，有美国专利
第4582955号说明书、美国专利第4686332号说明书、美国专利第4733222号说明书、
美国专利第5374787号说明书、美国专利第5543588号说明书、美国专利第7030860
号说明书、美国专利申请公开第2004/0155871号说明书等。
并且，在本实施方式中，除了后述的结构例以外，设定有第1端子配线部44a与
第1电极部36A的连接点，以便至少使在第1导电性膜16A上形成的多个第1端子
配线部44a的绕引距离尽可能缩短。例如如图3所示，在多个第1端子部50a位于第
1导电性膜16A的长度方向中央部分的情况下，如下这样设置。即，在图3上，例如，
对于存在于右侧的第1端子配线部44a，使与对应的第1电极部36A的连接点分别位
于左侧。相反，对于存在于左侧的第2端子配线部44b，使与对应的第1电极部36A
的连接点分别位于右侧。特别是，与第1端子部50a中的、中央部分的两个第1端子
部50a连接的第1端子配线部44a不进行蜿蜒或弯曲而是呈直线状进行配线。因此，
所述中央部分的成为最短长度的第1端子配线部44a的电阻值为至多数10欧姆的低
值。
在本实施方式中，还如以下这样构成多个第1端子配线部44a。
(a)各第1端子配线部44a中的、进入以与对应的第1端子部50a的边界部52
为中心且半径为10mm的圆中的部分构成为：具有线宽为“5μm以上且100μm以下”、
优选为“10μm以上且100μm以下”、更优选为“10μm以上且50μm以下”的部分。
具体地，如图3所示，例如，在观察位于右端的第1端子配线部44a时，在该第1端
子配线部44a中的、进入以与对应的右端的第1端子部50a的边界部52为中心且半
径为10mm的圆54中的部分56(在图3上，细线所示的部分)的线宽为“10μm以
上且50μm以下”。其他的第1端子配线部44a也相同。
(b)将各第1端子配线部44a的配线电阻值设定为“100欧姆以上且优选为200
欧姆以上”，并且设定为“10k欧姆以下且优选为5k欧姆以下”。
一般，在触摸屏面板10所使用的配线基板中，由于在触摸屏面板10上产生的静
电放电，使得在第1电极部36A中产生噪声电流。该噪声电流经由第1端子配线部
44a和第1端子部50a流入控制电路14，在最坏的情况下，设想会发生控制电路14
损伤这样的情况。作为防止该情况的手段，存在形成于第1端子配线部44a的外侧的
第1接地线48a。然而，随着近年来的画面尺寸的大型化，无法抑制特别是在画面中
央部产生的静电放电所引起的噪声电流流入控制电路14。为了消除该问题，期望在
控制电路14和第1端子配线部44a之间插入并连接保护电阻元件。
因此，在本实施方式中，以对伴随静电放电而产生的噪声电流流入控制电路14
这一情况进行抑制为目的，提高了第1端子配线部44a中的第1端子部50a附近的配
线电阻。也就是说，发现了在配线基板上形成与保护电阻元件同等的功能这一条件。
具体地，使第1端子配线部44a的线宽越窄，就越能够减少静电放电的影响，而且，
第1端子配线部44a的配线电阻与线宽成反比例地增高，因而能够抑制静电放电所引
起的噪声电流的传递。
以下，使用图6～图9，来说明对静电放电所引起的噪声与端子配线部的线宽及
端子配线部的导电率之间的关系进行仿真的结果。
图6示出在仿真中使用的触摸屏面板10的层结构和各层的厚度。即，在显示装
置22的显示面板24(厚度为2mm)上，隔着厚度为0.05mm的第1透明粘接剂层34A
层叠有厚度为0.1mm的聚对苯二甲酸乙酯制的透明基体32。而且，在透明基体32
上，隔着厚度为0.05mm的第2透明粘接剂层34B层叠有厚度为0.5mm的玻璃制的
覆盖层20。另外，在显示面板24的端面配置有屏蔽层(GND层)。
在该仿真中，设想了静电放电对最上层的覆盖层20产生放电的情况。并且，第
1导电部30A形成在透明基体32的正面(覆盖层20侧)，第2导电部30B形成在透
明基体32的背面(显示面板24侧)。
图7示出了在触摸屏面板10的透明基体32的正面和背面形成的第1导电部30A
和第2导电部30B的结构例。第1电极部36A、第2电极部36B、第1端子配线部
44a和第2端子配线部44b等的图案与上述的图4所示的图案大致相同。在该图4中，
使第1端子配线部44a和第2端子配线部44b均具有相同的厚度。
这里，尽管未图示，然而设定为这样的状态：通过在透明基体32的正面形成的
第1端子部50a和在透明基体32的背面形成的第2端子部50b与外部的控制电路14
电连接。
图8示出了第1端子部50a与第1端子配线部44a的连接部分的详细情况。
在该仿真中，在配置于覆盖层20正面中的发生了静电放电的部位的正下方的第
1端子配线部44a中，由该第1端子配线部44a感应到的噪声经由第1端子部50a传
播到外部的控制电路14，在图9示出了此时产生的电压(感应的噪声电压)的结果。
特别是，在该图9中，将第1端子配线部44a为完全导体且线宽为500μm的情
况作为基准(0dB)，确认了改变第1端子配线部44a的线宽和导电率时的感应噪声的
变化。图9的实线L1表示改变作为完全导体的第1端子配线部44a的线宽时的噪声
电压的变化(完全导体中的感应噪声的线宽关联性)。实线L2表示改变导电率为1×
106S/m的第1端子配线部44a的线宽时的噪声电压的变化(导电率为1×106S/m的导
体中的感应噪声的线宽关联性)。
从图9的结果显示出“根据完全导体中的线宽关联性，随着线宽变窄，感应出的
噪声电压减少”和“由于因线宽的减少而引起的电阻值的增加，也使得感应出的噪声
电压减少”。
由此，在本实施方式中，作为可抑制静电放电所引起的噪声电流向控制电路14
传递的配线图案，发现了可实现与保护电阻元件同等的功能的配线图案的配置位置、
配线电阻值和线宽。然后，通过满足上述的(a)和(b)的结构，不仅能够抑制在画
面周边部产生的静电放电所引起的噪声电流流入控制电路14，还能够抑制在画面中
央部产生的静电放电所引起的噪声电流流入控制电路14，从而能够促进触摸屏面板
10的画面尺寸的大型化。
并且，在触摸屏面板10中使用的配线基板(在该情况下为第1导电性膜16A)
是在PET(聚对苯二甲酸乙酯)等的第1透明基体32A上形成第1端子配线部44a
等信号传递用的配线。特别是，对于第1端子配线部44a等配线，以提高信号传递特
性为目的，要求低电阻。然而，随着第1端子配线区域28A等所谓的边框部分变窄，
不能充分地确保配线空间，因此，在配线宽度和配线间隔方面存在制约，而且，还存
在与画面尺寸的扩大化相伴的配线数的增加和配线的窄宽度化、以及配线长度的增加
这样的使电阻值增大的因素。另一方面，作为可靠性之一的静电放电噪声对策也是一
个重要的研究事项。
在这样的背景下，本实施方式通过满足上述的(a)和(b)，能够在触摸屏面板
10用的配线基板中既将电阻值的增加限制在最低限度还实现了针对静电放电噪声的
对策。
并且，作为用于实现上述的(a)和(b)中的(b)的结构例，举出了这样的情
况：使与作为对象的第1端子部50a连接的第1端子配线部44a的绕引距离比至对应
的第1电极部36A的直线距离长。在该情况下，在本实施方式中，举出了这样的情
况：不是将线宽为“5μm以上且100μm以下”、优选为“10μm以上且50μm以下”
的部分、即进入以与对应的第1端子部50a的边界部52为中心且半径为10mm的圆
54中的部分56的线宽设为不小于10μm，而是替代上述设置使所述部分56的厚度变
薄和使所述部分56蜿蜒、弯曲等来较长地绕引。
此处，参照图10A～图10C，对达成上述的结构例的几个具体例(第1具体例～
第3具体例)进行说明。
如图10A～图10C所示，第1具体例～第3具体例均是将沿横向排列的多个第1
端子部50a中的中央部分的两个第1端子部50a设定为作为对象的第1端子部50a。
然后，如图10A所示，第1具体例是将与作为对象的第1端子部50a连接的第1
端子配线部44a中的、进入以与对应的第1端子部50a的边界部52为中心且半径为
10mm的圆中的部分56蜿蜒(meander)状绕引而构成的。在图10A的例子中，示出
了如下示例：使第1端子配线部44a和与其对应的第1电极部36A的边界部52位于
中央，将第1端子配线部44a从与第1端子部50a的边界部52到与第1电极部36A
的连接点呈蜿蜒状绕引。并且，将形成为蜿蜒状的部分的配线间隔设定为第1端子配
线部44a的线宽的2倍以上。
如图10B所示，第2具体例是将与作为对象的第1端子部50a连接的第1端子配
线部44a中的、进入以与对应的第1端子部50a的边界部52为中心且半径为10mm
的圆中的部分56呈波浪状绕引而构成的。在图10B的例子中，使右侧的第1端子配
线部44a和与其对应的第1电极部36A的连接点位于左侧。使左侧的第1端子配线
部44a和与其对应的第1电极部36A的连接点位于右侧。将第1端子配线部44a从与
第1端子部50a的边界部52到与第1电极部36A的连接点呈波浪状绕引。并且，将
形成为波浪状的部分的配线间隔设定为第1端子配线部44a的线宽的2倍以上。
如图10C所示，在第3具体例中，将与作为对象的第1端子部50a连接的第1
端子配线部44a中的、进入以与对应的第1端子部50a的边界部52为中心且半径为
10mm的圆中的部分56弯曲地绕引。在图10C的例子中，示出了如下示例：使右侧
的第1端子配线部44a和与其对应的第1电极部36A的连接点位于右侧，使左侧的
第1端子配线部44a和与其对应的第1电极部36A的连接点位于左侧。
除了上述的(a)和(b)的结构例以外，如图11所示那样，还在第1透明基体
32A的背面中的靠近第1端子部50a的部分且与多个第1端子配线部44a各自的一部
对置的部分处，形成1个电极膜58和与该电极膜58电连接的连接端子部60。并且，
使连接端子部60与GND(大地)或固定电位连接，将电极膜58维持为接地电位或
固定电位。即，在各第1端子配线部44a中的分别靠近第1端子部50a的部分与GND
等之间形成电容器。由此，能够使在画面周边部和画面中央部产生的静电暂时蓄积在
所述电容器中并逐渐放电，能够使配线基板具有对抗静电放电的耐受性。在图11中，
示出了在第1透明基体32A的背面形成电极膜58的例子，此外，也可以如上述的图
4所示那样，在第2导电性膜16B的正面形成电极膜58。
在上述的例子中，说明了将(a)和(b)的结构例应用于第1端子配线部44a的
例子，当然，除了第1端子配线部44a，也可以针对第2端子配线部44b采用上述的
(a)和(b)的结构例。
下面，对配线基板的另一优选方式进行说明。
构成上述的第1端子配线部44a、第2端子配线部44b、第1端子部50a、第2
端子部50b、第1接地线48a、第2接地线48b、第1接地端子部46a和第2接地端
子部46b的金属配线和构成透明导电层的金属细线分别由单一的导电性材料构成。单
一的导电性材料由银、铜、铝中的1种金属构成，或由包含它们中的至少1种的合金
构成。
格子38的一边的长度优选为50μm～500μm，更优选为150μm～300μm。当一边
的长度小于上述下限值时，检测时的静电电容减小，因而发生检测不良的可能性升高。
另一方面，当超过上述上限值时，位置检测精度有可能下降。并且，在格子38为上
述范围的情况下，还能够使透明性保持良好，在安装到显示装置22的显示面板24
上时，能够目视辨认显示内容而没有不舒服感。
此外，构成第1电极部36A和第2电极部36B的金属细线的线宽为1μm～9μm。
在该情况下，第1电极部36A的线宽可以与第2电极部36B的线宽相同，也可以不
同。
即，构成透明导电层的金属细线的线宽的下限为1μm以上，优选为3μm以上、
4μm以上或5μm以上，上限为9μm以下，优选为8μm以下。在线宽小于上述下限值
的情况下，导电性变得不充分，因此，在用于触摸屏面板的情况下，检测灵敏度变得
不充分。另一方面，当超过上述上限值时，叠纹(moire)变得显著，在用于触摸屏
面板10时，目视辨认性变差。此外，通过处于上述范围，使得第1传感器区域26A
和第2传感器区域26B中的叠纹得到改善，目视辨认性变得特别好。线间隔(相邻
的金属细线的间隔)优选为30μm以上且500μm以下，更优选为50μm以上且400μm
以下，最优选为100μm以上且350μm以下。并且，出于接地等的目地，金属细线可
以具有线宽大于200μm的部分。
从可见光透过率这点出发，本实施方式中的第1导电性膜16A和第2导电性膜
16B的开口率优选为85％以上，更优选为90％以上，最优选为95％以上。开口率是
指除了金属细线之外的透光性部分在整体中所占的比例，例如，线宽为6μm、细线间
距为240μm的正方形的格子状的开口率为95％。
在上述的层叠导电性膜18中，例如如图2所示，在第1透明基体32A的正面形
成第1导电部30A，在第2透明基体32B的正面形成第2导电部30B。此外，也可以
如图12所示那样在第1透明基体32A的正面形成第1导电部30A，且在第1透明基
体32A的背面形成第2导电部30B。在该情况下，成为如下方式：不存在第2透明
基体32B，在第2导电部30B上层叠有第1透明基体32A，在第1透明基体32A上
层叠有第1导电部30A。在该情况下，也以覆盖第1导电部30A的方式形成第1透
明粘接剂层34A，以覆盖第2导电部30B的方式形成第2透明粘接剂层34B。并且，
也可以在第1导电性膜16A和第2导电性膜16B之间存在其它的层，如果第1电极
部36A和第2电极部36B为绝缘状态，也可以将它们相对地进行配置。
如图1所示，优选的是，在第1导电性膜16A和第2导电性膜16B的例如各自
的角部，形成有在对第1导电性膜16A和第2导电性膜16B进行贴合时使用的定位
用的第1对准标记66a和第2对准标记66b。在贴合第1导电性膜16A和第2导电性
膜16B而形成层叠导电性膜18的情况下，该第1对准标记66a和第2对准标记66b
成为新的复合对准标记。该复合对准标记也作为在将该层叠导电性膜18设置到显示
面板24上时所使用的定位用的对准标记而发挥功能。
在上述的例子中，示出了将第1导电性膜16A和第2导电性膜16B应用于投影
型静电电容方式的触摸屏面板10的例子，然而此外，也可以将其应用于表面型静电
电容方式的触摸屏面板或电阻膜式的触摸屏面板。
此外，上述的本实施方式的第1导电性膜16A和第2导电性膜16B除了作为显
示装置22的触摸屏面板用的导电膜来利用外，还可以作为显示装置22的电磁波屏蔽
膜或设置在显示装置22的显示面板24上的光学膜来利用。作为显示装置22，能够
列举出液晶显示器、等离子显示器、有机EL、无机EL等。
下面，代表性地对第1导电性膜16A的制造方法进行简单说明。作为制造第1
导电性膜16A的方法，例如可以在第1透明基体32A上使具有乳剂层的感光材料曝
光来实施显像处理，该乳剂层含有感光性卤化银盐，由此，在曝光部和未曝光部分别
形成金属银部和光透过性部，形成第1导电部30A。此外，也可以通过进一步对金属
银部实施物理显像和/或镀覆处理，使金属银部保持为导电性金属。将使金属银部保
持为导电性金属的层整体记作导电性金属部。
或者，也可以在第1透明基体32A上使用镀覆预处理材料形成感光性被镀覆层，
然后，在进行曝光、显像处理后实施镀覆处理，由此在曝光部和未曝光部分别形成金
属部和光透过性部，从而形成第1导电部30A。此外，也可以通过进一步对金属部实
施物理显像和/或镀覆处理，来使金属部保持为导电性金属。
作为使用镀覆预处理材料的方法的更优选的方式，列举出如下两种方式。此外，
关于下述情况的更加具体的内容，在日本特开2003-213437号公报、日本特开
2006-64923号公报、日本特开2006-58797号公报、日本特开2006-135271号公报等
中作了公开。
方式(a)：在第1透明基体32A上涂覆包含有与镀覆催化剂或其前驱体相互作
用的官能团的被镀覆层，然后，在进行曝光/显像后实施镀覆处理，在被镀覆材料上
形成金属部。
方式(b)：在第1透明基体32A上依次层叠含有聚合物及金属氧化物的基底层
和含有与镀覆催化剂或其前驱体相互作用的官能团的被镀覆层，然后，在进行曝光/
显像后实施镀覆处理，在被镀覆材料上形成金属部。
作为其它方法，也可以对形成在第1透明基体32A上的铜箔上的光致抗蚀剂膜
进行曝光和显像处理，形成抗蚀剂图案，对从抗蚀剂图案露出的铜箔进行蚀刻，由此
形成第1导电部30A。
或者，也可以在第1透明基体32A上印刷包含金属微粒子的浆体(paste)，对浆
体进行金属镀覆，由此形成第1导电部30A。
或者，也可以在第1透明基体32A上通过丝网印刷版或凹版印刷版来印刷形成
第1导电部30A。
或者，也可以在第1透明基体32A上通过喷墨来形成第1导电部30A。
这里，对第1导电性膜16A和第2导电性膜16B的各层的结构详细说明如下。
[透明基体]
作为第1透明基体32A和第2透明基体32B，可以列举出塑料膜、塑料板、玻
璃板等。作为上述塑料膜和塑料板的原料，例如能够使用聚对苯二甲酸乙酯(PET)、
聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类、和三乙酰纤维素(TAC)等。作为第1透明
基体32A和第2透明基体32B，融点为约290℃以下的塑料膜或塑料板是优选的，特
别是从光透过性和加工性等观点出发，优选为PET。
[银盐乳剂层]
成为构成透明导电层的金属细线的银盐乳剂层除了银盐和结合剂以外，还包含溶
剂或染料等添加剂。
作为在本实施方式中使用的银盐，列举出卤化银等无机银盐和醋酸银等有机银
盐。在本实施方式中，优选使用作为光传感器的特性优异的卤化银。
关于银盐乳剂层的涂覆银量(银盐的涂覆量)，换算为银的话，优选为1g/m2～
30g/m2，更优选为1g/m2～25g/m2，进一步优选为5g/m2～20g/m2。通过将该涂覆银量
设定为上述范围，在形成导电性膜的情况下，能够得到期望的表面电阻。
作为本实施方式中使用的结合剂，列举出例如明胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯
吡咯烷酮(PVP)、淀粉等的多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、聚乙基胺、
壳聚糖、聚丙啶、聚丙烯腈酸、聚藻胶酸、聚透明质酸、羧基纤维素等。它们根据官
能团的离子性而具有中性、阴离子性、阳离子性的性质。
关于在本实施方式的银盐乳剂层中含有的结合剂的含有量，没有特别限定，能够
在可发挥分散性和紧密附着性的范围内适当地决定。关于银盐乳剂层中的结合剂的含
有量，在以银/结合剂的体积比表示时，优选为1/4以上，更优选为1/2以上。银/结合
剂的体积比优选为100/1以下，更优选为50/1以下。并且，银/结合剂的体积比更优
选为1/1～4/1。最优选为1/1～3/1。通过将银盐乳剂层中的银/结合剂的体积比设定为
该范围，即使在调整了涂覆银量的情况下，也能够抑制电阻值的偏差，得到具有均匀
的表面电阻的导电性膜。此外，关于银/结合剂的体积比，能够通过将原料的卤化银
量/结合剂量(重量比)转换为银量/结合剂量(重量比)、进而将银量/结合剂量(重
量比)转换为银量/结合剂量(体积比)来求出。
＜溶剂＞
关于在银盐乳剂层的形成中使用的溶剂，没有特别限定，能够列举出例如水、有
机溶剂(例如、甲醇等醇类、丙酮等酮类、甲酰胺等酰胺类、二甲基亚砜等亚砜类、
醋酸乙酯等酯类、醚类等)、离子性液体以及它们的混合溶剂。
＜其它添加剂＞
关于在本实施方式中使用的各种添加剂，没有特别限制，能够优选使用公知的添
加剂。
[其它层结构]
也可以在银盐乳剂层上设置未图示的保护层。并且，还可以在银盐乳剂层下方设
置例如衬底层。
[导电性膜]
第1导电性膜16A的第1透明基体32A和第2导电性膜16B的第2透明基体32B
的厚度优选为5μm～350μm，更优选为30μm～150μm。若是5μm～350μm的范围，
则可得到期望的可见光的透过率，并且容易处理。
关于设置在第1透明基体32A和第2透明基体32B上的金属银部的厚度，能够
根据涂覆在第1透明基体32A和第2透明基体32B上的银盐乳剂层用涂料的涂覆厚
度来适当地决定。金属银部的厚度能够在0.001mm～0.2mm中选择，但是优选为30μm
以下，更优选为20μm以下，进一步优选为0.01μm～9μm，最优选为0.05μm～5μm。
并且，优选的是，金属银部是图案状。金属银部可以是1层，也可以是2层以上的叠
层结构。在金属银部是图案状且是2层以上的叠层结构的情况下，能够赋予不同的感
色性，从而能够对不同的波长进行感光。由此，当改变曝光波长而进行曝光时，能够
在各层中形成不同的图案。
关于导电性金属部的厚度，在作为触摸屏面板10的用途时，由于越薄则显示面
板24的视野角越大，因而越薄越好，在提高目视辨认性这点上也要求薄膜化。出于
这样的观点，由保持在导电性金属部的导电性金属构成的层的厚度优选小于9μm，更
优选为0.1μm以上且小于5μm，进一步优选为0.1μm以上且小于3μm。
在本实施方式中，通过控制上述的银盐乳剂层的涂覆厚度，能够形成期望的厚度
的金属银部，进而，通过物理显像和/或镀覆处理能够自如地控制由导电性金属粒子
构成的层的厚度，因此，即使是具有小于5μm、优选小于3μm的厚度的导电性膜，
也能够容易地形成。
此外，在第1导电性膜16A和第2导电性膜16B的制造方法中，并非一定需要
执行镀覆等工序。这是因为，通过调整银盐乳剂层的涂覆银量、银/结合剂的体积比，
也能够得到期望的表面电阻。此外，可以根据需要进行压延处理等。
此外，也可以将本发明与在下述表1和表2中记载的公开公报和国际公开小册子
的技术适当组合来使用。省略了“日本特开”、“号公报”、“号小册子”等的记述。
[表1]
[表2]
此外，本发明的配线基板不限于上述实施方式，当然能够在不脱离本发明主旨的
情况下采用各种结构。