《曝光机文件自动检查系统.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《曝光机文件自动检查系统.pdf（7页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、(10)申请公布号 CN 103617170 A (43)申请公布日 2014.03.05 CN 103617170 A (21)申请号 201310506771.3 (22)申请日 2013.10.23 G06F 17/30(2006.01) G06F 11/22(2006.01) (71)申请人 上海华力微电子有限公司 地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园 区高斯路 568 号 (72)发明人 赵静芬 马兰涛 陈力钧 (74)专利代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 竺路玲 (54) 发明名称 曝光机文件自动检查系统 (57) 摘要 本发明涉及一种曝光机文件自动检查系。
2、统， 系统包括 ： 光刻曝光机文件建立条件信息模块、 光罩信息模块、 曝光机文件建立 / 导出模块和数 据处理模块 ； 光罩信息模块中存储有光罩信息， 曝光机文件建立 / 导出模块中存储有曝光机文 件， 曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立 曝光机文件时所需条件的参数信息 ； 数据处理模 块调取光罩信息模块中存储的光罩信息， 并根据 该光罩信息调取存储于曝光机文件建立 / 导出模 块中的曝光机文件， 数据处理模块同时调取曝光 机文件建立条件信息模块中的参数信息后， 将曝 光机文件建立所需要更改的参数与调取的参数信 息进行比对， 并将比对结果进行输出。 本发明系统 能够提高曝光机文件的正确率和。
3、工作效率。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (10)申请公布号 CN 103617170 A CN 103617170 A 1/1 页 2 1. 一种曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 所述系统包括 ： 光刻曝光机文件建立 条件信息模块、 光罩信息模块、 曝光机文件建立 / 导出模块和数据处理模块 ； 所述光罩信息模块中存储有光罩信息， 所述曝光机文件建立 / 导出模块中存储有曝光 机文件， 所述曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立曝光机文件时所需条。
4、件的参数信 息 ； 所述数据处理模块调取光罩信息模块中存储的光罩信息， 并根据该光罩信息调取存储 于所述曝光机文件建立 / 导出模块中的曝光机文件， 所述数据处理模块同时调取曝光机文 件建立条件信息模块中的参数信息后， 将曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的所述 参数信息进行比对， 并将比对结果进行输出。 2. 如权利要求 1 所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 当所述曝光机文件建 立所需要更改的参数与调取的所述参数信息一致， 所述数据处理模块输出比对结果正确 ； 当所述曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的所述参数信息不一致， 所述数据处 理模块输出比对结果不正确。 3. 如权利。
5、要求 1 所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 所述系统还包括操作 终端， 通过所述操作终端将所述曝光机文件输入至所述曝光机文件建立 / 导出模块中。 4. 如权利要求 1 所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 通过一微型机对所述 比对结果进行显示。 5. 如权利要求 4 所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 所述数据处理模块中 设置有批量处理单元， 通过所述批量处理单元同时调取若干个曝光机文件。 6. 如权利要求 5 所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 采用宏处理单元作为 所述批量处理单元。 7. 如权利要求 6 所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于，。
6、 通过所述操作终端， 采 用 Excel VBA 工具对所述宏处理单元写入宏命令。 8.如权利要求1所述的曝光机文件自动检查系统， 其特征在于， 所述曝光机文件建立/ 导出模块的终端为曝光机台自带的服务器。 权 利 要 求 书 CN 103617170 A 2 1/4 页 3 曝光机文件自动检查系统 技术领域 0001 本发明涉及一种半导体工艺制程检查系统， 尤其涉及一种曝光机文件自动检查系 统。 背景技术 0002 随着半导体技术的发展， 半导体器件的结构越来越复杂， 使得其制备工艺也变得 越来越复杂。 0003 通常在半导体器件的制备过程中， 会经历很多次的光刻工艺， 每一次的光刻工艺 都。
7、包含一次曝光制程， 所以， 在半导体器件的制造过程中， 会经过十几次甚至几十次的曝光 制程。 在每一次的曝光制程中， 都需要先确定曝光制程的相关参数， 而以一套曝光机文件40 层来计算， 需要输出确认的参数大致上有四千多个， 并且这些参数通常是包含有正负号的 精确到小数点后三位的数字。如果在输入参数时出现任何差错， 就会导致曝光制程出现问 题， 具体体现在以下几个方面 ： 0004 （1） 曝光机拒绝对晶圆进行加工 （reject wafer） ； 0005 （2） 晶圆返工重跑 ； 0006 （3） 整个产品线上的晶圆进行报废。 0007 可以看出， 如果在曝光制程中稍有差错， 轻则造成晶圆。
8、的加工停滞或者返工， 重则 引起大量的晶圆报废， 这无论是在成本上和生产进度都是不利的， 所以确保曝光参数的输 入准确性是十分必要也是十分有现实意义的。 0008 目前， 对于曝光参数的输入和建立大多为工程师手动进行， 并且在信息输入之后 并没有相关的检查机制， 这样就会导致工程师可能在庞大的输入数据压力下出错。 0009 虽然业界已经有 ASML 厂家研发出一种使曝光机文件脱离于其曝光机本身以及服 务器而生成的软件， 但是由于其内部参数定义及其复杂， 操作人员需要花费很多时间去掌 握其使用方法， 并且运算速度相对较慢， 需要花费很多的时间， 所以在实际生产过程中并不 是十分具有实用性。 发明。
9、内容 0010 鉴于上述问题， 本发明提供一种曝光机文件自动检查系统。 0011 本发明解决技术问题所采用的技术方案为 ： 0012 一种曝光机文件自动检查系统， 其中， 所述系统包括 ： 光刻曝光机文件建立条件信 息模块、 光罩信息模块、 曝光机文件建立 / 导出模块和数据处理模块 ； 0013 所述光罩信息模块中存储有光罩信息， 所述曝光机文件建立 / 导出模块中存储有 曝光机文件， 所述曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立曝光机文件时所需条件的参 数信息 ； 0014 所述数据处理模块调取光罩信息模块中存储的光罩信息， 并根据该光罩信息调取 存储于所述曝光机文件建立 / 导出模块中的曝。
10、光机文件， 所述数据处理模块同时调取曝光 说 明 书 CN 103617170 A 3 2/4 页 4 机文件建立条件信息模块中的参数信息后， 将曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的 所述参数信息进行比对， 并将比对结果进行输出。 0015 所述的曝光机文件自动检查系统， 其中， 当所述曝光机文件建立所需要更改的参 数与调取的所述参数信息一致， 所述数据处理模块输出比对结果正确 ； 0016 当所述曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的所述参数信息不一致， 所述数 据处理模块输出比对结果不正确。 0017 所述的曝光机文件自动检查系统， 其中， 所述系统还包括操作终端， 通过所述操作 终端将。
11、所述曝光机文件输入至所述曝光机文件建立 / 导出模块中。 0018 所述的曝光机文件自动检查系统， 其中， 通过所述操作终端对所述比对结果进行 显示。 0019 所述的曝光机文件自动检查系统， 其中， 所述数据处理模块中设置有批量处理单 元， 通过所述批量处理单元同时调取若干个曝光机文件。 0020 所述的曝光机文件自动检查系统， 其中， 采用宏处理单元作为所述批量处理单元。 0021 所述的曝光机文件自动检查系统， 其中， 通过所述操作终端， 采用 Excel VBA 工具 对所述宏处理单元写入宏命令。 0022 上述技术方案具有如下优点或有益效果 ： 0023 本发明的曝光机文件自动检查系。
12、统通过光刻曝光机文件建立条件信息模块、 光罩 信息模块和曝光机文件建立 / 导出模块将原本完全独立的光刻曝光机建立条件信息、 光罩 信息和曝光机文件三者相互联系起来， 并通过数据处理模块将上述三个模块内的信息进行 整合和比对， 以实现对曝光机文件的自动检查， 从而及时发现错误的曝光机文件， 便于对错 误的曝光机文件进行及时的修改， 避免了因错误的曝光机文件进行产品加工而产生的返工 等问题， 进而提高了曝光机文件的正确率和工作效率。 附图说明 0024 参考所附附图， 以更加充分的描述本发明的实施例。 然而， 所附附图仅用于说明和 阐述， 并不构成对本发明范围的限制。 0025 图 1 是本发明。
13、曝光机文件自动检查系统的内部结构示意图 ； 0026 图 2 是本发明实施例中数据处理模块的结构示意图。 具体实施方式 0027 本发明提供一种曝光机文件自动检查系统， 可用于技术节点为大于等于 130nm、 90nm、 65/55nm、 45/40nm、 32/28nm 或小于等于 22nm 等的工艺中 ； 本发明同时可用于 Logic、 Memory、 RF、 HV、 Analog/Power、 MEMS、 CIS、 Flash、 eFlash 或 Package 等技术平台中。 0028 本发明的主要思想是通过曝光机文件自动检查系统将 DS（design service） 光罩 信息、 。
14、光刻曝光机文件建立条件信息和曝光机文件这三个完全独立的信息相互关联起来， 并运用自动化的系统来对曝光机文件进行检查。 0029 下面对本发明系统进行详细说明。 0030 本发明的曝光机文件自动检查系统包括 ： 操作终端、 光刻曝光机文件建立条件信 息模块、 光罩信息模块、 曝光机文件建立 / 导出模块、 数据处理模块。其中， 操作终端用于 说 明 书 CN 103617170 A 4 3/4 页 5 让工程师对曝光机文件自动检查系统进行启动、 停止以及其它相关的操作选择， 操作终端 还能够将系统内的信息进行显示 ； 光刻曝光机文件建立条件信息模块中存放有用于建立曝 光机文件相关条件参数的信息 。
15、； 光罩信息模块中存放有针对不同曝光工艺所需要光罩的光 罩信息 ； 曝光机文件建立 / 导出模块用于建立或产生曝光机文件以及导出建立的曝光机文 件， 该曝光机文件建立 / 导出模块的终端优选为曝光机台自带的服务器 ； 数据处理模块用 于进行相关比对等运算操作。 0031 上述的若干模块之间的信息传递关系通过如下方式实现 ： 0032 通过操作终端启动曝光机文件自动检查系统， 数据处理模块调取光罩信息模块中 的光罩信息， 并根据该光罩信息调取存储于曝光机文件建立 / 导出模块中的曝光机文件， 同时调取曝光机文件建立条件信息模块中的参数信息， 然后， 数据处理模块将曝光机文件 建立所需要更改的参数。
16、与调取的参数信息进行比对， 并将比对结果进行输出， 输出的比对 结果由一个普通的输出终端进行输出， 如普通微型机等。 0033 当数据处理模块将曝光机文件建立所需要更改的参数与从曝光机文件建立条件 信息模块中调取的参数信息进行比对后， 如果该曝光机文件建立所需要更改的参数与从曝 光机文件建立条件信息模块中调取的参数信息一致， 那么输出正确的结果， 即经过检查后， 可以确定建立的曝光机文件为正确 ； 反之， 如果该曝光机文件建立所需要更改的参数与从 曝光机文件建立条件信息模块中调取的参数信息不一致， 那么则输出错误的结果， 即经过 检查后， 可以确定建立的曝光机文件为错误。 0034 这样， 通。
17、过上述系统就能对工程师人为建立的曝光机文件进行自动化的检查， 以 及时发现工程师在建立大量的曝光机文件时可能建立的错误的曝光机文件， 然后及时采取 相应的措施以避免更大的损失。 0035 进一步的， 可将批处理的理念应用于上述系统中， 使得可以同时对多个已建立的 曝光机文件一起进行检查， 并且检查结果也会一同进行输出， 为了达到上述功能， 在本发 明的曝光机文件自动检查系统中的数据处理模块中还设置有一个批量处理单元， 该批量处 理单元能够同时将多个曝光机文件进行调取， 并且依次对多个曝光机文件进行检查后， 对 该多个曝光机文件的检查结果一同进行输出。对于该批量处理单元可优选采用宏处理单 元。 。
18、可以采用带有宏运算功能的工具对该宏处理单元进行宏命令的写入， 其中， 可优选采用 Excel VBA 工具进行宏命令的写入。 0036 下面通过一实施例对本发明具有批量处理能力的曝光机文件自动检查系统的使 用方法进行说明。 0037 通过操作终端对建立曝光机文件相关条件的参数信息进行整理， 产生宏运行模板 文件， 然后将光罩信息输入到该模板文件中， 工程师根据建立曝光机文件相关条件的参数 信息和光罩信息手动输入曝光机文件 （即建立曝光机文件） ， 然后运行宏， 以对建立的曝光 机文件进行检查， 在运行宏的过程中可以选取若干曝光机文件进行检查， 最后通过宏运行 模板反馈出检查结果。 0038 综。
19、上所述， 本发明的曝光机文件自动检查系统通过对 DS 光罩信息、 曝光机文件建 立条件参数信息和曝光机文件三者进行关联， 使得对建立的曝光机文件进行自动化检查成 为可能。 并且， 由于本系统还能够对曝光机文件进行批量的检查， 并能够对检查的结果进行 批量地输出， 这可以使工程师对大量的曝光机文件中的错误文件和正确文件一目了然， 从 说 明 书 CN 103617170 A 5 4/4 页 6 而可以方便、 及时地对错误的曝光机文件进行发现和处理， 提高了曝光机文件建立的正确 率和工作效率。 0039 对于本领域的技术人员而言， 阅读上述说明后， 各种变化和修正无疑将显而易见。 因此， 所附的权利要求书应看作是涵盖本发明的真实意图和范围的全部变化和修正。在权 利要求书范围内任何和所有等价的范围与内容， 都应认为仍属本发明的意图和范围内。 说 明 书 CN 103617170 A 6 1/1 页 7 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103617170 A 7 。