具体实施方式
以下，基于附图详细说明本发明的实施方式所涉及的彩色滤光片基板、使用它的显示装置以及显示装置的制造方法。尚，本发明，不为以下的实施方式所限定。还有，在此，用液晶显示装置作为显示装置加以说明。
(实施方式1)
(彩色滤光片基板11及其使用它的液晶显示装置10的构成)
图1，表示液晶显示装置10的剖面图。液晶显示装置10，是由包括相对的彩色滤光片基板11及薄膜晶体管基板12、设置在它们之间的液晶层13(显示媒体层)、设置在相对两基板之间未图示的柱状间隔粒子的液晶显示面板14以及未图示的后照灯等构成的。
彩色滤光片基板(CF基板11)，在玻璃基板15上形成了由赤(R)、绿(G)以及青(B)三原色形成的色层16，它们构成显示部。作为色层16，除RGB的组合外，还可以使用青绿色(cyan)、浓紫红色(magenta)、黄色(yellow)的补色。
在色层16上分别形成了未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置为得到对比度的镶边的黑底17(遮光层)形成遮光部。在黑底17上，形成了紫外线扩散基础层18(紫外线扩散机构)。
紫外线扩散基础层18，是由树脂材料或陶瓷材料等形成的，其表面形成为凹凸状，构成凹凸部。表面的凹凸形状，可以是任何形状的，也可以是半球状、圆锥状、角锥状或者是柱状等的突起的多个形成的，还可以是连续起伏整个面上形成的。紫外线扩散基础层18，其表面由紫外线反射膜19覆盖构成紫外线反射面110。
紫外线反射膜19，是由Al或Ag等的反射率高的金属、或是它们的合金形成的。还有，为了降低观测者一侧的反射率，在紫外线反射膜19和紫外线扩散基础层18之间设置Cr等反射率低的金属亦可。还有，同样地，紫外线反射膜19和紫外线扩散基础层18之间设置SiO2贴紧层亦可。再有，在紫外线反射膜19上，还可以设置SiO2等的保护层或增反射膜。
薄膜晶体管基板(TFT基板12)，是由玻璃基板111、玻璃基板111上分别形成的未图示的栅电极、源电极以及漏电极等的薄膜晶体管(TFT)元件、透明绝缘层、像素电极以及定向膜等构成。电连接薄膜晶体管(TFT)元件的布线中，由Al等形成的布线112，为了显示装置的窄边缘，设置在遮光部中。
密封材料113，设置在形成于CF基板11上的黑底17上的紫外线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。密封材料113，是由基本聚合体的合成树脂(有机玻璃)、丙烯树脂等的紫外线固化型密封剂构成。
(液晶显示装置10的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式1所涉及的液晶显示装置10的制造方法。
(CF基板11的制造方法)
首先，准备玻璃基板15。并且，玻璃基板15上成为遮光部分区域的上额边缘部10mm以下，在像素间用喷镀法等形成宽度为5至50μm的黑底17。接下来，在玻璃基板15上的成为显示部的区域的整个面上叠置分散了赤色颜料的树脂膜(干膜)，进行曝光、显像以及烘烤(热处理)，形成第一色层(赤)。接下来，重叠在第一色层上，整个面上叠置分散了绿色颜料的树脂薄片，进行曝光、显像以及烘烤(热处理)，形成第二色层(绿)。同样，形成第三色层(青)。
尚，色层16的形成方法，取代叠置干膜，通过旋转(spin)、缝隙涂层(slit coat)整面涂布分散了颜料的感光性树脂材料亦可。再有，着色层的各色形成的顺序，没有特别的限定，是其他的顺序亦可。
接下来，色层16上镀气ITO形成相对电极，接下来形成定向膜。
接下来，在黑底17上形成薄膜层，对这个薄膜层挤压表面是多条细微的凹凸形状的的加工模型在薄膜层的表面设置凹凸形状，形成紫外线扩散基础层18。形成紫外线扩散基础层18后，以覆盖其表面的形式形成Al等的金属薄膜得到紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板11。
尚，作为紫外线扩散基础层18的形成方法，在表面具有多条细微凹凸形状的临时支撑体上叠层薄膜层，在黑底17上临摹薄膜层亦可。临摹薄膜的表面上扩散光得到的形成了凹凸形状面的临时支撑体，可以使用通过挤压表面是多条细微的凹凸形状的加工模型制造的。还有，设置基础薄膜能够变形的涂底层，在这个层上挤压表面是多条细微凹凸形状的加工模型，将通过固化涂底层工序形成的取代基础薄膜使用亦可。还有，基础薄膜的表面也可以使用喷砂处理的薄膜。
作为表面是多条细微的凹凸形状的加工模型或临时支撑体的制作方法之一，有以下的做法。也就是，在绝缘板上涂布光敏抗蚀剂后，或者是用具有所规定的掩模图案的光掩模曝光显像、或者是用激光切割后，在图案形成面上通过真空镀气法或喷镀法等形成(导电化处理)银或镍膜，通过电铸镍叠层，由从绝缘板剥离工序制作father原型。在这个father原型上进行剥离处理再次进行镍电铸，从father原型剥离制作母原型，通过使用这个母原型形成多数细微的凹凸，制作加工型或者支撑体。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，准备玻璃基板111，通过喷镀法形成由Ta或Al/Ti形成的栅电极，图案化。接下来作为栅极绝缘膜形成SiNx，作为薄膜形成半导体a-Si、p-Si或单结晶Si。接下来，作为蚀刻保护膜形成SiNx，进行图案形成。接下来形成接线柱孔、漏电极以及源电极。再有，通过同一工序或者另外的工序，在基板端部设置驱动器，形成薄膜晶体管。再有，在所规定的区域形成透明绝缘层。接下来，真空镀气ITO再图案形成，形成像素电极。接下来，经过照相平面印刷工序形成多个为规定单元厚度的柱状间隔粒子。尚，即可以是柱状间隔粒子形成在CF基板11一侧，也可以使用散布球状间隔粒子的方式。
通过以上的工序，制作薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板14的形成工序)
接下来，用图11至图16说明液晶显示面板14的形成工序。
首先，如图11所示的形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线112的遮光部上，涂布如图12所示的连续不间断的密封材料113。
接下来，如图13所示那样，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12滴下一滴为2mg的液晶材料114。在此之际，液晶材料114滴到薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内。
接下来，如图14所示那样，液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板11。这时，粘合的CF基板11剂薄膜晶体管(TFT)基板12中由密封材料113围起来的区域上，形成了液晶显示单元。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中粘合的薄膜晶体管(TFT)基板12和CF基板11之间的液晶材料114由于大气压的作用扩散。
[00721接下来，如图15所示那样，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板11的遮光部构成的紫外线反射面110。因为紫外线反射面110形成在形成为凹凸状的紫外线扩散基础层18的表面，所以，到达紫外线反射面110的紫外线150，在被反射的同时对应凹凸形状被扩散。
扩散反射的紫外线150，折回再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，如图16所示那样，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板14，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置10。
(实施方式2)
(彩色滤光片基板21及其使用它的液晶显示装置20的构成)
图2，表示本实施方式2所涉及的液晶显示装置10的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置20，是由薄膜晶体管基板12及CF基板21、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板24、以及未图示的后照灯等构成。
CF基板21，在玻璃基板15上形成了构成显示部的色层16，未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，形成了设置为得到对比度的镶边的黑底17的遮光部。在黑底17上，形成了紫外线扩散基础层28。
紫外线扩散基础层28，是由树脂材料或陶瓷材料等形成的，其表面形成为凹凸状，构成凹凸部。表面的凹凸形状，向着垂直于CF基板21的显示预定区域(设置液晶层13的区域)的面，以向着它的相反一侧的区域形成了倾斜面。尚，CF基板21的凹凸形状，只要是将接受的紫外线从液晶层13向外侧反射无论任何形状均可。紫外线扩散基础层28，其表面由紫外线反射膜19覆盖着。
密封材料113，设置在形成于CF基板21上的黑底17上的紫外线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置20的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式2所涉及的液晶显示装置20的制造方法。还有，与上述实施方式表示的相同的部分，省略其说明。
[00821(CF基板21的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成薄膜层，对这个薄膜层挤压表面是多条细微的凹凸形状的的加工模型在薄膜层的表面设置凹凸形状，形成紫外线扩散基础层28。形成紫外线扩散基础层28后，以覆盖其表面的形式形成Al等的金属薄膜得到紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板21。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板24的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线112的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板21。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板21的遮光部构成的紫外线反射面110。因为紫外线反射面110形成在形成为凹凸状的紫外线扩散基础层28的表面，所以，到达紫外线反射面110的紫外线150，在被反射的同时对应凹凸形状被扩散。
扩散反射的紫外线150，折回再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线而固化。还有，因为紫外线扩散基础层28的凹凸形状是由垂直面和倾斜面构成的，所以，从液晶层13向外反射在其表面形成的紫外线反射膜19的表面(紫外线反射面110)接受的紫外线。因此，反射紫外线不朝液晶层13，液晶层13上不照射紫外线150。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板14，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置20。
(实施方式3)
(彩色滤光片基板及其使用它的液晶显示装置20的构成)
图3，表示本实施方式3所涉及的液晶显示装置30的剖面图。还有，与上述实施方式所示相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置30，是由薄膜晶体管(TFT)基板12及CF基板31、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板34、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板31，在玻璃基板15上分别形成了色层16、未图示的相对电极以及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上，形成了紫外线扩散基础层18(紫外线扩散机构)。
黑底17，其表面形成为凹凸状，由它们构成紫外线扩散机构。黑底17表面的凹凸形状，可以是任何形状的，也可以是半球状、圆锥状、角锥状或者是柱状等的多个突起状形成的，还可以是小坡度连续起伏整个面上形成的。黑底17，其表面由紫外线反射膜19覆盖。
薄膜晶体管(TFT)基板12，是由玻璃基板111、玻璃基板111上分别形成的未图示的栅电极、源电极以及漏电极等的薄膜晶体管(TFT)元件、分别未图示的透明绝缘层、像素电极以及定向膜等构成。
密封材料113，设置在形成于CF基板11上的黑底17上的紫外线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置30的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式3所涉及的液晶显示装置30的制造方法。还有，与上述实施方式所示相同的部分，省略其说明。
(CF基板31的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，通过蚀刻黑底17的表面等的处理，形成凹凸形状。其后，以覆盖黑底17表面的形式形成Al等的金属薄膜得到紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板31。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板34的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线112的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板31。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板11的遮光部构成的紫外线反射面110。因为紫外线反射面110形成在形成为凹凸状的黑底17的表面，所以，到达紫外线反射面110的紫外线150，在被反射的同时对应凹凸形状被扩散。
扩散反射的紫外线150，折回再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板34，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置30。
(实施方式4)
(彩色滤光片基板41及其使用它的液晶显示装置40的构成)
图4，表示本实施方式4所涉及的液晶显示装置40的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置40，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板41、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板44、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板41，在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16，未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19。
密封材料113，设置在形成于CF基板41上的黑底17上的紫外线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。密封材料113，每100重量单位含有0.01至1.00重量单位的折射率不同的粒子48(紫外线扩散粒子)。折射率不同的粒子48，折射率，例如和密封材料113有0.03以上不同，再有，平均粒径为不影响单元厚度的值，例如1值5μm的粒子。
(液晶显示装置40的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式4所涉及的液晶显示装置40的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板41的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板41。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板44的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的含有折射率不同的粒子48的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板41。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板41的遮光部构成的紫外线反射面110，再度照射密封材料113。
这时，因为密封材料113含有折射率不同的粒子48，所以，紫外线150，由密封材料113和折射率不同的粒子48的界面反射扩散到广范围。扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板44，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置40。
(实施方式5)
(彩色滤光片基板51及其使用它的液晶显示装置50的构成)
图5，表示本实施方式5所涉及的液晶显示装置50的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置50，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板51、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板54、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板51，在玻璃基板15上分别形成了构成显示部的色层16，未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19。
密封材料113，设置在形成于CF基板51上的黑底17上的紫外线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。密封材料113，每100重量单位含有0.01至1.00重量单位的反射紫外线粒子58(紫外线扩散粒子)。反射紫外线粒子58，例如，表面处理为镜面，平均粒径为不影响单元厚度的值，例如1值5μm的粒子。
(液晶显示装置50的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式5所涉及的液晶显示装置50的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板51的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板51。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板54的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的含有反射紫外线粒子58的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板51。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由A1等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板41的遮光部构成的紫外线反射面110，再度照射密封材料113。
这时，因为密封材料113含有反射紫外线150的粒子58，所以，紫外线150，由密封材料113和反射紫外线的粒子58的界面反射扩散到广范围。扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板54，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置50。
(实施方式6)
(彩色滤光片基板61及其使用它的液晶显示装置60的构成)
图6，表示本实施方式6所涉及的液晶显示装置60的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置60，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板61、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板64、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板61，在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16，未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19，在紫外线反射膜19上形成了紫外线扩散层68。
紫外线扩散层68，是由能够使紫外线透过的透明材料形成的。还有，紫外线扩散层68，还可以是由树脂材料形成的紫外线扩散树脂层。紫外线扩散层68，这层的表面与密封材料113的折射率不同，且，形成为凹凸状等的扩散紫外线的形状。
密封材料113，设置在形成于CF基板61上形成的紫外线扩散层68和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置60的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式6所涉及的液晶显示装置60的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板61的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19及紫外线扩散层68。
通过以上的工序，完成CF基板61。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板64的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板61。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板61的遮光部构成的紫外线反射面110的话，到达其表面上形成的紫外线扩散层68被扩散。
扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线150而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板44，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置60。
(实施方式7)
(彩色滤光片基板71及其使用它的液晶显示装置70的构成)
图7，表示本实施方式7所涉及的液晶显示装置70的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置70，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板71、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板74、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板71，在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16，未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19。
在紫外线反射膜19上，形成了多个透镜构成的层(微透镜层78)。微透镜层78，是由能够透过紫外线的透明材料形成的。
密封材料113，设置在形成于CF基板71上形成的微透镜层78和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置70的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式7所涉及的液晶显示装置70的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板71的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19及微透镜层78。
通过以上的工序，完成CF基板71。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板74的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板71。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12一侧的显示部设置了遮光掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板71的遮光部构成的紫外线反射面110的话，到达其表面上形成的微透镜层78被扩散。
扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区域116由反射紫外线150而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热·除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板44，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置70。
(实施方式8)
(彩色滤光片基板及其使用它的液晶显示装置80的构成)
图8，表示本实施方式8所涉及的液晶显示装置80的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置80，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板81、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板84、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板81，在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16，未图示的相对电极、定向膜以及柱状间隔粒子120。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19，在紫外线反射膜19上形成了紫外线扩散层88。
紫外线扩散层88，是由能够使紫外线透过的透明材料形成的。还有，上述柱状间隔粒子120也由这个透明材料形成。紫外线扩散层88，其表面形成为凹凸状等的扩散紫外线的形状。
密封材料113，设置在形成于CF基板81上形成的紫外线扩散层88和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置80的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式8所涉及的液晶显示装置80的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板81的制造方法)
首先，与实施方式1一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。这时，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
接下来，用相同材料在同一工序中形成柱状间隔粒子120及紫外线扩散层88。
通过以上的工序，完成CF基板81。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。这时，还可以在薄膜晶体管(TFT)基板12上再形成柱状间隔粒子120。
(液晶显示面板84的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板81。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，与实施方式6一样通过紫外线150固化密封材料113后，完成液晶显示装置80。
尚，本实施方式8中，作为紫外线扩散机构使用了与实施方式6(紫外线扩散层68)相同的构造，但是，并不限于此，还可以是实施方式1或2所使用的方法。即便是在这种情况下，紫外线扩散机构及柱状间隔粒子120可以用相同的材料在同一工序中形成。
(实施方式9)
(彩色滤光片基板91及其使用它的液晶显示装置90的构成)
图9，表示本实施方式9所涉及的液晶显示装置90的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置90，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板91、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板94、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板91，在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16，覆盖层130、未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19，在紫外线反射膜19上形成了紫外线扩散层98。
紫外线扩散层98，是由能够使紫外线透过的透明材料形成的。还有，上述覆盖层130也由这个透明材料形成。
密封材料113，设置在形成于CF基板91上形成的紫外线扩散层98和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置90的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式9所涉及的液晶显示装置90的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板91的制造方法)
首先，在玻璃基板15上分别形成色层16及黑底17。
接下来，用相同材料在同一工序，在色层16上形成覆盖层130，在黑底17上形成紫外线扩散层98。
接下来，在覆盖层130上形成相对电极以及定向膜。
通过以上的工序，完成CF基板91。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板94的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板91。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，与实施方式6一样通过紫外线150固化密封材料113后，完成液晶显示装置90。
尚，本实施方式9中，作为紫外线扩散机构使用了与实施方式6(紫外线扩散层68)相同的构造，但是，并不限于此，还可以是实施方式1或2所使用的方法。即便是在这种情况下，紫外线扩散机构及覆盖层130可以用相同的材料在同一工序中形成。
(实施方式10)
(彩色滤光片基板101及其使用它的液晶显示装置100的构成)
图10，表示本实施方式10所涉及的液晶显示装置100的剖面图。这个液晶显示装置100，是能够进行透过模式的显示和反射模式的显示双方的半透过性液晶显示装置。
液晶显示装置100，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板101、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板104、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板101，是由玻璃基板15、在玻璃基板15上形成的色层16、未图示的相对电极、台阶层以及定向膜构成的。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。台阶层140，具有所规定的厚度并形成在应当成为CF基板101的反射区域的区域。台阶层140的厚度，最好的是近似液晶层13的厚度的一半。相对于反射模式中用于显示的光两次通过液晶层13，而反射模式中用于显示的光只是一次通过液晶层13。因此，如果将光透过显示部分的液晶层13的厚度设定成光反射显示部分的液晶层13的厚度的两倍，两者的光路长度就会相等，就可以由双方的显示模式实现良好的显示。
在黑底17上形成了紫外线反射膜19及紫外线扩散层108。
薄膜晶体管(TFT)基板12，是在玻璃基板111上形成未图示的薄膜晶体管(TFT)元件及像素电极141构成显示部。在显示部的成为其反射区域的区域上，形成了树脂层的凹凸形状及Al及还有Al的金属膜构成的反射层142，以覆盖反射层142的方式形成未图示的透明绝缘层在表面上平整反射层142的凹凸形状。在透明绝缘层的平整的表面上，形成了定向膜。
密封材料113，设置在形成于CF基板101上形成的紫外线扩散层108和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置100的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式10所涉及的液晶显示装置100的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板101的制造方法)
首先，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、以及相对电极。这时，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
接下来，用相同材料在同一工序中形成台阶层140及紫外线扩散层108，在相对电极及台阶层140上形成定向膜。
通过以上的工序，完成CF基板101。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式1一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板104的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对位置粘合CF基板101。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，与实施方式6一样通过紫外线150固化密封材料113后，完成液晶显示装置100。
尚，本实施方式8中，作为紫外线扩散机构使用了与实施方式6(紫外线扩散层68)相同的构造(紫外线扩散层108)，但是，并不限于此，还可以是实施方式1或2所使用的方法。即便是在这种情况下，紫外线扩散机构及台阶层140可以用相同的材料在同一工序中形成。
还有，液晶显示面板14至104，也可以不形成为本实施方式那样，而是在紫外线固化型树脂密封的液晶显示面板侧面设置液晶注入口，从那里注入液晶，再用紫外线固化型树脂密封。
再有，本实施方式，作为彩色滤光片基板及使用它的显示装置，表示了LCD(liquid crystal display：液晶显示面板)系列，但是，PD(plas ma display：等离子显示面板)、PALC(plasma addressed liquid crystal display：等离子地址液晶显示面板)、有机EL(organic electro luminesc ence)、无机EL(inorganic electro luminescence)、FED(field emission display：电场释放显示面板)、或者SED(surface-conduction electron-emitter display：表面电场显示面板)等系列均可。
(作用效果)
接下来，说明作用效果。
本实施方式1至10所涉及的显示装置10至100，是包括相互相对设置的CF基板11至101及薄膜晶体管(TFT)基板12、和以夹在它们之间的方式设置的液晶层13的液晶显示装置，是以：液晶层13，外部由CF基板11至101及薄膜晶体管(TFT)基板12间设置的紫外线固化型树脂形成的密封材料113密封，CF基板11至101，密封材料113的对应部分设置了黑底17形成了遮光部，另一方面，薄膜晶体管(TFT)基板12，密封材料113的对应部分形成为透明地，遮光部，密封材料113一侧的面构成紫外线反射面110，为特征的。
只要根据这样的构成，在设置了黑底17的遮光部上设置了由紫外线固化型树脂形成的密封材料113的液晶显示装置中，通过紫外线照射密封这个CF基板11至101和薄膜晶体管(TFT)基板12。在此之际，是从形成为透明地薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部照射紫外线固化密封材料113的，但是，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射的紫外线由在CF基板11至101的遮光部上构成的紫外线反射面110向密封材料113反射，再次照射密封材料113。为此，即便是在基板上存在形成的布线用Al等妨碍紫外线射向密封材料113的物件，通过从紫外线反射面110再次紫外线照射密封材料113就能使密封材料113未固化的部分固化。因此，通过通常的紫外线照射，能够更有效且更容易的进行密封材料113的固化。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置10至100，紫外线反射面110还可以是由铝或银形成的。
只要根据这样的构成，因为紫外线反射面110是由铝或银形成的，紫外线反射面110的反射率增高，能够更有效且更容易的进行密封材料113的固化。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置20，紫外线反射面110，还可以构成为将接收的紫外线从液晶层13向外反射。
只要根据这样的构成，能够抑制由紫外线反射面110反射的紫外线射入液晶层13。为此，就能够控制液晶受到紫外线的影响给与显示品位的坏影响。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置10至100，还可以有扩散由紫外线反射面110反射的紫外线的紫外线扩散机构18至108。
只要根据这样的构成，通过由紫外线扩散机构18至108扩散由紫外线反射面110反射的紫外线，可以向被遮光而未固化残留的密封材料113更有效的照射紫外线。因此，就能够有效且容易的固化密封材料113的全部区域。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置10至30，紫外线扩散机构是在遮光部形成的凹凸部，紫外线反射面110还可以形成在凹凸部上。
只要根据这样的构成，因为紫外线扩散机构是在遮光部形成的凹凸部，紫外线反射面110又形成在凹凸部上，所以，到达紫外线反射面110的紫外线被反射的同时对应凹凸部被散射。为此，就能够更有效且容易的固化密封材料113的全部区域。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置30，凹凸部还可以是由遮光部的黑底17形成的。
只要根据这样的构成，因为凹凸部是由遮光部的黑底17形成的，所以，作为凹凸部也可以不使用新的部件，只要将黑底17形成为凹凸部既可。为此，就可以有效的形成紫外线扩散机构。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置40、50，紫外线扩散机构，还可以是由在密封材料113中含有的紫外线扩散粒子48、58构成的。
只要根据这样的构成，通过将紫外线扩散粒子48、58预先掺入密封材料113中，在通过将密封材料113提供基板就能够同时进行紫外线扩散机构的设置。为此，制造工序中效率变好的有利点。再有，将紫外线扩散粒子48、58掺入密封材料113的话，因为可以使紫外线扩散机构均匀的混入密封材料113中，能够更有效的进行紫外线的扩散。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置40，还可以是紫外线扩散粒子与密封材料113折射率不同的粒子48。
只要根据这样的构成，因为紫外线扩散粒子是与密封材料113折射率不同的粒子48，所以，密封材料113和紫外线扩散粒子的界面紫外线折射就能更有效的扩散到密封材料113整体。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置50，紫外线扩散粒子还可以是反射紫外线的粒子58。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散粒子是反射紫外线的粒子58，所以，由紫外线扩散粒子紫外线就能更有效的扩散到密封材料113整体。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置60至100，紫外线反射面110及紫外线扩散机构68至108，还可以按照这个顺序设置在黑底17上。
只要根据这样的构造，因为紫外线反射面110及紫外线扩散机构68至108按照这个顺序设置在黑底17上，所以，紫外线由紫外线反射面110反射后，再由紫外线扩散机构68至108扩散。因此，密封材料113整体上充分的照满紫外线，就能够更有效的固化密封材料113。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置60、80至100，紫外线扩散机构还可以是紫外线扩散树脂层68、88至108。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散机构是紫外线扩散树脂层68、88至108，所以，紫外线扩散机构的形状，就能够容易的制作所希望的形状。因此，就可以容易的向密封材料113整体或有选择地向所希望的位置扩散紫外线。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置70，紫外线扩散机构还可以是与密封材料113折射率不同的凹凸层78。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散机构是与密封材料113折射率不同的凹凸层78，所以，反射的紫外线由于密封材料113和凹凸层78的界面的折射扩散而在密封材料113整体上照射充分的紫外线，就可以有效的固化密封材料113。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置70，紫外线扩散机构还可以是微透镜层78。
只要根据这样的构成，因为紫外线扩散机构是微透镜层78，所以，由简单的构造就能够形成紫外线扩散机构。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置80，在CF基板101及薄膜晶体管(TFT)基板12之间设置柱状间隔粒子120的同时，柱状间隔粒子120还可以用与紫外线扩散机构88相同的材料形成。
只要根据这样的构造，因为在CF基板101及薄膜晶体管(TFT)基板12之间设置柱状间隔粒子120的同时，柱状间隔粒子120还用与紫外线扩散机构88相同的材料形成，所以，在同一工序用相同的材料能够分别形成柱状间隔粒子120和紫外线扩散机构88。为此，装置的制造效率良好。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置90，显示部的显示元件被覆盖层130覆盖的同时，覆盖层130还可以与紫外线扩散机构98用相同材料形成。
只要根据这样的构造，显示部的显示元件被覆盖层130覆盖的同时，覆盖层130还与紫外线扩散机构98用相同材料形成，所以，在同一工序用相同的材料可以分别形成覆盖层130和紫外线扩散机构98。为此，装置的制造效率良好。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置100，在显示部是由为限制CF基板101和薄膜晶体管(TFT)基板12的基板间隙而设置了台阶层140的光反射区域和光透过区域构成的同时，设置在光反射区域的台阶层140还可以是和紫外线扩散机构108用相同的材料形成。
只要根据这样的构造，因为在显示部是由为限制CF基板101和薄膜晶体管(TFT)基板12的基板间隙而设置了台阶层140的光反射区域和光透过区域构成的同时，设置在光反射区域的台阶层140还是和紫外线扩散机构108用相同的材料形成的，所以，在同一工序用相同的材料可以分别形成设置在光反射区域的台阶层140和紫外线扩散机构108。为此，装置的制造效率良好。
本实施方式所涉及的液晶显示装置10至100的制造方法，各自都以包括：准备具有显示单元形成预定部的CF基板11至101及薄膜晶体管(TFT)基板12的步骤；为将CF基板11至101的显示单元形成部围成封闭状态在CF基板11至101上形成黑底17的步骤；在CF基板11至101上形成的黑底17上设置紫外线反射面110的步骤；在CF基板11至101或薄膜晶体管(TFT)基板12上的遮光部预留部上不间断的设置密封材料113的步骤；在设置了密封材料113的CF基板11至101或薄膜晶体管(TFT)基板12的显示单元形成预定部中供给液晶材料114的步骤；粘合CF基板11至101及薄膜晶体管(TFT)基板12中供给了液晶材料114的一方和另一方的步骤；从粘合的薄膜晶体管(TFT)基板12的表面向密封材料113照射紫外线固化密封材料113制作粘合基板的步骤；为特征的。
根据这样的构成，在设置了黑底17的遮光部上设置了由紫外线固化型树脂形成的密封材料113的液晶显示装置中，通过用紫外线照射这个CF基板11至101合薄膜晶体管(TFT)基板12固化密封材料113密封它们。在此之际，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射的紫外线由CF基板11至101的遮光部上构成的紫外线反射面110反射向密封材料113，再次照射密封材料113。为此，即便是在基板上形成布线用Al等妨碍紫外线向密封材料113进入的物件存在，通过从紫外线反射面110紫外线再次照射密封材料113就能够固化密封材料113的未固化部分。因此，通过通常的紫外线照射，就能够更有效且更容易的进行密封材料113的固化。
本实施方式所涉及的彩色滤光片基板11至101，是以包括：包含显示部的玻璃基板15；沿着玻璃基板15上的显示部外周设置的构成遮光部的黑底17；设置在玻璃基板15上的黑底17上的紫外线反射面110；为特征的。
只要根据这样的构造，在设置了黑底17的遮光部上设置了由紫外线固化型树脂形成的密封材料113的液晶显示装置中，存在着以下的有利点。也就是，通过紫外线照射密封这个彩色滤光片基板11至101合薄膜晶体管(TFT)基板12时，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对应部照射紫外线固化密封材料113。在此之际，从薄膜晶体管(TFT)基板12一侧照射的紫外线通过构成彩色滤光片基板11至101的遮光部的紫外线反射面110向密封材料113反射，再次照射密封材料113。为此，即便是在薄膜晶体管(TFT)基板12上形成有布线用Al等妨碍紫外线向密封材料113进入的物件存在，通过从紫外线反射面110紫外线再次照射密封材料113就能够固化密封材料113的未固化部分。因此，通过通常的紫外线照射，就能够更有效且更容易的进行密封材料113的固化。