《铝镁合金的瓷质氧化法.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《铝镁合金的瓷质氧化法.pdf（4页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、10申请公布号CN102312261A43申请公布日20120111CN102312261ACN102312261A21申请号201110240293722申请日20110822C25D11/08200601C25D11/1020060171申请人吴江市精工铝字制造厂地址215214江苏省苏州市吴江市北厍镇厍南路698号72发明人谢利荣74专利代理机构南京经纬专利商标代理有限公司32200代理人李纪昌54发明名称铝镁合金的瓷质氧化法57摘要本发明涉及一种铝镁合金的瓷质氧化法，其特征在于将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫（50）、压缩空气吹干、烘干后，即。
2、可在铝材表面成瓷质膜；其中化学氧化步骤所采用的氧化液成分如下硫酸110G/L、草酸15G/L、硼酸011G/L、硫酸镍15G/L、硫酸铵011G/L；化学氧化步骤所采用的工艺参数如下电流强度051A/DM2、温度4055，时间4050MIN、电压2040V。本发明适用于铝镁合金，获得的膜呈银灰色，膜厚度为515微米，膜层的结合力良好，硬度和耐磨性高，绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好。51INTCL19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书1页说明书2页CN102312263A1/1页21铝镁合金的瓷质氧化法，其特征在于将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、。
3、清洗、热水烫（50）、压缩空气吹干、烘干后，即可在铝材表面成瓷质膜；其中化学氧化步骤所采用的氧化液成分如下硫酸110G/L、草酸15G/L、硼酸011G/L、硫酸镍15G/L、硫酸铵011G/L；化学氧化步骤所采用的工艺参数如下电流强度051A/DM2、温度4055，时间4050MIN、电压2040V。权利要求书CN102312261ACN102312263A1/2页3铝镁合金的瓷质氧化法0001技术领域0002本发明涉及一种铝镁合金的瓷质氧化法，属于铝合金的表面处理领域。背景技术0003镁是铝合金的主要合金元素，在铝中的最大固溶度为174，能够显著增加铝的强度而不至于过分降低延展性能，且腐蚀。
4、性和焊接性能都有优良，在大气中镁铝合金表面与氧气作用形成氧化膜，该氧化膜为非晶态、且不均匀、不连续，不能作为可靠的防护、装饰性膜层，为了提高铝合金的表面硬度、耐磨性和耐蚀性，通常采用阳极氧化法在铝及铝合金表面形成三氧化二铝的钝化层，瓷质阳极氧化是利用铝合金在电解液中生成阳极氧化膜的同时，一些灰色物质被吸附在生长的氧化膜中，从而获得厚度约620微米均匀、光滑、有光泽的氧化膜。传统一般采用以下两种方法1、草酸加入钛、钴、钍系的工艺，该工艺价格较贵，工艺不稳定；2、以铬酸为基础的混合液，价廉，但膜的硬度较低，对人和环境的影响太大。发明内容0004本发明所要解决的技术问题是提供一种铝镁合金的瓷质氧化法。
5、，膜层均匀、硬度高。0005为解决上述技术问题，本发明是这样实现的铝镁合金的瓷质氧化法，其特征在于将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫（50）、压缩空气吹干、烘干后，即可在铝材表面成瓷质膜；其中化学氧化步骤所采用的氧化液成分如下硫酸110G/L、草酸15G/L、硼酸011G/L、硫酸镍15G/L、硫酸铵011G/L；化学氧化步骤所采用的工艺参数如下电流强度051A/DM2、温度4055，时间4050MIN、电压2040V。0006本发明有以下积极的效果本发明适用于铝镁合金，获得的膜呈银灰色，膜厚度为1020微米，膜层的结合力良好，硬度和耐磨性高，绝热性、。
6、电绝缘性和抗蚀性良好，可用于食品用具、日用品、各种仪表以及电子仪器的防护和装饰。0007硼酸、草酸控制溶液的氧化反应速度和改善膜层的外观、是膜层致密。0008硫酸铵，是溶液中的活化剂，与铬酸共同作用，形成致密的氧化膜层。0009温度低于40，形成的膜层薄，抗蚀能力差，高于55，膜层疏松。0010时间温度结合，当温度较低时，需要适当延长时间，反之，当温度较高时，适当缩短时间。具体实施方式0011下面结合具体实施方式对本发明做进一步的详细说明。说明书CN102312261ACN102312263A2/2页40012实施例1铝镁合金的瓷质氧化法，其特征在于将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中。
7、和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫（50）、压缩空气吹干、烘干后，即可在铝材表面成瓷质膜；其中化学氧化步骤所采用的氧化液成分如下硫酸1G/L、草酸1G/L、硼酸05G/L、硫酸镍2G/L、硫酸铵05G/L；化学氧化步骤所采用的工艺参数如下电流强度05A/DM2、温度55，时间40MIN、电压20V。0013获得的膜呈银灰色，膜厚度为15微米，膜层的结合力良好，硬度和耐磨性高，绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好。0014实施例2铝镁合金的瓷质氧化法，其特征在于将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫（50）、压缩空气吹干、烘干后，即可在铝材表面成瓷质膜；其中化学氧化步。
8、骤所采用的氧化液成分如下硫酸5G/L、草酸2G/L、硼酸08G/L、硫酸镍3G/L、硫酸铵06G/L；化学氧化步骤所采用的工艺参数如下电流强度1A/DM2、温度40，时间50MIN、电压30V。0015获得的膜呈银灰色，膜厚度为18微米，膜层的结合力良好，硬度和耐磨性高，绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好。0016实施例3铝镁合金的瓷质氧化法，其特征在于将铝材经过机械抛光、化学除油及腐蚀、清洗、中和、清洗、化学氧化、清洗、热水烫（50）、压缩空气吹干、烘干后，即可在铝材表面成瓷质膜；其中化学氧化步骤所采用的氧化液成分如下硫酸10G/L、草酸5G/L、硼酸1G/L、硫酸镍1G/L、硫酸铵1G/L；化学氧化步骤所采用的工艺参数如下电流强度1A/DM2、温度45，时间45MIN、电压40V。0017获得的膜呈银灰色，膜厚度为20微米，膜层的结合力良好，硬度和耐磨性高，绝热性、电绝缘性和抗蚀性良好。0018上述具体实施方式不以任何形式限制本发明的技术方案，凡是采用等同替换或等效变换的方式所获得的技术方案均落在本发明的保护范围。说明书CN102312261A。