玻璃基板用洗净液组成物 【技术领域】
本发明涉及一种洗净液组成物， 特别是提供一种针对玻璃基板， 具洗净力强、 消泡 性佳且不易侵蚀基板造成基板表面粗糙度增加的玻璃基板用洗净液组成物。背景技术
目前， 作为电视、 个人电脑、 钟表等物品的液晶显示用的玻璃基板， 如钠钙玻璃、 硼 硅玻璃、 硅玻璃、 无碱玻璃等， 可经熔融成形工程制得玻璃母板， 并将玻璃母板切割成任意 尺寸的玻璃基板以供使用。
另外， 近年来常用于彩色液晶显示器、 感测器及色分解装置等的彩色滤光片， 其制 法乃于透明玻璃基板上形成黑色矩阵及红、 绿、 蓝的画素画像， 并使用分散颜料用的感旋旋 旋旋光性树脂， 以一般的光平板印刷 (photolithography) 制得。
然而， 上述切割玻璃母板制作玻璃基板时， 玻璃被切割所产生的切削粉 (glass cullet) 常附着于基板上而妨碍后续的精密的研磨工程、 膜处理工程等。而于研磨工程后， 所使用的研磨液 (slurry) 亦会残留于基板上造成污染。
因此， 上述制造工程中导入了玻璃基板的洗净工程， 而基板的制造及加工厂商为 了提高制造良率， 亦致力于洗净技术的提升。特别是近年来， 对于制品高度信赖性的需求， 以及彩色滤光片的高精度化的走向， 玻璃基板清净化的要求变得愈来愈高。
为有效清除上述基板上残存的附着物， 目前业界改善的方式， 乃采用特定的洗净 液组成物清洗玻璃基板， 如日本特开 2007-131819 号公开特许公报所揭示， 使用含烷基葡 萄糖苷 (alkyl glucoside) 的洗净液组成物、 日本特开 2009-84565 号公开特许公报所揭 示， 使用含非离子性界面活性剂、 水、 碱性化合物及苯磺酸、 甲苯磺酸、 二甲基苯磺酸或羟基 苯磺酸等有机酸 ( 或其盐类 ) 的碱型非离子性界面活性剂组成物等。然而， 使用前述两种 洗净液组成物清洗玻璃基板时， 除了洗净力不佳、 消泡性不佳之外， 尚有侵蚀基板造成表面 粗糙等问题的发生。 发明内容
本发明主要目的在于提供一种洗净液组成物， 特别是提供一种针对玻璃基板， 具 洗净力强、 消泡性佳且不易侵蚀基板造成基板表面粗糙度增加的玻璃基板用洗净液组成 物。
为满足前述目的， 本发明一种玻璃基板用洗净液组成物包含 ： 碱性化合物 (A)、 下 列结构式 (1) 所表示的非离子性界面活性剂 (B)、 还原剂 (C) 以及水 (D) ；
R1-O-(EO)m(PO)n-H 结构式 (1)
式中， R1 表示碳数 6 ～ 20 的含支链的烷基、 烯基或酰基， 或碳数 12 ～ 20 的含支链 的烷基苯基 ； EO 表示乙氧基 (ethylene oxide) ； PO 表示丙氧基 (propylene oxide) ； m 表示 1 ～ 20 的整数 ； n 表示 0 ～ 20 的整数 ； (EO)m(PO)n 之中， 当 n 表示 1 ～ 20 的整数时， (EO) 与 (PO) 的排列可为嵌段 (block) 或随机 (random)。以下逐一对本发明各组成做详细的说明。
[ 碱性化合物 (A)]
本发明所使用的碱性化合物 (A) 包含无机碱性化合物 (A-1) 及 / 或有机碱性化合 物 (A-2)。
本发明的无机碱性化合物 (A-1) 的具体例， 如： 氢氧化锂、 氢氧化钠、 氢氧化钾、 氢 氧化铵等的碱金属氢氧化物 ； 磷酸氢二铵、 磷酸氢二钠、 磷酸氢二钾、 磷酸二氢铵、 磷酸二氢 钠、 磷酸二氢钾等的碱金属或铵的磷酸盐类 ； 硅酸锂、 硅酸钠、 硅酸钾等的碱金属硅酸盐类 ； 碳酸锂、 碳酸钠、 碳酸钾等的碱金属碳酸盐类 ； 硼酸锂、 硼酸钠、 硼酸钾等的碱金属硼酸盐 类。其中， 以碱金属氢氧化物为较佳。上述的无机碱性化合物 (A-1) 可以单独一种使用或 者混合复数种使用。
本发明的有机碱性化合物 (A-2) 包含氢氧四级铵基盐类化合物及有机胺类的有 机碱性化合物。上述氢氧四级铵基盐类化合物的具体例， 如： 氢氧四甲铵 (tetramethyl ammonium hydroxide)、 氢 氧 四 乙 胺、 氢 氧 四 丙 胺、 氢 氧 四 丁 胺、 2- 羟 基 - 氢 氧 三 甲 铵 (2-hydroxyl trimethyl ammonium hydroxide) 等 化 合 物 ； 而有机胺类的具体例如 ： 单 甲 胺、 二 甲 胺、 三 甲 胺、 单 乙 胺、 二 乙 胺、 三 乙 胺、 单 异 丙 胺 (monoisopropylamine)、 二 - 异 丙 胺 (di-isopropylamine)、 二 乙 醇 胺、 三 乙 醇 胺、 2-(2- 胺 基 乙 氧 基 ) 乙 醇 (2-(2-aminoethoxy)ethanol)、 单 异 丙 醇 胺 (monoisopropanol-amine)、 二 异 丙 醇 胺、 三 异 丙 醇 胺、 正 乙 基 乙 醇 胺 (N-ethylethanolamine)、 正 丁 基 乙 醇 胺、 N， N- 二 甲 基 乙 醇 胺 (N， N-dimethylethanolamine)、 N， N- 二 甲 基 丙 醇 胺、 N， N- 二 甲 基 异 丙 醇 胺 (N， N-dimethylisopropanolamine)、 环己胺、 吗啉 (morpholine) 等化合物。上述的有机碱性化 合物 (A-2) 可以单独一种使用或者混合复数种使用。
本发明的有机碱性化合物 (A-2)， 于制造上因不含有金属离子， 故对于薄膜电晶体 等半导体组件较不易产生残影等不良影响。其中， 乃以单乙醇胺、 二乙醇胺、 三乙醇胺以及 单异丙醇胺为较佳。
[ 非离子性界面活性剂 (B)]
本发明的玻璃基板洗净液组成物中， 包含下记结构式 (1) 所表示的非离子性界面 活性剂 (B)。
R1-O-(EO)m(PO)n-H 结构式 (1)
式中， R1 表示碳数 6 ～ 20 的含支链的烷基、 烯基或酰基， 或碳数 12 ～ 20 的含支链 的烷基苯基 ； EO 表示乙氧基 ； PO 表示丙氧基 ； m 表示 1 ～ 20 的整数 ； n 表示 0 ～ 20 的整数 ； (EO)m(PO)n 之中， 当 n 表示 1 ～ 20 的整数时， (EO) 与 (PO) 的排列可为嵌段或随机。
结构式 (1) 中， 当 n ＝ 0 时， 表示 (EO)m(PO)n 仅由乙氧基构成， 当 n 表示为 1 ～ 10 的整数时， 表示 (EO)m(PO)n 系由乙氧基与丙氧基构成。当 (E O)m(PO)n 由乙氧基与丙氧基 构成时， EO 与 PO 的排列可为嵌段， 亦可为随机。其中， 当 EO 与 PO 的排列为嵌段时， 只要各 个平均数于上述范围之内， 则 EO 的嵌段数及 PO 的嵌段数分别可为 1 个， 亦可分别为 2 个以 上。EO 的嵌段数为 2 个以上时， 各嵌段中的重复数可相同， 亦可不同 ； PO 的嵌段数为 2 个以 上时， 各嵌段中的重复数可相同， 亦可不同。
EO 与 PO 的排列为嵌段或随机时， 若 EO 与 PO 的莫耳比 [MEO/MPO] 为 9.5/0.5 ～ 5/5， 可达到高水溶性。而 (EO)m(PO)n 中， 基于高水溶性及低发泡性的考虑下， m 及 n 较佳分别为1 ～ 15， 更佳分别为 1 ～ 10， (m+n) 较佳为 2 ～ 30， 更佳为 2 ～ 20。
上记结构式 (1) 所表示的非离子性界面活性剂 (B) 的具体例如 ： 商品名 SINOPOL E8002、 SINOPOL E8003、 SINOPOL E8008、 SINOPOL E8015( 中日合成化学制 )。
上述的非离子性界面活性剂 (B) 可以单独一种使用或者混合复数种使用。
本发明的玻璃基板洗净液组成物中， 基于碱性化合物 (A)100 重量份， 非离子性界 面活性剂 (B) 的使用量通常为 20 ～ 200 重量份， 较佳为 30 ～ 180 重量份， 更佳为 50 ～ 150 重量份。由于非离子性界面活性剂 (B) 具有高分散性的侧链结构， 故可有效清除玻璃基板 上残存的附着物， 亦可减少起泡现象， 改善消泡性。当非离子性界面活性剂 (B) 的使用量介 于 20 ～ 200 重量份时， 则洗净液对于基板上附着物的洗净力优异， 且消泡性佳， 并可保持玻 璃基板表面的平滑性。若完全未使用非离子性界面活性剂 (B)， 则洗净液有洗净力不佳、 消 泡性不佳等问题。
[ 还原剂 (C)]
本发明所使用的还原剂 (C) 系选自于由脂肪族有机系还原剂、 芳香族有机系还原 剂、 醣系还原剂、 羟胺系还原剂、 磷系还原剂、 硼系错合物还原剂、 硫醇系还原剂及无机含氧 酸系还原剂所组成的群组。
上述脂肪族有机系还原剂的具体例如 ： 蚁酸、 醋酸、 琥珀酸、 乳酸、 苹果酸、 酪酸、 顺 丁烯二酸、 丙酮酸 (2-oxopropanoic acid)、 丙二酸、 没食子酸、 乙醇酸、 酒石酸、 柠檬酸、 葡 萄糖酸、 草酸及其盐类等的有机酸类 ； 甲醛、 乙醛、 丙醛及丙烯醛 (acrolein) 等的醛类 ； 左 旋抗坏血酸 (L-ascorbic acid)、 左旋抗坏血酸硫酸酯、 左旋抗坏血酸磷酸酯、 左旋抗坏血 酸 2- 葡萄糖苷 (L-ascorbic acid 2-glycoside)、 左旋抗坏血酸棕榈酸酯、 左旋抗坏血酸 四异棕榈酸酯、 抗坏血酸异棕榈酸酯、 异抗坏血酸 (erythorbic acid)、 异抗坏血酸磷酸酯、 异抗坏血酸棕榈酸酯、 异抗坏血酸四异棕榈酸酯及其盐类等的还原酮类 ； 碳数 1 ～ 6 的烷基 胺、 碳数 2 ～ 6 的醇胺、 碳数 2 ～ 5 的亚烷基二胺 (alkylenediamine)、 碳数 4 ～ 10 的环胺、 碳数 3 ～ 15 的脒化合物 (amidine)、 碳数 4 ～ 30 的多亚烷基 ( 碳数 2 ～ 6) 多胺等的脂肪 族胺类。
上述碳数 1 ～ 6 的烷基胺的具体例如 ： 甲胺、 乙胺、 丙胺、 异丙胺、 丁胺及己胺等的 单烷基胺 ； 二甲胺、 甲乙胺、 甲丙胺、 甲丁胺、 二乙胺、 乙丙胺及二异丙胺等的二烷基胺。
上述碳数 2 ～ 6 的醇胺的具体例如 ： 单乙醇胺、 二乙醇胺、 三乙醇胺、 二甲氨基乙 醇、 二乙氨基乙醇、 N- 甲基 - 二乙醇胺、 2- 氨基 -2- 甲基 -1- 丙醇、 N-( 氨基乙基 ) 乙醇胺、 N， N- 二甲基 -2- 氨基乙醇及 2-(2- 氨基乙氧基 ) 乙醇等。
上述碳数 2 ～ 5 的亞烷基二胺的具体例如： 乙 二 胺 (ethylenediamine)、 丙 二 胺 (propylenediamine)、 丙 撐 二 胺 (trimethylenediamine)、 丁 二 胺 (tetramethylenediamine) 以及己二胺 (hexamethylenediamine) 等。
上述碳数 4 ～ 10 的環胺的具体例如 ： 哌啶 (piperidine)、 哌嗪 (piperazine) 以 及 1， 4- 二氮杂双环 [2.2.2] 辛烷 (1， 4-diaza-bicyclo[2.2.2]octance， DABCO) 等。
上述碳数 3 ～ 15 的脒化合物的具体例如 ： 1， 8- 二氮雜双環 [5.4.0]-7- 十一烯 (1， 8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene， DBU)、 1， 5- 二 氮 雜 双 環 [4.3.0]-5- 壬 烯 (1， 5-diazabicyclo[4.3.0]-5-nonene， DBN)、 1H- 咪唑、 2- 甲基 -1H- 咪唑、 2- 乙基 -1H- 咪唑、 4， 5- 二氫 -1H- 咪唑、 2- 甲基 -4， 5- 二氫 -1H- 咪唑、 1， 4， 5， 6- 四氢 - 嘧啶以及 1， 6(4)- 二氢嘧啶等。
上述碳数 4 ～ 30 的多亞烷基 ( 碳数 2 ～ 6) 多胺的具体例如 ： 二乙三胺、 三乙四 胺、 四乙五胺、 亞胺二丙胺 (iminobispropylamine) 以及五乙六胺等。
上述芳香族有机系还原剂的具体例如 ： 苯甲醛、 桂皮醛等的芳香族醛类 ； 对-苯 二 胺 (p-phenylenediamine)、 对 - 氨基苯酚等的芳香族胺类 ； 一 元 苯 酚 {3- 羟 基 黄 酮 (3-hydroxy flavone)、 生育酚 [α-、 β-、 γ-、 δ-、 ε- 或 η- 生育酚 (tocopherol)] 等 } 及多元苯酚 (3， 4， 5- 三羟基苯甲酸、 邻苯二酚、 间苯二酚、 对苯二酚、 萘间二酚、 邻苯三酚、 间苯三酚等 ) 等的苯酚化合物等。
上述醣系还原剂的具体例如 ： 五碳醣 ( 如阿拉伯醣、 木醣、 木酮醣、 核酸醣、 核酮醣 等 )、 六碳醣 ( 如葡萄醣、 果醣、 山梨醣、 半乳醣、 塔格醣、 甘露醣等 )、 七碳醣 ( 如天庚酮醣、 马桑醣等 ) 等的单醣类 ； 蔗醣、 麦芽醣、 乳醣、 海藻醣、 纤维双醣、 龙胆双醣等的双醣类 ； 麦芽 三醣、 棉子醣等的三醣类 ； 阿拉伯醣醇、 木醣醇、 核醣醇、 山梨醣醇、 半乳醣醇、 甘露醇等的醣 醇类。
上述羟胺系还原剂的具体例如 ： 羟胺、 二乙基羟胺、 硫酸羟胺、 盐酸羟胺等。
上述磷系还原剂的具体例如 ： 三 (2- 羧基乙基 ) 膦 ； 硼系错合物还原剂的具体例 如： 硼烷 - 第三丁基胺错合物、 硼烷 - 三甲基胺错合物、 硼烷 -N， N- 二乙基苯胺错合物等 ； 硫 醇系还原剂的具体例如 ： 胺基乙烷硫醇 (aminoethanethiol)、 左旋半胱氨酸 (L-cysteine) 等。 上述无机含氧酸系还原剂的具体例如 ： 硫酸氢酸 ( 盐 )、 亚硫酸 ( 盐 )、 亚硫酸氢酸 ( 盐 )、 二亚硫酸 ( 盐 )、 二亚硫磺酸 ( 盐 )、 硫代硫酸 ( 盐 )、 二硫磺酸 ( 盐 )、 多硫磺酸 ( 盐 ) 等的硫的含氧酸类 ； 磷酸氢酸 ( 盐 )、 磷酸氢二酸 ( 盐 )、 亚磷酸 ( 盐 )、 亚磷酸氢酸 ( 盐 )、 次亚磷酸 ( 盐 ) 等的磷的含氧酸类。
本发明的还原剂 (C) 亦可使用硫酸铁 ( Ⅱ )、 氯化锡 ( Ⅳ )、 硫化钠、 硫化铵、 亚硝 酸钠、 氰基硼氢化钠、 硼氢化钠、 双氧水、 碘化氢等的无机还原剂。
上述还原剂 (C) 之中， 以脂肪族有机系、 羟胺系、 硫醇系、 无机含氧酸系为佳， 更佳 为甲醛、 左旋抗坏血酸 ( 盐 )、 异抗坏血酸 ( 盐 )、 单乙醇胺、 二乙醇胺、 N- 甲基 - 二乙醇胺、 左旋半胱氨酸、 硫酸羟胺、 盐酸羟胺、 胺基乙烷硫醇、 亚硫酸 ( 盐 )、 二亚硫酸 ( 盐 )、 硫代硫 酸 ( 盐 )、 亚磷酸 ( 盐 )、 亚磷酸氢酸 ( 盐 )、 次亚磷酸 ( 盐 ) 及双氧水等， 最佳为左旋抗坏血 酸 ( 盐 )、 左旋半胱氨酸、 硫酸羟胺、 亚硫酸 ( 盐 )、 亚磷酸 ( 盐 )、 亚磷酸氢酸 ( 盐 ) 等。上 述的还原剂 (C) 可以单独一种使用或者混合复数种使用。
本发明的玻璃基板洗净液组成物中， 基于碱性化合物 (A)100 重量份， 还原剂 (C) 的使用量通常为 10 ～ 80 重量份， 较佳为 20 ～ 70 重量份， 更佳为 30 ～ 60 重量份。当还原 剂 (C) 的使用量介于 10 ～ 80 重量份时， 则洗净液对于基板上附着物的洗净力优异， 且较不 易有侵蚀玻璃基板造成表面粗糙的问题。 若完全未使用化合物 (C)， 则洗净液有洗净力不佳 以及因易侵蚀玻璃基板造成表面粗糙的问题。
[ 水 (D)]
本发明中所使用的水 (D) 并无特别限制。其具体例如 ： 蒸馏水、 纯水 ( 经离子交换 树脂等行脱盐处理而得的水 )、 超纯水 ( 除无机离子外， 不含有机物、 生菌、 微粒子及溶解气 体 ) 及近年来被提案的各种机能水等。基于金属离子对电子控制回路具不佳影响， 本发明
中所使用的水 (D) 较佳为纯水或超纯水， 更佳为超纯水。其中， 上述超纯水可藉由将自来水 通过活性碳、 离子交换处理、 蒸馏处理后， 必要时以紫外光照射杀菌， 或者通过过滤器而得。 根据 25℃的电阻值来区分， 电阻值在 1MΩ.cm 以上即可称为纯水， 电阻值在 10MΩ.cm 以上 即可称为超纯水。
本发明的玻璃基板洗净液组成物中， 基于碱性化合物 (A)100 重量份， 水 (D) 的使 用量通常为 300 ～ 25,000 重量份， 较佳为 400 ～ 20,000 重量份， 更佳为 500 ～ 15,000 重 量份。当水 (D) 的使用量介于 300 ～ 25,000 重量份时， 较不易有洗剂残留及洗净力下降的 问题。
[ 消泡剂 (E)]
本发明的玻璃基板洗净液组成物， 视需要可进一步添加消泡剂 (E)， 其具体例如 ： 聚硅氧系、 高级醇系、 聚醚系、 脂肪酸酯系、 聚乙二醇系、 矿物油系及包含下记结构式 (2) 所 表示的化合物。
结构式 (2)
式中， m 表示 1 或 2 的整数 ； R 表示下记结构式 (3) 所表示的官能基。
结构式 (3)式中， n 表示 3 ～ 7 的整数。
上 述 的 结 构 式 (2) 所 表 示 的 化 合 物 的 具 体 例 如 ： 商 品 名 SURFYNOL MD-20、 SURFYNOL MD-30(Air products 制 )。
上述的消泡剂 (E) 可单独一种或混合复数种以上使用。
本发明的玻璃基板洗净液组成物中， 基于碱性化合物 (A)100 重量份， 消泡剂 (E) 的使用量介于 0.1 ～ 10 重量份， 较佳为 0.3 ～ 9 重量份， 更佳为 0.5 ～ 8 重量份。消泡剂 (E) 的使用量介于 0.1 ～ 10 重量份时， 除了消泡性佳外， 且较不易有形成粒径较大的微胞造 成洗净液混浊的问题。
[ 添加剂 (F)]
本发明的玻璃基板洗净液组成物中， 选择性地， 可进一步添加添加剂 (F)， 如： 螫 合剂、 抗氧化剂、 pH 调整剂、 缓冲溶剂、 防腐剂、 水溶性有机溶剂、 分散剂等。
本发明的螫合剂的具体例如 ： 乙二胺四乙酸 ( 盐 )(EDTA)、 二乙三胺五乙酸 ( 盐 ) (DTPA)、 三乙四胺六乙酸 ( 盐 )(TTHA)、 羟乙基乙二胺三乙酸 ( 盐 )(HEDTA)、 二羟乙基乙二 胺四乙酸 ( 盐 )(DHEDDA)、 次氮基三乙酸 ( 盐 )(NTA)、 羟乙基亚胺基二乙酸 ( 盐 )(HIDA)、 β- 丙胺酸二乙酸 ( 盐 )、 天冬酰胺酸二乙酸 ( 盐 )、 甲基甘胺酸二乙酸 ( 盐 )、 亚胺基二琥 珀酸 ( 盐 )、 丝胺酸二乙酸 ( 盐 )、 羟基亚胺基二琥珀酸 ( 盐 )、 二羟基乙基甘胺酸 ( 盐 )、 天 冬酰胺酸 ( 盐 )、 麸胺酸 ( 盐 ) 等的胺基多羧酸 ( 盐 ) ； 羟基乙酸 ( 盐 )、 酒石酸 ( 盐 )、 柠檬
酸 ( 盐 )、 葡萄糖酸 ( 盐 ) 等的羟基羧酸 ( 盐 ) ； 甲基二膦酸 ( 盐 )、 胺基三 ( 亚甲基膦酸 ) ( 盐 )、 1- 羟基亚乙基 -1， 1- 二膦酸 ( 盐 )、 乙二胺四 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 )、 己二胺四 ( 亚甲 基膦酸 )( 盐 )、 丙二胺四 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 )、 二乙三胺五 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 )、 三乙四胺 六 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 )、 三胺基三乙基胺六 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 )、 反 -1， 2- 环己二胺四 ( 亚 甲基膦酸 )( 盐 )、 二醇醚二胺四 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 )、 四乙五胺七 ( 亚甲基膦酸 )( 盐 ) 等 的膦酸 ( 盐 ) ； 偏磷酸 ( 盐 )、 三聚磷酸 ( 盐 )、 六偏磷酸 ( 盐 ) 等的缩合磷酸 ( 盐 ) 等。上 述的螫合剂可单独一种或混合复数种以上使用。
本发明的抗氧化剂的具体例如 ： 2， 6- 二 - 第三丁基苯酚、 2- 第三丁基 -4- 甲氧基 苯酚、 2， 4- 二甲基 -6- 第三丁基苯酚等的苯酚系 ； 单辛基二苯胺、 单壬基二苯胺、 4， 4’ -二 丁基二苯胺、 4， 4’ - 二戊基二苯胺、 四丁基二苯胺、 四己基二苯胺、 α- 萘胺、 苯基 -α- 萘胺 等的胺系 ； 吩噻嗪 (phenothiazine)、 季戊四醇四 (3- 月桂基硫代丙酸酯 )、 雙 (3， 5- 第三丁 基 -4- 羥基苄基 ) 硫醚 (bis(3， 5-t-butyl-4-hydroxybenzyl)sulfide) 等的硫系 ； 二亚磷 酸双 (2， 4- 二 - 第三丁基苯基 ) 季戊四醇酯、 亚磷酸一苯二异葵酯、 亚磷酸二苯二异辛酯、 亚磷酸三苯酯等的磷系等。上述的抗氧化剂可单独一种或混合复数种以上使用。
本发明的 pH 调整剂的具体例如 ： 盐酸、 硫酸、 硝酸、 磺胺酸、 磷酸等的无机酸 ； 氢氧 化锂、 氢氧化钠、 氢氧化钾等的无机碱等。上述的 pH 调整剂可单独一种或混合复数种以上 使用。 本发明的缓冲溶剂的具体例如 ： 蚁酸、 醋酸、 琥珀酸、 乳酸、 苹果酸、 酪酸、 顺丁烯二 酸、 丙酮酸、 丙二酸、 没食子酸等的有机酸及盐类 ； 磷酸、 硼酸等的无机酸及其盐类等。上述 的缓冲溶剂可单独一种或混合复数种以上使用。
本发明的防腐剂的具体例如 ： 六 氢 -1， 3， 5- 三 ( 羟 乙 基 )-s- 三 嗪 等 的 三 嗪 (triazine) 衍生物 ； 1， 2- 苯并异噻唑啉 -3- 酮、 2- 甲基 -4- 异噻唑啉 -3- 酮、 5- 氯 -2- 甲 基 -4- 异噻唑啉 -3- 酮等的异噻唑啉 (isothiazolin) 衍生物 ； 4-(2- 硝基丁基 ) 吗啉、 4， 4-(2- 乙基 -2- 硝基三亚甲基 ) 二吗啉等的吗啉衍生物 ； 2-(4- 噻唑基 ) 苯并咪唑等的苯并 咪唑 (benzimidazole) 衍生物等。上述的防腐剂可单独一种或混合复数种以上使用。
本发明的水溶性有机溶剂于 20℃时对水的溶解度以 3(g/100g) 以上为佳， 更佳为 10 以上。 其具体例如 ： 二甲基亚砜、 环丁砜、 3- 甲基环丁砜、 2， 4- 二甲基环丁砜等的亚砜类 ； 二甲砜、 二乙砜、 双 (2- 羟乙基 ) 砜等的砜类 ； N， N- 二甲基甲酰胺、 N- 甲基甲酰胺、 N， N- 二 甲基乙酰胺、 N， N- 二甲基丙酰胺等的酰胺类 ； N- 甲基 -2- 吡咯烷酮、 N- 乙基 -2- 吡咯烷酮、 N- 羟甲基 -2- 吡咯烷酮等的内酰胺类 ； β- 丙内酯、 β- 丁内酯、 γ- 丁内酯、 γ- 戊内酯、 δ- 戊内酯等的内酯类 ； 甲醇、 乙醇、 异丙醇等的醇类 ； 乙二醇、 乙二醇单甲基醚、 乙二醇单 乙基醚、 二乙二醇、 二乙二醇单甲基醚、 二乙二醇单乙基醚、 二乙二醇单丁基醚、 二乙二醇单 己基醚、 二乙二醇单苯基醚、 三乙二醇单甲基醚、 丙二醇、 丙二醇单甲基醚、 二丙二醇单甲基 醚、 1， 3- 丁二醇、 二乙二醇二甲基醚、 二乙二醇二乙基醚、 三乙二醇二甲基醚、 三乙二醇三乙 基醚等的乙二醇及乙二醇醚类 ； N- 甲基 -2- 恶唑烷酮、 3， 5- 二甲基 -2- 恶唑烷酮等的恶唑 烷酮 (oxazolidinone) 类 ； 乙腈、 丙腈、 丁腈、 丙烯腈、 甲基丙烯腈、 苯甲腈等的腈 (nitrile) 类； 碳酸盐类 ； ( 碳酸乙烯酯、 碳酸丙烯酯等 ) ； 丙酮、 二乙酮、 苯乙酮、 甲乙酮、 环己酮、 环戊 酮、 二丙酮醇等的酮类 ； 四氢呋喃、 四氢吡喃等的环醚类等。上述的水溶性有机溶剂可单独 一种或混合复数种以上使用。
本发明的分散剂的具体例如 ： 羟乙基纤维素、 阳离子化纤维素、 羟甲基纤维素、 羟 丙基纤维素、 瓜尔胶 (guar gum)、 阳离子化瓜尔胶、 三仙胶 (xanthan gum)、 海藻酸盐、 阳离 子化淀粉等的多糖类及其衍生物 ； 植酸 (phytic acid)、 二 ( 聚氧乙烯 ) 烷基醚磷酸、 三(聚 氧乙烯 ) 烷基醚磷酸等的聚乙烯醇 (poval) 及其磷酸酯类。上述的分散剂可单独一种或混 合复数种以上使用。
本发明所使用的添加剂 (F) 中， 基于碱性化合物 (A)100 重量份， 螫合剂的使用量 通常为 30 重量份以下， 较佳为 1 ～ 20 重量份， 更佳为 3 ～ 20 重量份 ； 抗氧化剂、 缓冲溶剂、 防腐剂及分散剂的使用量通常为 10 重量份以下， 较佳为 8 重量份以下， 更佳为 5 重量份以 下； pH 调整剂的使用量通常为 90 重量份以下， 较佳为 85 重量份以下， 更佳为 80 重量份以 下； 水溶性有机溶剂的使用量通常为 500 重量份以下， 较佳为 400 重量份以下， 更佳为 300 重量份以下。 具体实施方式
本发明将例举以下实施例进一步说明， 但应了解的是， 该等实施例仅为例示说明 之用， 而不应被解释为本发明实施的限制。
[ 制备洗净液组成物 ]
< 实施例 1>
将 100 重量份的氢氧化钾 (Potassium hydroxide， 以下简称 A-1)、 100 重量份的非 离子性界面活性剂 (B)SINOPOL E8002( 中日合成化学制， 以下简称 B-1)、 50 重量份的硫酸 羟胺 ( 以下简称 C-1) 以及 2500 重量份的水。上述各成份以摇动式搅拌器混合均匀， 即可 获得洗净液组成物， 该洗净液组成物以下记各评价方式进行评价， 所得结果如表 1 所示。
< 实施例 2 ～ 8>
相同于实施例 1 的操作方法， 不同的地方在于 ： 改变原料的种类及其使用量， 其配 方及评价结果如表 1 所示。
< 比较例 1 ～ 3>
相同于实施例 1 的操作方法， 不同的地方在于 ： 改变原料的种类及其使用量， 其配方及评价结果如表 1 所示。其中， 比较例 3 使用的 RTL431 如以下结构式 (4) 所示。结构式 (4)
式中， n 表示 9 ～ 10 的整数。
【评价项目】
< 切削粉洗净力 >
将钠钙玻璃 (Soda Lime Glass) 粉碎， 并将碎粉 ( 粒径介于 10μm ～ 100μm) 均 匀分散于水中后， 涂布于一玻璃基板上 (20mm×100mm)， 接着于 110℃下干燥 30 分钟后， 浸 泡在洗净液组成物中， 并以恒温水槽控制在 25℃。于浸泡 3 分钟后， 以 500ml 纯水洗净， 然 后以高压空气吹干， 接着以显微镜 ( 倍率＝ 50) 观察玻璃基板的表面状态， 并根据以下基准 评价 ：
○： 无切削粉残留。
×： 有明显的切削粉残留。
< 研磨液洗净力 >
于玻璃基板 (20mm×100mm) 上使用市贩的氧化铈研磨液 ( 粒径约 100nm) 及研磨 布研磨 1 分钟后， 以 500ml 纯水洗净， 然后以高压空气吹干， 接着浸泡在洗净液组成物中， 并 以恒温水槽控制在 25℃。 于浸泡 3 分钟后， 以 500ml 纯水洗净玻璃基板， 然后以高压空气吹 干， 接着以电子扫描显微镜 ( 倍率＝ 50) 观察玻璃基板的表面状态， 并根据以下基准评价 ：
○： 无粒子残留。
×： 有明显的粒子残留。
< 表面粗度 >
由评价检测项目 < 切削粉洗净力 > 及 < 研磨液洗净力 > 分别所得的两片玻璃基板， 分别使用非接触式的白光干涉仪 (BMT 制 ； 型号为 WLI LAB) 量测玻璃基板的表面， 可分别测 得其表面粗度 (Ra)， 单位为 nm。将两者结果取算术平均数可得一平均表面粗度 据以下基准评价 ：
并根○： △： ×：< 消泡性 >
取 50ml 洗净液组成物， 倒入 100ml 量筒， 上下震荡 20 回后， 量测泡沫高度 (T1)， 静 置 30 秒后， 再次量测泡沫高度 (T2)， 并根据以下基准评价 ：
消泡率＝ (T1-T2)/(T1)×100％
◎： 消泡率≥ 90％。
○： 80％≤消泡率＜ 90％。
△： 50％≤消泡率＜ 80％。
×： 消泡率＜ 50％。
< 比较例 4>
使用 100 重量份的氢氧化钾、 83 重量份的非离子性界面活性剂 EMALGENLS-100( 直 链 C12 ～ 14-O-(EO)5(PO)1.5(EO)5-H， 花王制 )、 83 重量份的对 - 甲苯磺酸钠及 3900 重量份的水， 各成份以摇动式搅拌器混合均匀， 获得洗净液组成物， 并以上记各评价方式进行评价， 所得 洗净力、 消泡性及表面粗度皆为 ×。 < 比较例 5>
使用 3 重量份的辛基葡萄糖苷及 97 重量份的水， 各成份以摇动式搅拌器混合均 匀， 获得洗净液组成物， 并以上记各评价方式进行评价， 所得洗净力、 消泡性及表面粗度皆 为 ×。
惟以上所述者， 仅为本发明的较佳实施例而已， 当不能以此限定本发明实施的范 围， 即大凡依本发明申请专利范围及发明说明书内容所作的简单的等效变化与修饰， 皆应 仍属本发明专利涵盖的范围内。
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