一种高纯铝的制备方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201510831910.9

申请日:

2015.11.25

公开号:

CN106756097A

公开日:

2017.05.31

当前法律状态:

授权

有效性:

有权

法律详情:

授权|||实质审查的生效IPC(主分类):C22B 21/06申请日:20151125|||公开

IPC分类号:

C22B21/06

主分类号:

C22B21/06

申请人:

衡阳恒荣高纯半导体材料有限公司

发明人:

聂玉

地址:

421001 湖南省衡阳市石鼓区松木工业园上倪路9号

优先权:

专利代理机构:

代理人:

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内容摘要

本发明公开了一种高纯铝的制备方法,包括如下步骤:a、将高纯铝原料在真空熔炼炉520-550℃下保温2-6小时,取出后水淬;b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;c、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以100℃~200℃/小时的速度缓慢升温600℃~800℃,恒温1.5~2.5小时后,以100-200℃/小时的速度缓慢降温至300℃~400℃,恒温处理2~3小时后,以150-200℃/小时的速度缓慢降温至常温即可。本方法操作简单,使用设备简便,工艺成本低廉,可制备出6N高纯铝,填补国内6N高纯铝的空白。

权利要求书

1.一种高纯铝的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
a、将高纯铝原料在真空熔炼炉520-550℃下保温2-6小时,取出后水淬;
b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;
c、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其
真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以100℃~200℃/小时的速度缓慢升温
600℃~800℃,恒温1.5~2.5小时后,以100-200℃/小时的速度缓慢降温至300℃~400℃,
恒温处理2~3小时后,以150-200℃/小时的速度缓慢降温至常温即可。
2.根据权利要求1所述的高纯铝的制备方法,其特征在于,步骤c中铝锭在真空熔炼炉
熔炼时,控制熔区宽度30—50mm。
3.根据权利要求1所述的高纯铝的制备方法,其特征在于,步骤c中真空熔炼炉的脱氧
处理为:开启氩气阀,向真空熔炼炉内通氩气,调节氩气流量为300-400mL/min。
4.根据权利要求1所述的高纯铝的制备方法,其特征在于,步骤a中,经真空熔炼炉熔炼
后,将铝锭放入事先配好的清洗液中,水浴加热至90—100℃,3-5min后停止加热,待冷却后
用去离子水清洗铝锭至中性。
5.根据权利要求1所述的高纯铝的制备方法,其特征在于,步骤c中将装入石英舟的铝
锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其真空度达到5×10-4pa~10
×10-4pa,真空熔炼炉以150℃/小时的速度缓慢升温700℃,恒温2小时后,以150℃/小时的
速度缓慢降温至350℃,恒温处理2.5小时后,以180℃/小时的速度缓慢降温至常温即可。

说明书

一种高纯铝的制备方法

技术领域

本发明属于材料制备领域,具体为高纯铝的制备方法。

背景技术

6N高纯铝主要应用于半导体工业及超导体,其中半导体工业约占96%,用于超导体
约占4%。主要应用包括:1、阴极溅镀靶。2、集成电路配线。3、光电子存储媒体。4、航空航天领
域。高纯铝的最大应用领域是生产电子铝箔,用于制造铝电解电容器,其消耗的高纯铝量约
为高纯铝总产量的80%。从高纯铝的应用方面以及市场需求情况考虑,开展6N高纯铝的研制
迫在眉睫。

发明内容

本发明的目的是为了解决上述背景技术中所提到的问题,提供了一种高纯铝的制
备方法。

为了实现上述目的,本发明的技术方案如下:

一种高纯铝的制备方法,包括如下步骤:

a、将高纯铝原料在真空熔炼炉520-550℃下保温2-6小时,取出后水淬;

b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;

C、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其
真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以100℃~200℃/小时的速度缓慢升温
600℃~800℃,恒温1.5~2.5小时后,以100-200℃/小时的速度缓慢降温至300℃~400℃,
恒温处理2~3小时后,以150-200℃/小时的速度缓慢降温至常温即可。

进一步地,步骤c中铝锭在真空熔炼炉熔炼时,控制熔区宽度30—50mm。

进一步地,步骤c中真空熔炼炉的脱氧处理为:开启氩气阀,向真空熔炼炉内通氩
气,调节氩气流量为300-400mL/min。

进一步地,步骤a中,经真空熔炼炉熔炼后,将铝锭放入事先配好的清洗液中,水浴
加热至90—100℃,3-5min后停止加热,待冷却后用去离子水清洗铝锭至中性。

进一步地,步骤c中将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进
行脱氧处理,并使其真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以150℃/小时的速度
缓慢升温700℃,恒温2小时后,以150℃/小时的速度缓慢降温至350℃,恒温处理2.5小时
后,以180℃/小时的速度缓慢降温至常温即可。本工艺中的区域熔炼法提纯,也是提纯至6N
产品的难点所在,是由于铝的物理性质决定了高熔点、导热效果好,采用普通的区域熔炼的
方式很难把铝熔化,或者熔化后很难快速凝固,无法达到提纯效果。

本发明提供的高纯铝的制备方法,先将其熔炼、水淬将其轧机上冷轧处理后放入
石英舟后再对铝锭进行熔炼,其通过三段去氧热处理,其铝锭能够熔炼后调入石墨舟底部,
完成头尾料的去除,避免了铝锭熔炼时带入锌的杂质,从而保证铝锭的纯度。本方法操作简
单,使用设备简便,工艺成本低廉,可制备出6N高纯铝,填补国内6N高纯铝的空白。

具体实施方式

对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅
是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人
员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

实施例1

一种高纯铝的制备方法,包括如下步骤:

a、将高纯铝原料在真空熔炼炉520℃下保温6小时,取出后水淬;

b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;

C、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其
真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以100℃/小时的速度缓慢升温600℃,恒
温2.5小时后,以200℃/小时的速度缓慢降温至400℃,恒温处理3小时后,以150℃/小时的
速度缓慢降温至常温即可。

步骤c中铝锭在真空熔炼炉熔炼时,控制熔区宽度50mm。

步骤c中真空熔炼炉的脱氧处理为:开启氩气阀,向真空熔炼炉内通氩气,调节氩
气流量为300mL/min。

步骤a中,经真空熔炼炉熔炼后,将铝锭放入事先配好的清洗液中,水浴加热至
90—100℃,3-5min后停止加热,待冷却后用去离子水清洗铝锭至中性。

实施例2

一种高纯铝的制备方法,包括如下步骤:

a、将高纯铝原料在真空熔炼炉550℃下保温2小时,取出后水淬;

b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;

C、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其
真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以200℃/小时的速度缓慢升温800℃,恒
温2.5小时后,以200℃/小时的速度缓慢降温至400℃,恒温处理2小时后,以150℃/小时的
速度缓慢降温至常温即可。

步骤c中铝锭在真空熔炼炉熔炼时,控制熔区宽度30mm。

步骤c中真空熔炼炉的脱氧处理为:开启氩气阀,向真空熔炼炉内通氩气,调节氩
气流量为300mL/min。

步骤a中,经真空熔炼炉熔炼后,将铝锭放入事先配好的清洗液中,水浴加热至
90—100℃,3-5min后停止加热,待冷却后用去离子水清洗铝锭至中性。

实施例3

一种高纯铝的制备方法,包括如下步骤:

a、将高纯铝原料在真空熔炼炉530℃下保温4小时,取出后水淬;

b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;

C、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其
真空度达到5×10-4pa~10×10-4pa,真空熔炼炉以150℃/小时的速度缓慢升温700℃,恒
温2小时后,以150℃/小时的速度缓慢降温至350℃,恒温处理2.5小时后,以180℃/小时的
速度缓慢降温至常温即可。

步骤c中铝锭在真空熔炼炉熔炼时,控制熔区宽度45mm。

步骤c中真空熔炼炉的脱氧处理为:开启氩气阀,向真空熔炼炉内通氩气,调节氩
气流量为300mL/min。

步骤a中,经真空熔炼炉熔炼后,将铝锭放入事先配好的清洗液中,水浴加热至
90—100℃,3-5min后停止加热,待冷却后用去离子水清洗铝锭至中性。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的保护范
围内所作的任何修改、等同替换等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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本发明公开了一种高纯铝的制备方法,包括如下步骤:a、将高纯铝原料在真空熔炼炉520-550下保温2-6小时,取出后水淬;b、经过a步骤处理的铝锭在轧机上冷轧处理后,装入石英舟中;c、将装入石英舟的铝锭再次放入真空熔炼炉内,对真空熔炼炉进行脱氧处理,并使其真空度达到510-4pa1010-4pa,真空熔炼炉以100200/小时的速度缓慢升温600800,恒温1.52.5小时后,以100-200/小时。

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