摩托车零件原料生产处理系统技术领域
本发明涉及一种摩托车零件原料生产处理系统，属于摩托车零件生产技术领域。
背景技术
目前，摩托车零件生产过程中，需要将各种各样的原料进行混合，以便生产制备出各种符合要求的摩托车零件。这些摩托车零件原料大多是粉末状态，需要加入的物料也是以粉末状态加入，但是，由于在一些工艺处理过程中，有些物料存在块状物，因此需要分离处理后再处理，而有些摩托车零件物料处理过程中，由于设备相对较高，物料的提升也是一个问题，对此，需要予以改进，以便更好地针对摩托车零件原料进行混合。
发明内容
本发明的目的在于提供一种摩托车零件原料生产处理系统，以便更好地针对摩托车零件生产原料进行提升后予以混合处理，改善使用效果。
为了实现上述目的，本发明的技术方案如下。
一种摩托车零件原料生产处理系统，包括进料系统，进料系统右侧设有提升系统，提升系统上部安装有上动力系统，上动力系统下部设有动力系统轴，动力系统轴侧面安装有提升机构；提升系统右侧上部设有出料管机构，出料管机构右侧设有搅拌系统，搅拌系统上部安装有分离处理板，分离处理板上部安装有供料系统，搅拌系统下部安装有隔离装置，隔离装置右侧设有把手，隔离装置下部安装有出料系统，出料系统下部安装有下料管机构；出料系统左侧设有承载装置，承载装置左侧与提升系统右侧相连接，承载装置下部设有左承载机构，出料系统右侧设有右承载机构；承载装置上部安装有下动力系统，下动力系统左侧安装有主动飞轮；搅拌系统中间位置安装有旋转系统，旋转系统侧面安装有混合机构，旋转系统左侧设有从动飞轮，从动飞轮和主动飞轮之间设有动力传输机构。
进一步地，左承载机构和右承载机构下部分别安装有左运动装置和右运动装置。
进一步地，搅拌系统左右两侧分别安装有左旋转支撑机构和右旋转支撑机构，旋转系统穿过左旋转支撑机构和右旋转支撑机构安装。
进一步地，右承载机构上部安装有套筒，隔离装置穿过套筒安装。
该系统中，将摩托车零件原料从进料系统倒入提升系统下部，在上动力系统的作用下，动力系统轴带动提升机构转动，利用提升机构将摩托车零件原料从提升系统下部提升到上部，当摩托车零件原料到达出料管机构位置时从出料管机构进入搅拌系统。将其他摩托车零件辅料倒入供料系统，摩托车零件辅料经过分离处理板分离处理后，摩托车零件辅料颗粒从分离处理孔进入搅拌系统。在下动力系统的作用下，主动飞轮利用动力传输机构带动从动飞轮转动，使旋转系统带动混合机构转动，利用混合机构对摩托车零件原料和摩托车零件辅料进行搅拌，使摩托车零件原料和摩托车零件辅料混合。利用把手向右拉动隔离装置，使混合物料进入出料系统，混合物料再从下料管机构排出使用。
该发明的有益效果在于：该发明系统能有效地针对摩托车零件原料进行提升，并方便提升后予以混合处理，并方便提升后加入其它分离处理后的辅料，改善了摩托车零件原料混合效果，方便根据需要使用。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述，以便更好的理解本发明。
本发明中的摩托车零件原料生产处理系统，包括进料系统，进料系统右侧设有提升系统，提升系统上部安装有上动力系统，上动力系统下部设有动力系统轴，动力系统轴侧面安装有提升机构；提升系统右侧上部设有出料管机构，出料管机构右侧设有搅拌系统，搅拌系统上部安装有分离处理板，分离处理板上部安装有供料系统，搅拌系统下部安装有隔离装置，隔离装置右侧设有把手，隔离装置下部安装有出料系统，出料系统下部安装有下料管机构；出料系统左侧设有承载装置，承载装置左侧与提升系统右侧相连接，承载装置下部设有左承载机构，出料系统右侧设有右承载机构；承载装置上部安装有下动力系统，下动力系统左侧安装有主动飞轮；搅拌系统中间位置安装有旋转系统，旋转系统侧面安装有混合机构，旋转系统左侧设有从动飞轮，从动飞轮和主动飞轮之间设有动力传输机构。左承载机构和右承载机构下部分别安装有左运动装置和右运动装置。搅拌系统左右两侧分别安装有左旋转支撑机构和右旋转支撑机构，旋转系统穿过左旋转支撑机构和右旋转支撑机构安装。右承载机构上部安装有套筒，隔离装置穿过套筒安装。
该系统在具体实施时，将摩托车零件原料从进料系统倒入提升系统下部，在上动力系统的作用下，动力系统轴带动提升机构转动，利用提升机构将摩托车零件原料从提升系统下部提升到上部，当摩托车零件原料到达出料管机构位置时从出料管机构进入搅拌系统。将其他摩托车零件辅料倒入供料系统，摩托车零件辅料经过分离处理板分离处理后，摩托车零件辅料颗粒从分离处理孔进入搅拌系统。在下动力系统的作用下，主动飞轮利用动力传输机构带动从动飞轮转动，使旋转系统带动混合机构转动，利用混合机构对摩托车零件原料和摩托车零件辅料进行搅拌，使摩托车零件原料和摩托车零件辅料混合。利用把手向右拉动隔离装置，使混合物料进入出料系统，混合物料再从下料管机构排出使用。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。