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1、(10)申请公布号 CN 103080366 A (43)申请公布日 2013.05.01 CN 103080366 A *CN103080366A* (21)申请号 201280002579.4 (22)申请日 2012.06.28 144561/2011 2011.06.29 JP 244664/2011 2011.11.08 JP C23C 14/24(2006.01) (71)申请人 松下电器产业株式会社 地址 日本大阪府 (72)发明人 冈崎祯之 本田和义 (74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 段承恩 杨光军 (54) 发明名称 加热装置、 真空加热方法和薄。
2、膜制造方法 (57) 摘要 一种加热装置, 其具备 : 应在真空中被加热的 被加热体 ; 构成为能够从被加热体分离、 并且在 自身与被加热体之间形成有间隙的加热体 ; 和用 于向间隙导入传热气体的气体导入路径。被加热 体通过传热气体由加热体加热。加热装置的例子 是蒸着装置 (30) 。被加热体的例子是保持蒸镀 材料, 并且具有供蒸发了的蒸镀材料通过的开口 部的贮藏容器 (9) 。加热体的例子是可拆装地收 纳贮藏容器 (9) 、 并且为了对贮藏容器 (9) 内的蒸 镀材料进行加热而具有加热器 (20) 的加热容器 (10) 。气体导入路径的例子是气体导入管 (11) 。 (30)优先权数据 (8。
3、5)PCT申请进入国家阶段日 2013.02.26 (86)PCT申请的申请数据 PCT/JP2012/004212 2012.06.28 (87)PCT申请的公布数据 WO2013/001827 JA 2013.01.03 (51)Int.Cl. 权利要求书 3 页 说明书 19 页 附图 22 页 按照条约第 19 条修改的权利要求书 3 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书3页 说明书19页 附图22页 按照条约第19条修改的权利要求书3页 (10)申请公布号 CN 103080366 A CN 103080366 A *CN103080366A* 。
4、1/3 页 2 1. 一种加热装置, 其具备 : 应在真空中被加热的被加热体 ; 构成为能够从所述被加热体分离、 并且在自身与所述被加热体之间形成有间隙的加热 体 ; 和 用于向所述间隙导入传热气体的气体导入路径, 所述被加热体通过所述传热气体由所述加热体加热。 2. 根据权利要求 1 所述的加热装置, 所述被加热体是保持蒸镀材料, 并且具有供蒸发了的所述蒸镀材料通过的开口部的贮 藏容器, 所述加热体是可拆装地收纳所述贮藏容器、 并且为了对所述贮藏容器内的所述蒸镀材 料进行加热而具有加热器的加热容器, 是构成为具有用于使从所述贮藏容器蒸发了的所述 蒸镀材料通过的开口部, 并且在收纳了所述贮藏容。
5、器时, 通过所述贮藏容器的外壁面和所 述加热容器的内壁面直接对向而在所述内壁面与所述外壁面之间产生所述间隙的加热容 器, 所述加热装置是还具备 (i) 用于收容所述贮藏容器和所述加热容器, 并在内部在基材 上进行蒸镀的真空槽、 和 (ii) 对所述真空槽内进行排气的真空泵的蒸镀装置。 3. 根据权利要求 2 所述的加热装置, 所述隙间的宽度为 0.5mm 以下。 4. 根据权利要求 2 所述的加热装置, 还具备 : 抑制所述传热气体从所述间隙向所述真 空槽中流出的抑制结构。 5. 根据权利要求 4 所述的加热装置, 所述抑制结构构成为改变从所述间隙流出的所述 传热气体的行进方向, 或者, 构成。
6、为降低从所述间隙流出的所述传热气体的量。 6. 根据权利要求 4 所述的加热装置, 所述抑制结构是在所述贮藏容器的所述开口部以 及所述加热容器的所述开口部的周围设置的台阶差结构或者锥形结构。 7. 根据权利要求 6 所述的加热装置, 通过设置所述台阶差结构或者所述锥形结构, 所 述贮藏容器的所述开口部和所述加热容器的所述开口部的周围的所述间隙, 被形成为比所 述开口部的周围以外的所述间隙狭窄。 8. 根据权利要求 2 所述的加热装置, 所述加热容器的热膨胀系数比所述贮藏容器的热 膨胀系数小。 9. 根据权利要求 2 所述的加热装置, 在具有所述加热器的所述加热容器内部的空间与 所述加热容器的内。
7、壁面之间, 还具备用于使所述传热气体通过的通路。 10. 根据权利要求 2 所述的加热装置, 所述间隙在所述贮藏容器的所述开口部和所述 加热容器的所述开口部被封闭。 11. 根据权利要求 2 所述的加热装置, 在所述间隙的开口部之上载置有盖体。 12. 根据权利要求 11 所述的加热装置, 在所述盖体的下面, 形成有使被导入到所述间 隙中的所述传热气体通过的气体流路。 13. 一种薄膜制造方法, 其是使用蒸镀装置在真空中在所述基材上进行蒸镀的蒸镀方 法, 所述蒸镀装置具有 : 保持蒸镀材料, 并且具有供蒸发了的所述蒸镀材料通过的开口部的贮藏容器 ; 可拆装地收纳所述贮藏容器、 并且为了对所述贮。
8、藏容器内的所述蒸镀材料进行加热而 权 利 要 求 书 CN 103080366 A 2 2/3 页 3 具有加热器的加热容器, 其构成为具有用于使从所述贮藏容器蒸发了的所述蒸镀材料通过 的开口部, 并且在收纳了所述贮藏容器时, 通过所述贮藏容器的外壁面和所述加热容器的 内壁面直接对向而在所述内壁面与所述外壁面之间产生间隙 ; 用于向所述间隙导入传热气体的气体导入单元 ; 用于收容所述贮藏容器和所述加热容器, 并在内部在基材上进行蒸镀的真空槽 ; 和 对所述真空槽内进行排气的真空泵, 所述薄膜制造方法包括 : 通过一边向所述间隙导入传热气体, 一边利用所述加热器对 所述贮藏容器内的所述蒸镀材料进。
9、行加热, 使所述蒸镀材料从所述贮藏容器蒸发的工序。 14. 根据权利要求 13 所述的薄膜制造方法, 所述传热气体的导入量根据所述真空槽内 的压力来控制。 15. 根据权利要求 13 所述的薄膜制造方法, 所述蒸镀材料为锂, 所述传热气体为惰性 气体。 16. 根据权利要求 1 所述的加热装置, 所述被加热体是在真空中对物体进行加热的加热块, 所述加热体是可拆装地插入到形成于所述加热块的槽孔中的棒状的加热器, 在所述槽孔与所述加热器之间形成有所述间隙, 所述气体导入路径形成于所述加热块上, 使得向所述间隙导入传热气体。 17. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 在所述加热块上形成有多个所述。
10、槽孔, 在多个所述槽孔的每一个中插有所述加热器, 所述气体导入路径包含从所述加热块的外部向所述槽孔导入所述传热气体的第一路 径、 和将所述槽孔彼此相互连通的第二路径。 18. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 在所述槽孔的长度方向的中央部, 所述间隙相 对地宽大 ; 在所述槽孔的长度方向的端部, 所述间隙相对地狭窄。 19. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 所述加热器具有 : 具有发热体的加热器主体 ; 和与所述加热器主体的所述发热体电连 接使得向所述发热体供给电力的引线, 在与所述引线所处的一侧相反的一侧, 所述槽孔被封闭。 20. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 所述加热器。
11、的尺寸和所述槽孔的尺寸被调节, 使得在通电时容许所述加热器的活动。 21. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 所述加热器具有 : 具有发热体的加热器主体 ; 具有用于向所述发热体供给电力的引线 的引线部 ; 和设置于所述引线部与所述加热器主体之间使得将所述引线与所述发热体电连 接的连接部, 所述连接部位于所述槽孔之外的位置。 22. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 所述加热装置为蒸发源, 所述加热块是具有凹部的蒸发容器, 所述凹部收容作为应被蒸发的材料的所述物体。 23. 根据权利要求 16 所述的加热装置, 所述加热装置是对基板进行加热的基板加热装 权 利 要 求 书 CN 103。
12、080366 A 3 3/3 页 4 置。 24. 一种真空加热方法, 其包括 : 使用权利要求 16 所述的加热装置, 在真空中对所述物体进行加热的工序 ; 和 一边实施所述加热工序, 一边从真空的外部向所述加热装置供给所述传热气体的工 序。 25. 一种薄膜制造方法, 其包括 : 使用权利要求 16 所述的加热装置, 使作为所述物体的薄膜的材料在真空中蒸发, 使蒸 发了的材料沉积于基板上的工序 ; 和 一边实施所述沉积工序, 一边从真空的外部向所述加热装置供给所述传热气体的工 序。 权 利 要 求 书 CN 103080366 A 4 1/19 页 5 加热装置、 真空加热方法和薄膜制造方。
13、法 技术领域 0001 本发明涉及加热装置、 真空加热方法和薄膜制造方法。 背景技术 0002 近年来伴随着可移动设备的高性能化和多功能化, 作为其电源的二次电池被要求 高容量化。作为可以满足该要求的二次电池, 非水电解质二次电池受到关注。为了实现非 水电解质二次电池的高容量化, 曾提出了使用硅 (Si) 、 锗 (Ge) 、 锡 (Sn) 等作为电极活性物 质 (以下简单地称为 “活性物质” ) 。 0003 Si 或者 Sn 以硅单质、 硅合金、 含有硅和氧的化合物、 含有硅和氮的化合物、 锡单 质、 锡合金、 含有锡和氧的化合物、 以及含有锡和氮的化合物的形式被用于活性物质, 但这 些物。
14、质在吸藏锂离子时结晶结构大大地变化, 因此伴有膨胀。其结果, 活性物质粒子开裂, 或活性物质层从集电体剥离, 由此活性物质与集电体间的电子传导性降低, 作为结果, 存在 循环特性降低的问题。 0004 因此, 曾尝试了在将这些材料用于活性物质时, 减轻活性物质的膨胀和收缩的方 策。 0005 另外, 也知道这些含有 Si 或者 Sn 的活性物质存在不可逆容量的问题。即, 当将含 有 Si 或者 Sn 的活性物质用于负极时, 初次充电时吸藏的锂离子的一部分在放电时不从负 极释放, 其结果, 存在电池容量变小的问题。 0006 为了避免不可逆容量, 使预先吸藏了与不可逆容量相当的量的锂的负极与正极。
15、对 向, 并开始充放电是有效的。专利文献 1 公开了 : 对于在集电体表面形成的活性物质层, 通 过真空蒸镀赋予锂的方法。 0007 除了二次电池以外, 例如, 在有机 EL 显示器的制造中应用了真空蒸镀技术。 0008 作为真空蒸镀用的蒸发源, 曾提出了如专利文献 2 4 所公开的那样的形态。 0009 在专利文献2中, 作为用于蒸镀可在200400的比较低的温度蒸发的低分子的 有机物的蒸发源, 记载了 : 包含蒸发物质贮藏部、 与该贮藏部连结并喷射蒸发物质的喷嘴部 和包围该贮藏部的加热部的蒸发源。 0010 在专利文献 3 中, 作为铝、 铜、 银、 锌等金属的蒸发源, 记载了 : 与坩埚。
16、的底面接触, 并配置了旁热型加热器的蒸发源。 该蒸发源在蒸发时的温度高达1000以上的情况下被使 用。 0011 专利文献 4 中记载了 : 具备保持高温熔融金属的箱形状的内衬件、 坩埚主体、 和介 于内衬件与坩埚主体之间的间隔件 (衬垫 : spacer) , 并在内衬件与坩埚主体之间的空间部 填充了液态热介质的坩埚。该坩埚在采用电子枪等的方法直接将蒸镀材料加热、 熔融的情 况下被使用。 0012 在先技术文献 0013 专利文献 0014 专利文献 1 特开 2007-128658 号公报 说 明 书 CN 103080366 A 5 2/19 页 6 0015 专利文献 2 专利第 45。
17、57170 号说明书 0016 专利文献 3 特开平 8-311638 号公报 0017 专利文献 4 特开平 2-93063 号公报 发明内容 0018 为了在真空中蒸镀材料, 或在真空中加热基板, 需要可以在真空中使用的加热装 置。 由于在真空中, 成为介质的气体稀薄, 因此在真空中高效率地加热物体并不容易。 例如, 若使加热器 (加热体) 与坩埚 (被加热体) 一体化的话, 也许可以通过直接的接触使从加热体 向被加热体的传热效率提高。但是, 若过于重视传热效率, 则维修性恶化的可能性高。 0019 鉴于上述的情况, 本发明的目的是提供可以在真空中高效率地加热物体, 维修也 容易的加热装置。
18、。 0020 即, 本发明提供一种加热装置, 其具备 : 0021 应在真空中被加热的被加热体、 0022 构成为能够从上述被加热体分离、 并且在自身与上述被加热体之间形成有间隙的 加热体 ; 和 0023 用于向上述间隙导入传热气体的气体导入路径, 0024 上述被加热体通过上述传热气体由上述加热体加热。 0025 根据上述的加热装置, 加热体能够从被加热体分离。 因此, 可以容易地进行两者的 维修。在被加热体和加热体之间形成有间隙。在间隙中, 通过气体导入路径导入了传热气 体。被加热体, 通过 (介由) 传热气体由加热体加热。因此, 可以高效率地加热坩埚等的被加 热体。 附图说明 0026。
19、 图 1 是模式地表示本发明的第一实施方式的蒸镀装置的截面图。 0027 图 2 是放大地表示图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0028 图 3 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0029 图 4 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0030 图 5 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0031 图 6 是放大地表示作为参考例的蒸镀源附近的局部放大图。 0032 图 7 是模式地表示本发明的第二实施方式的蒸镀装置的截面图。 0033 图 8 是放大地表示可应用于图 7 的蒸镀装置的蒸镀源附近。
20、的局部放大图。 0034 图 9 是放大地表示图 7 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0035 图 10 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0036 图 11 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0037 图 12A 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0038 图 12B 是表示图 12A 中的盖体 69 的仰视图。 0039 图 13A 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0040 图 13B 是表示图 13A 中的盖体 69 的仰视图。 0041 图 14 是放。
21、大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 说 明 书 CN 103080366 A 6 3/19 页 7 0042 图 15 是放大地表示可应用于图 1 的蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0043 图16A是表示在加热容器与贮藏容器的间隙未导入气体的情况 (比较试验例) 的经 时的升温结果的曲线图。 0044 图16B是表示在加热容器与贮藏容器的间隙导入了气体的情况 (试验例) 的经时的 升温结果 (直到时间约 1800s) 的曲线图。 0045 图16C是表示在加热容器与贮藏容器的间隙导入了气体的情况 (试验例) 的经时的 升温结果 (直到时间 9600s) 的曲线图。
22、。 0046 图 17 是具备本发明的第三实施方式涉及的蒸发源 (加热装置) 的真空蒸镀装置的 构成图。 0047 图 18 是图 17 所示的蒸发源 (加热装置) 的立体图。 0048 图 19 是蒸发源的主视图。 0049 图 20 是蒸发源的沿着 A-A 线的截面图。 0050 图 21 是加热器的截面图。 0051 图 22 是变形例 1 涉及的蒸发源的截面图。 0052 图 23 是变形例 2 涉及的蒸发源的截面图。 0053 图 24A 是可用于图 23 所示的蒸发源的筒状部件的立体图。 0054 图 24B 是可用于图 23 所示的蒸发源的槽状部件的立体图。 0055 图 25 。
23、是变形例 3 涉及的蒸发源的截面图。 0056 图 26 是本发明的第四实施方式涉及的基板加热装置的立体图。 具体实施方式 0057 本发明的第 1 技术方案提供一种加热装置, 其具备 : 0058 应在真空中被加热的被加热体、 0059 构成为能够从上述被加热体分离、 并且在自身与上述被加热体之间形成有间隙的 加热体 ; 和 0060 用于向上述间隙导入传热气体的气体导入路径, 0061 上述被加热体通过上述传热气体由上述加热体加热。 0062 第 1 技术方案的加热装置, 也可以作为蒸镀装置而构成。本发明人发现了以往的 蒸镀装置的以下问题。通过将第 1 技术方案的加热装置应用于蒸镀装置, 。
24、可克服以下的问 题。 0063 以往, 使用卷到卷方式的蒸镀装置在基板表面形成蒸镀膜时, 使用了如专利文献 2 所公开的喷嘴形式的蒸发源。 在该蒸发源中作为蒸镀材料使用金属等的高沸点材料的情况 下, 蒸镀材料需要被加热到600以上。 但是, 在真空下, 蒸发源与加热器之间的热传导率降 低, 因此需要使加热器的加热温度为1000以上。 一般地, 筒形加热器 (cartridge heater) 的最高使用温度为 870, 陶瓷加热器的最高使用温度为 1100, 因此当使用这些加热器 进行 1000以上的加热时, 不能够进行加热器的温度控制, 加热器的使用变得极困难。 0064 专利文献 3 记载。
25、的蒸发源中, 由于与旁热型加热器接触的部分被限于坩埚的底 面, 因此当例如通过扩大蒸镀面积来增加坩埚内的蒸镀材料时, 存在热容量不足、 不能实施 蒸镀的问题。 说 明 书 CN 103080366 A 7 4/19 页 8 0065 专利文献 4 记载的蒸镀源中, 出于提高耐久性、 和利用对蒸镀材料进行加热时产 生的热能的目的, 在坩埚与内衬件之间填充有液态热介质。 但是, 当采用电子枪等的方法从 外部对蒸镀材料进行加热时, 液态热介质会在真空下蒸发, 因此存在失去作为目标的热传 导效果的问题。 0066 因此, 本发明人研讨了 : 通过将作为加热器的筒形加热器直接安装于坩埚的外面, 对贮藏于。
26、坩埚内的数百克的蒸镀材料进行加热从而进行蒸镀。此时, 从蒸镀材料的蒸气压 线图预测在真空下的蒸发温度, 设定了容器的加热温度。 其结果, 虽然能够在基板上形成蒸 镀膜, 但在蒸镀结束后进行去除残存于坩埚内的蒸镀材料等的维修时, 需要预先将筒形加 热器从坩埚卸下。特别是当基板的宽度大、 贮藏的蒸镀材料变多时, 与之相应地, 坩埚的容 量也变大, 因此筒形加热器的个数变多, 存在上述维修变得极为烦杂的问题。 0067 为了避免该烦杂的维修问题, 本发明人研讨了 : 不将加热器直接安装于坩埚, 而是 通过在具有加热器的加热容器中收纳坩埚来进行蒸镀。根据该方法, 蒸镀结束后的维修作 业变得容易, 但在。
27、真空下加热容器与坩埚之间的热传导性降低, 因此在上述的加热器的使 用温度范围下蒸镀材料的温度未充分上升, 不能够进行蒸镀, 或者, 即便能够进行蒸镀, 也 存在当长时间连续地实施蒸镀时不能够控制蒸镀的问题。 0068 本发明的第2技术方案, 在第1技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 上述被加 热体是保持蒸镀材料, 并且具有供蒸发了的上述蒸镀材料通过的开口部的贮藏容器, 0069 上述加热体是可拆装地收纳上述贮藏容器、 并且为了对上述贮藏容器内的上述蒸 镀材料进行加热而具有加热器的加热容器, 是构成为具有用于使从上述贮藏容器蒸发了的 上述蒸镀材料通过的开口部, 并且在收纳了上述贮藏容器时。
28、, 通过上述贮藏容器的外壁面 和上述加热容器的内壁面直接对向而在上述内壁面与上述外壁面之间产生上述间隙的加 热容器, 0070 上述加热装置是还具备 (i) 用于收容上述贮藏容器和上述加热容器, 并在内部在 基材上进行蒸镀的真空槽、 和 (ii) 对上述真空槽内进行排气的真空泵的蒸镀装置。 0071 换言之, 第 2 技术方案提供一种蒸镀装置, 其具备 : 0072 保持蒸镀材料, 并且具有供蒸发了的上述蒸镀材料通过的开口部的贮藏容器 ; 0073 可拆装地收纳上述贮藏容器、 并且为了对上述贮藏容器内的上述蒸镀材料进行加 热而具有加热器的加热容器, 其构成为具有用于使从上述贮藏容器蒸发了的上述。
29、蒸镀材料 通过的开口部, 并且在收纳了上述贮藏容器时, 通过上述贮藏容器的外壁面和上述加热容 器的内壁面直接对向而在上述内壁面与上述外壁面之间产生上述间隙 ; 0074 用于收容上述贮藏容器和上述加热容器, 并在内部在基材上进行蒸镀的真空槽 ; 和 0075 对上述真空槽内进行排气的真空泵。 0076 根据第 2 技术方案, 构成为保持蒸镀材料的贮藏容器被收纳于加热容器中, 而且 在两容器之间产生间隙, 因此在蒸镀结束后, 进行更换贮藏容器, 或去除残留于贮藏容器内 部的蒸镀材料等的维修时, 可以将贮藏容器与加热容器容易地分离。 因此, 变得不需要进行 从贮藏容器拆卸加热器等的麻烦的作业, 可。
30、以简易地实施维修作业。 0077 另外, 由于上述间隙被导入传热气体, 因此在真空蒸镀的实施中, 来自加热容器的 热被效率好地传递给贮藏容器, 蒸镀材料被加热。因此, 尽管是间接的加热, 但是可以使蒸 说 明 书 CN 103080366 A 8 5/19 页 9 镀材料的温度充分地上升, 因此变得可以长时间连续地稳定控制蒸镀。 0078 从以上来看, 根据第 2 技术方案, 可以效率好地连续实施真空下的蒸镀, 并且可以 使蒸镀结束后的维修作业飞跃性地简易化, 因此可以以极优异的生产率实施蒸镀。 0079 若使用上述的蒸镀装置, 则可以以优异的生产率制造例如充放电循环特性优异的 电极。 008。
31、0 本发明的第 3 技术方案, 在第 2 技术方案的基础上, 提供上述间隙的宽度为 0.5mm 以下的、 第 2 技术方案所述的加热装置。根据第 3 技术方案, 能够采用少的气体导入量使间 隙的气体压力上升。 0081 本发明的第 4 技术方案, 在第 2 或者第 3 技术方案的基础上, 提供加热装置, 其还 具备 : 抑制上述传热气体从上述间隙向上述真空槽中流出的抑制结构。 根据第4技术方案, 能够采用少的气体导入量使间隙的压力提高。另外, 也可以避免由于气体向间隙的导入而 使真空槽内的真空度降低。 0082 本发明的第5技术方案, 在第4技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 上述抑制。
32、 结构构成为改变从上述间隙流出的上述传热气体的行进方向, 或者, 构成为降低从上述间 隙流出的上述传热气体的量。根据第 5 技术方案, 能够采用少的气体导入量提高间隙的压 力。另外, 也可以避免由于气体向间隙的导入而使真空槽内的真空度降低。 0083 本发明的第 6 技术方案, 在第 4 或者第 5 技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 上述抑制结构是在上述贮藏容器的上述开口部以及上述加热容器的上述开口部的周围设 置的台阶差结构或者锥形结构。根据第 6 技术方案, 可以准确地进行将贮藏容器收纳于加 热容器时的对位, 可以在贮藏容器的侧面和底面切实确保所规定的间隙。另外, 如果采用 台阶差。
33、结构或锥形结构支持贮藏容器, 则间隙可成为在贮藏容器和加热容器的开口部被封 闭、 与真空槽隔绝了的空间。该情况下, 能够采用少的气体导入量提高间隙的压力。 0084 本发明的第7技术方案, 在第6技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 通过设置 上述台阶差结构或者上述锥形结构, 上述贮藏容器的上述开口部和上述加热容器的上述开 口部的周围的上述间隙, 被形成为比上述开口部的周围以外的上述间隙狭窄。根据第 7 技 术方案, 可以阻止导入到间隙中的气体向真空槽内扩散, 并以少的气体导入量提高间隙的 压力。 0085 本发明的第 8 技术方案, 在第 2 第 7 技术方案的任一项的基础上, 提供加。
34、热装 置, 其中, 上述加热容器的热膨胀系数比上述贮藏容器的热膨胀系数小。根据第 8 技术方 案, 伴随着加热容器的加热器升温, 加热容器与贮藏容器之间的间隙变小, 间隙的气体压力 上升, 因此热传导系数变大, 可以提高热效率。 0086 本发明的第 9 技术方案, 在第 2 第 8 技术方案的任一项的基础上, 提供加热装 置, 其中, 在具有上述加热器的上述加热容器内部的空间与上述加热容器的内壁面之间, 还 具备用于使上述传热气体通过的通路。根据第 9 技术方案, 加热器的热被效率更好地传递 给贮藏容器, 因此可以削减加热器的加热量。 0087 本发明的第 10 技术方案, 在第 2 第 9。
35、 技术方案的任一项基础上, 提供加热装置, 其中, 上述间隙在上述贮藏容器的上述开口部和上述加热容器的上述开口部被封闭。根据 第 10 技术方案, 能够采用少的气体导入量提高间隙的压力。也可以避免由于气体向间隙的 导入而使真空槽内的真空度降低 (压力上升) 。 说 明 书 CN 103080366 A 9 6/19 页 10 0088 本发明的第 11 技术方案, 在第 2 第 10 技术方案的任一项基础上, 提供加热装 置, 其中, 在上述间隙的开口部之上载置有盖体。根据第 11 技术方案, 存在盖体, 因此气体 向真空槽的扩散得到抑制, 能够采用少的气体导入量提高间隙的压力。 0089 本。
36、发明的第12技术方案, 在第11技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 在上述 盖体的下面, 形成有使被导入到上述间隙中的上述传热气体通过的气体流路。根据第 12 技 术方案, 可以使被导入到间隙中的气体的向真空槽内的放出地点为从贮藏容器的开口部离 开的场所。因此, 可以避免 : 被导入到间隙中的气体在贮藏容器的开口部的方向漏出, 与从 贮藏容器蒸发了的蒸镀材料冲撞, 引起膜质劣化 (例如, 与基板的密着变弱, 或变为多孔的 膜) 等的对蒸镀的影响。 0090 本发明的第 13 技术方案, 提供一种薄膜制造方法, 其是使用蒸镀装置在真空中在 上述基材上进行蒸镀的蒸镀方法, 所述蒸镀装置具有。
37、 : 0091 保持蒸镀材料, 并且具有供蒸发了的上述蒸镀材料通过的开口部的贮藏容器 ; 0092 可拆装地收纳上述贮藏容器、 并且为了对上述贮藏容器内的上述蒸镀材料进行加 热而具有加热器的加热容器, 其构成为具有用于使从上述贮藏容器蒸发了的上述蒸镀材料 通过的开口部, 并且在收纳了上述贮藏容器时, 通过上述贮藏容器的外壁面和上述加热容 器的内壁面直接对向而在上述内壁面与上述外壁面之间产生间隙 ; 0093 用于向上述间隙导入传热气体的气体导入单元 ; 0094 用于收容上述贮藏容器和上述加热容器, 并在内部在基材上进行蒸镀的真空槽 ; 和 0095 对上述真空槽内进行排气的真空泵, 0096。
38、 所述薄膜制造方法包括 : 通过一边向上述间隙导入传热气体, 一边利用上述加热 器对上述贮藏容器内的上述蒸镀材料进行加热, 使上述蒸镀材料从上述贮藏容器蒸发的工 序。 0097 根据第 13 技术方案, 可以效率好且连续地实施在真空下的蒸镀, 并且可以使蒸镀 结束后的维修作业飞跃性地简易化, 因此可以以极优异的生产率实施蒸镀。 0098 本发明的第14技术方案, 在第13技术方案的基础上, 提供薄膜制造方法, 其中, 上 述传热气体的导入量根据上述真空槽内的压力来控制。通过适当控制传热气体的导入量, 可以抑制蒸镀材料的蒸发速度的变动。 0099 本发明的第 15 技术方案, 在第 13 或者第。
39、 14 技术方案的基础上, 提供薄膜制造方 法, 其中, 上述蒸镀材料为锂, 上述传热气体为惰性气体。根据第 15 技术方案, 可以防止锂 与传热气体反应, 可以在基板上形成高品质的锂薄膜。 0100 另外, 本发明人公开了以下方案。 0101 作为真空用的加热装置, 可考虑使用具备棒状的加热器和具有用于插入该加热器 的槽孔 (slot) 的加热块的加热装置。由于在真空中难以得到充分的热传导, 因此使加热器 与槽孔密着是有效的。 0102 但是, 在加热器的外径与槽孔的内径大致一致的情况下, 在加热器维修时或者加 热器更换时就不能够将加热器从加热块拔出。在使用特别长的加热器的情况下, 需要在加。
40、 热块上形成长的槽孔。以高的精度形成长的槽孔是较困难的。另一方面, 当加热器与槽孔 之间的间隙过大时, 从加热器向加热块的热传导变得不充分, 加热块的升温特性变差。 该情 说 明 书 CN 103080366 A 10 7/19 页 11 况下, 提升加热器的温度的必要性较迫切, 因此不仅能量效率 (功率利用系数) 降低, 而且加 热器的寿命也变短。 0103 本发明的第 16 技术方案, 在第 1 技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 0104 上述被加热体是在真空中对物体进行加热的加热块, 0105 上述加热体是可拆装地插入到形成于上述加热块的槽孔中的棒状的加热器, 0106 在上述。
41、槽孔与上述加热器之间形成有上述间隙, 0107 上述气体导入路径形成于上述加热块上, 使得向上述间隙导入传热气体。 0108 换言之, 第 16 技术方案, 提供加热装置, 其具备 : 0109 在真空中对物体进行加热的加热块 ; 0110 在上述加热块上形成的槽孔 ; 0111 可拆装地插入到上述槽孔中的棒状的加热器 ; 和 0112 在上述加热块中形成, 并向上述槽孔与上述加热器之间的间隙导入传热气体的气 体导入路径。 0113 根据本发明的第 16 技术方案, 在加热块中形成有气体导入路径。通过气体导入路 径, 传热气体被导入加热器与槽孔之间的间隙。 借助于传热气体, 从加热器向加热块的。
42、传热 得到促进, 因此可以缩小加热器的温度与加热块的温度之差。 也就是说, 可以一边适度确保 加热器与槽孔之间的间隙, 一边改善加热块的升温特性。由于可以适度确保加热器与槽孔 之间隙, 因此在维修时或者更换时, 可以将加热器从槽孔简便地拔出。 这样, 根据本发明, 可 以提供在能量效率方面优异、 并且维修也容易的加热装置。由于不需要过度地升高加热器 的温度, 因此加热器的寿命也延长。 0114 本发明的第17技术方案, 在第16技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 在上述 加热块上形成有多个上述槽孔, 在多个上述槽孔的每一个中插入有上述加热器, 上述气体 导入路径包含从上述加热块的外部向。
43、上述槽孔导入上述传热气体的第一路径、 和将上述槽 孔彼此相互连通的第二路径。根据这样的构成, 可以采用少量的传热气体促进从加热器向 加热块的传热。 0115 本发明的第 18 技术方案, 在第 16 或者第 17 技术方案的基础上, 提供加热装置, 其中, 在上述槽孔的长度方向的中央部, 上述间隙相对地宽大 ; 在上述槽孔的长度方向的端 部, 上述间隙相对地狭窄。根据第 18 技术方案, 由于在槽孔的端部, 间隙相对地狭窄, 因此 可以降低传热气体从间隙泄漏。另外, 由于在槽孔的中央部, 间隙相对地宽大, 因此能够从 槽孔容易地拔出加热器、 以及向槽孔中容易地插入加热器。 0116 本发明的第。
44、 19 技术方案, 在第 16 第 18 技术方案的任一项基础上, 提供加热装 置, 其中, 上述加热器具有 : 具有发热体的加热器主体 ; 和与上述加热器主体的上述发热体 电连接使得向上述发热体供给电力的引线, 在与上述引线所处的一侧相反的一侧, 上述槽 孔被封闭。如果将槽孔密闭, 则能够减少从间隙向真空槽的内部漏出的传热气体的量。利 用凸缘, 可得到与槽孔由有底孔形成的情况相同的效果。 0117 本发明的第 20 技术方案, 在第 16 第 19 技术方案的任一项基础上, 提供加热装 置, 其中, 上述加热器的尺寸和上述槽孔的尺寸被调节, 使得在通电时容许上述加热器的移 动。 根据这样的构。
45、成, 可以防止由于通电时的热膨胀而对加热器施加较大的力 (载荷或者应 力) 。因此, 加热器的寿命延长。 说 明 书 CN 103080366 A 11 8/19 页 12 0118 本发明的第 21 技术方案, 在第 16 第 20 技术方案的任一项基础上, 提供加热装 置, 其中, 上述加热器具有 : 具有发热体的加热器主体 ; 具有用于向上述发热体供给电力的 引线的引线部 ; 和设置于上述引线部与上述加热器主体之间使得将上述引线与上述发热体 电连接的连接部, 上述连接部位于上述槽孔之外的位置。由此, 可以使加热器的寿命延长。 0119 本发明的第 22 技术方案, 在第 16 第 21 。
46、技术方案的任一项基础上, 提供加热装 置, 其中, 上述加热装置为蒸发源, 上述加热块是具有凹部的蒸发容器, 所述凹部收容作为 应被蒸发的材料的上述物体。通过采用加热器对加热块进行加热, 可以使被收容于凹部的 材料熔融和蒸发。 0120 本发明的第 23 技术方案, 在第 16 第 21 技术方案的任一项基础上, 提供加热装 置, 其中, 上述加热装置是对基板进行加热的基板加热装置。根据第 23 技术方案, 可以高效 率地加热基板。 0121 本发明的第24技术方案, 提供一种真空加热方法, 其包括 : 使用第16第23技术 方案的任一技术方案的加热装置, 在真空中对上述物体进行加热的工序 ;。
47、 和一边实施上述 加热工序, 一边从真空的外部向上述加热装置供给上述传热气体的工序。根据第 24 技术方 案, 可以在真空中高效率地加热物体。 0122 本发明的第25技术方案, 提供一种薄膜制造方法, 其包括 : 使用第16第22技术 方案的任一技术方案的加热装置, 使作为上述物体的薄膜的材料在真空中蒸发, 使蒸发了 的材料沉积于基板上的工序 ; 和一边实施上述沉积工序, 一边从真空的外部向上述加热装 置供给上述传热气体的工序。根据第 25 技术方案, 可以高效率地制造高品质的薄膜。 0123 以下, 对于本发明的实施方式, 参照附图进行说明。再者, 本发明并不被以下的实 施方式限定。 01。
48、24 (第一实施方式) 0125 第一实施方式, 是在腔室内一边输送片状的基板, 一边在冷却壳上的蒸镀区域进 行蒸镀的方式。 0126 蒸镀装置的构成 0127 图 1 是模式地表示第一实施方式的蒸镀装置的截面图, 图 2 是放大地表示图 1 的 蒸镀装置的蒸镀源附近的局部放大图。 0128 蒸镀装置100具备 : 腔室 (真空槽) 2 ; 设置于腔室2的外部, 并用于对腔室2进行排 气的排气泵 1 ; 从腔室 2 的外部向腔室 2 的内部导入惰性气体等气体 (传热气体) 的气体导 入管 11(气体导入路径) ; 和调节气体导入管 11 的气体流量的质量流量控制器 (mass flow con。
49、troller) 12。 0129 在腔室 2 的内部, 设置有 : 蒸发源 30, 其具有保持蒸镀材料的贮藏容器 9(被加热 体) 和可拆装地收纳贮藏容器 9 并用于对贮藏容器 9 进行加热的加热容器 10(加热体) ; 用 于输送片状的基板4的输送部 ; 在蒸镀区域保持基板4并从背面冷却的冷却壳6 ; 和用于在 蒸镀区域外遮挡 (遮蔽) 来自加热容器 10 的辐射热的遮挡部 13。 0130 贮藏容器 9, 在上端面具有保持蒸镀材料的凹部 ; 和用于使由加热容器 10 加热而 蒸发的蒸镀材料气体通过的开口部。作为构成贮藏容器 9 的材料, 选择不与加热蒸发时的 蒸镀材料反应的材料。在本实施方式中, 贮藏容器 9 也可以不设。