《一种无乳剂太阳能网板的制作工艺.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《一种无乳剂太阳能网板的制作工艺.pdf（18页珍藏版）》请在专利查询网上搜索。
1、10申请公布号CN104118194A43申请公布日20141029CN104118194A21申请号201310154938422申请日20130428B41C1/1420060171申请人昆山允升吉光电科技有限公司地址215300江苏省苏州市昆山市巴城镇红杨路888号72发明人魏志凌高小平潘世珎张成岩54发明名称一种无乳剂太阳能网板的制作工艺57摘要本发明公开了一种无乳剂太阳能网板的制作工艺，其具体步骤包括S1、一次处理前处理芯模一次贴膜一次曝光一次显影；S2、一次电铸；S3、二次处理将经过所述步骤S2一次电铸工序后的芯模进行二次贴膜二次曝光二次显影；S4、二次电铸；S5、后处理经过所述步。
2、骤S4二次电铸的芯模进行第二电铸层褪膜剥离等工序。该工艺能够为太阳能网板的制作提供一种新的方法，此工艺只需要一套对应的设备，且通过此工艺制作的太阳能网板的两层电铸层一体成型无编织型的经纬节点，下浆均匀，从而提高印刷质量。51INTCL权利要求书2页说明书8页附图7页19中华人民共和国国家知识产权局12发明专利申请权利要求书2页说明书8页附图7页10申请公布号CN104118194ACN104118194A1/2页21一种无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，包括如下步骤S1、一次处理前处理芯模一次贴膜一次曝光一次显影，经所述一次处理的显影工序后，所述一次贴的膜在所述芯模上形成预设的显影图案一。
3、，所述预设的显影图案一与所述无乳剂太阳能网板的漏浆区域相适应；S2、一次电铸将经过所述步骤S1一次处理工序后的所述芯模放进电铸溶液里进行电铸，电铸后形成第一电铸层，所述第一电铸层与经过所述步骤S1一次显影工序形成的预设的显影图案一互补；S3、二次处理将经过所述步骤S2中所述的一次电铸工序后的芯模进行二次贴膜二次曝光二次显影，经所述二次显影工序后，所述二次贴的膜在所述第一电铸层表面形成预设的显影图案二；S4、二次电铸将经过所述二次处理工序的芯模放入电铸槽溶液中进行二次电铸，经所述二次电铸工序后形成第二电铸层，所述第二电铸层主体为网格结构，所述第一电铸层通过所述第二电铸层结合形成一个整体；S5、后。
4、处理经过步骤S4二次电铸的芯模进行第二层电铸层褪膜剥离等工序，经所述剥离工序后得到所述的无乳剂太阳能网板。2根据权利要求1所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，在所述步骤S3中所述二次处理之前还包括第一电铸层褪膜后续处理工序，所述第一电铸层褪膜工序利用超声水洗进行褪膜处理，所述后续处理工序包括喷砂、清洗工序。3根据权利要求1、2所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，所述步骤S1中所述的一次贴膜工序是将所述膜压贴或涂覆到经所述前处理的芯模表面，所述的膜厚度与所述第一电铸层的厚度相当，为830M；所述步骤S3中所述的二次贴膜工序是将膜压贴或涂覆到经所述后续处理工序后芯模的表面，所述。
5、二次贴膜的所述膜厚度与所述第二电铸层的厚度相当，为1045M。4根据权利要求3所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，所述步骤S1中所述的一次贴膜工序中所述膜的厚度为1025M，所述步骤S3中所述的二次贴膜工序中所述膜的厚度为1530M。5根据权利要求1所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，所述步骤S1中所述的一次曝光工序是将经所述一次贴膜后的芯模在贴有所述膜的一面通过曝光机曝光，在所述膜上形成预设的曝光图案一；所述步骤S3中所述的二次曝光工序是将经所述二次贴膜后的芯模在贴有所述膜的一面通过曝光机曝光，在所述膜上形成预设的曝光图案二。6根据权利要求1所述的无乳剂太阳能网板的制作工。
6、艺，其特征在于，经所述步骤S2中所述的一次电铸工序后，所述第一电铸层的厚度与所述一次贴膜工序中所述膜的厚度一致，为830M；经所述步骤S4中所述的二次电铸工序后，所述第二电铸层的厚度与所述二次贴膜工序中所述膜的厚度一致，为1045M。7根据权利要求6所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，所述第一电铸层的厚度为1025M；所述第二电铸层的厚度为1530M。8根据权利要求1所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，所述一次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍5080G/L权利要求书CN104118194A2/2页3七水合氯化镍为1020G/L硼酸3050G/L电铸时间2490MIN9根据权。
7、利要求1所述的无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，所述二次电铸工序的电铸参数为氨基磺酸镍5080G/L七水合氯化镍为1020G/L硼酸3050G/L电铸时间30135MIN。权利要求书。CN104118194A1/8页4一种无乳剂太阳能网板的制作工艺0001技术领域0002本发明涉及一种无乳剂太阳能网板的制作工艺，具体涉及一种用金属层代替乳剂的太阳能网板的制作工艺，属于太阳能电池网板制造领域。0003背景技术0004随着经济的快速发展，加之地球人口众多，能源短缺的问题日益严重，充分合理地利用太阳能是解决能源短缺问题的一种有效手段，其中太阳能电池是日前广泛引用的手段之一。制作太阳能电池片需要。
8、用到印刷用的太阳能网板，通过此网板，将导电浆料漏印到半导体材料相应的位置上（即主栅线、细栅线位置），通过太阳光照射，印有导电浆料的半导体材料产生光伏效应，从而将自然界的光能转化为可供人们利用的电能。0005传统用的太阳能网板是编织型的丝网，在太阳能电池电极印刷工序中因其具有编织型的经纬节点，导致下浆不均匀，从而影响太阳能电池的印刷质量。0006中国专利申请号为201220004001X的专利公开了一种具有两层结构的太阳能网版，所述两层结构分别为金属平网层及掩模感光聚合物层，所述掩模感光聚合物层通过涂覆或压贴的方式结合在金属平网层上，在制作此结构的太阳能网板的过程中，对应的两层结构需要两套设备（。
9、即对应制作平网层和制作掩模感光聚合物层的两套设备），将感光聚合物涂覆或压贴到金属平网层后还需要对感光聚合物层进行曝光、显影等工序，就需要相对应的设备，因此有必要提出一种新的太阳能电池网板的制作方法。0007发明内容0008有鉴于此，本发明所要解决的技术问题是提供一种无乳剂太阳能网板的制作工艺，此工艺只需要一套对应的设备，且通过此工艺制作的太阳能网板的两层电铸层一体成型无编织型的经纬节点，下浆均匀，从而提高印刷质量。0009本发明为解决上述问题提供了一种无乳剂太阳能网板的制作工艺，其具体步骤包括S1、一次处理前处理芯模一次贴膜一次曝光一次显影，经所述一次处理的显影工序后，所述一次贴的膜在所述芯模。
10、上形成预设的显影图案一，所述预设的显影图案一与所述无乳剂太阳能网板的漏浆区域相适应；S2、一次电铸将经过所述步骤S1一次处理工序后的所述芯模放进电铸溶液里进行电铸，电铸后形成第一电铸层，所述第一电铸层与经过所述步骤S1一次显影工序形成的预设的显影图案一互补；S3、二次处理将经过所述步骤S2中所述的一次电铸工序后的芯模进行二次贴膜二次曝光二次显影，经所述二次显影工序后，所述二次贴的膜在所述第一说明书CN104118194A2/8页5电铸层表面形成预设的显影图案二；S4、二次电铸将经过所述二次处理工序的芯模放入电铸槽溶液中进行二次电铸，经所述二次电铸工序后形成第二电铸层，所述第二电铸层主体为网格结。
11、构，所述第一电铸层通过所述第二电铸层结合形成一个整体；S5、后处理经过步骤S4二次电铸的芯模进行第二层电铸层褪膜剥离等工序，经所述剥离工序后得到所述的无乳剂太阳能网板。0010下面将详细地描述本发明所提供的无乳剂太阳能网板的制作工艺，一些附加的技术特征也将在下面的叙述中展示出来。0011进一步地，所述步骤S1中所述的前处理芯模工序，是将所述芯模进行喷砂、水洗、烘干等工序。0012进一步地，所述步骤S1中所述的一次贴膜工序是将所述膜压贴或涂覆到经所述前处理的芯模表面，所述的膜厚度与所述第一电铸层的厚度相当，为830M。0013优选地，所述步骤S1中所述的一次贴膜工序中所述的膜厚度与所述第一层电铸。
12、层的厚度相当，为1025M。0014进一步地，步骤S1中所述的一次曝光工序是将经所述一次贴膜后的所述芯模在贴有所述膜的一面通过曝光机曝光，在所述膜上形成预设的曝光图案一。所述的曝光图案一包括对应主栅线、细栅线图案的长条开口的曝光图案，或者包括对应细栅线的长条开口的曝光图案。0015进一步地，所述步骤S1中所述预设的显影图案一包括与主栅线、细栅线图案对应的长条开口的显影图案，或者包括与细栅线图案对应的长条开口的显影图案，其中所述预设的显影图案一与所述无乳剂太阳能网板的漏浆区域相适应。0016所述步骤S2中所述的第一电铸层与经过所述步骤S1一次显影工序形成的预设的显影图案互补，其具体是，显影图案一。
13、区域以外的区域均电铸上一层金属层。0017进一步地，经所述步骤S2中所述的一次电铸工序后，所述第一层电铸层的厚度与所述一次贴膜工序中所述膜的厚度一致，为830M；优选地，经所述步骤S2中所述的一次电铸工序后，所述第一层电铸层的厚度与所述一次贴膜工序中所述膜的厚度一致，为1025M。0018进一步地，在所述步骤S3二次处理之前还包括第一电铸层褪膜后续处理工序，所述第一层电铸层褪膜工序利用超声水洗进行褪膜处理，所述后续处理工序包括喷砂、清洗工序。0019所述后续处理工序通过喷砂工序可以增加所述第一层电铸层与所述第二层电铸层的结合力。0020进一步地，所述步骤S3中所述的二次贴膜工序是将所述膜压贴或。
14、涂覆到经所述后续处理工序后的所述芯模的表面，所述的膜厚度与所述第二电铸层厚度相当，为1045M。0021优选地，S3中所述的二次贴膜工序中所述的膜厚度与二次电铸的第二电铸层厚度相当，为1530M。0022进一步地，所述步骤S3中所述的二次曝光工序是将经所述二次贴膜后的芯模在贴有所述膜的一面通过曝光机曝光，在所述膜上形成预设的曝光图案二。所述曝光图案二说明书CN104118194A3/8页6包括板体网格曝光图案，所述板体网格的曝光图案包括主栅线、细栅线图案的曝光图案，或者包括细栅线图案的曝光图案。0023所述的经二次曝光工序后形成的包括细栅线图案，或者包括细栅线、主栅线图案的曝光图案通过对位与所。
15、述经一次电铸工序后形成的第一电铸层上的相应的长条开口的位置相对应。0024进一步地，经所述二次显影工序后，所述二次贴的膜在所述第一电铸层表面形成预设的显影图案二。所述显影图案二包括板体网格的显影图案，所述板体网格的显影图案包括细栅线图案，或者包括细栅线、主栅线图案的显影图案。所述显影图案二与所述曝光图案二相对应。0025进一步地，经所述步骤S4中所述的二次电铸工序后，所述第二电铸层的厚度与所述二次贴膜工序中所述膜的厚度一致，为1045M。0026优选地，经所述步骤S4中所述的二次电铸工序后，所述第二电铸层的厚度与所述二次贴膜工序中所述膜厚度一致，为1530M。0027进一步地，所述一次电铸工序。
16、的电铸参数如下氨基磺酸镍5080G/L七水合氯化镍为1020G/L硼酸3050G/L电铸时间2490MIN进一步，所述二次电铸工序中电铸参数如下氨基磺酸镍5080G/L七水合氯化镍为1020G/L硼酸3050G/L电铸时间30135MIN根据本发明的背景技术中所述，传统用的太阳能网板是编织型的丝网，在太阳能电池电极印刷工序中因其具有编织型的经纬节点，导致下浆不均匀，从而影响太阳能电池的印刷质量。中国专利申请号为201220004001X的专利公开的具有两层结构的太阳能网版，其制作过程中需要对应的两套设备（即对应制作平网层和制作掩模感光聚合物层的两套设备），将感光聚合物涂覆或压贴到金属平网层后还。
17、需要对感光聚合物层进行曝光、显影等工序，就需要相应的曝光、显影设备，从而整个制作过程中需要两套设备。而本发明提供的所述无乳剂太阳能网板的制作工艺，所述一次处理、一次电铸与所述的二次处理、二次电铸均属于重复制作工序，通过一套设备即可制成，且由此工艺制作的无乳剂太阳能网板的两层电铸层一体成型无编织型的经纬节点，印刷时下浆均匀，有利于提高太阳能电池的印刷质量。0028本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。0029附图说明0030本发明的上述和/或附加的方面和优点将从下面结合附图对实施例的描述中将说明书CN104118194A4/8页7。
18、变得明显和容易理解，其中图1所示为一次贴膜后的截面示意图；图2所示为一次曝光后的截面示意图；图3所示为一次显影后的截面示意图；图4所示为一次电铸后的截面示意图；图5所示为第一电铸层褪膜后的截面示意图；图6所示为二次贴膜后的截面示意图；图7所示为二次电铸后截面示意图；图8所示为第一电铸层平面结构示意图；图9所示为剥离后无乳剂太阳能网板的截面示意图；图10所示为无乳剂太阳能网板的平面结构示意图；图11图13所示为图10中105部分放大示意图；图14图16所示为图10中106部分放大示意图；图17所示为一种无乳剂太阳能网板制作工艺的流程图；图1中，11为膜，12为芯模；图2中，21为曝光区域的膜（即。
19、显影图案一）；图4中，41为第一电铸层；图5中，51为长条开口（对应主栅线）；图6中，61为膜；图7中，71为第二电铸层；图8中，81为与细栅线对应的长条开口；图10中，101为主栅线图案，102为细栅线图案，103为板体，105和106为待放大区域；具体实施方式0031下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基。
20、于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。0032本发明的发明构思如下，本发明的背景技术中所述，中国专利申请号为201220004001X的专利公开的具有两层结构的太阳能网版，其制作过程中需要对应的两套设备（即对应制作平网层和制作掩模感光聚合物层的两套设备），将感光聚合物涂覆或压贴到金属平网层后还需要对感光聚合物层进行曝光、显影等工序，就需要相应的曝光、显影设备，从而整个制作过程中需要两套设备，而传统的太阳能丝网具有编织型的经纬节点，导致下浆不均匀，从而影响太阳能电池的。
21、印刷质量。本发明提供的所述无乳剂太阳能网板的制作工艺，通过一套设备即可制成，且由此工艺制作的无乳剂太阳能网板的两层电铸层一体成型无编织型的经纬节点，印刷时下浆均匀，有利于提高太阳能电池的印刷质量。说明书CN104118194A5/8页80033下面将参照附图来描述本发明的无乳剂太阳能网板的制作工艺，图1图4所示分别为一次贴膜、一次曝光、一次显影、一次电铸工序后的截面示意图，图5所示为第一层电铸层褪膜后的截面示意图，图6图7所示分别为二次贴膜、二次电铸工序后的截面示意图，图8所示为第一层电铸层平面结构示意图，图10所示为无乳剂太阳能网板的平面结构示意图，图17所示为无乳剂太阳能网板制作工艺的流程。
22、图。0034根据本发明的实施例，如图17所示，为本发明的无乳剂太阳能网板制作工艺的流程图，一种无乳剂太阳能网板的制作工艺，其特征在于，包括如下步骤S1、一次处理前处理芯模一次贴膜一次曝光一次显影，经所述一次处理的显影工序后，所述一次贴的膜11在所述芯模12上形成预设的显影图案一，所述预设的显影图案一与所述无乳剂太阳能网板的漏浆区域相适应；S2、一次电铸将经过所述步骤S1一次处理工序后的所述芯模放进电铸溶液里进行电铸，电铸后形成第一电铸层41，所述第一电铸层与41经过所述步骤S1一次显影工序形成的预设的显影图案一互补；S3、二次处理将经过所述步骤S2中所述的一次电铸工序后的芯模进行二次贴膜二次曝。
23、光二次显影，经所述二次显影工序后，所述二次贴的膜61在所述第一电铸层表面形成预设的显影图案二；S4、二次电铸将经过所述二次处理工序的芯模放入电铸槽溶液中进行二次电铸，经所述二次电铸工序后形成第二电铸层71，所述第二电铸层71主体为网格结构，所述第一电铸层41通过所述第二电铸层71结合形成一个整体；S5、后处理经过步骤S4二次电铸的芯模进行第二层电铸层褪膜剥离等工序，经所述剥离工序后得到所述的无乳剂太阳能网板。0035下面将详细地描述本发明所提供的无乳剂太阳能网板的制作工艺，一些附加的技术特征也将在下面的叙述中展示出来。0036根据本发明的实施例，所述步骤S1中所述的前处理芯模工序，是将芯模12。
24、进行喷砂、水洗、烘干等工序。0037根据本发明的实施例，所述步骤S1中所述的一次贴膜工序是将膜11压贴或涂覆到经前处理的芯模12表面，如图1所示为一次贴膜的截面示意图，所述的膜11厚度与所述的第一电铸层41厚度相当，为830M。0038优选地，所述步骤S1中所述的一次贴膜工序中所述的膜11厚度与第一层电铸层41厚度相当，为1025M。0039根据本发明的实施例，所述步骤S1中所述的一次曝光工序是将一次贴膜工序后的芯模12在贴有膜11的一面通过曝光机曝光，在所述膜上形成曝光图案一。所述的曝光图案一包括对应主栅线（51）、细栅线图案的长条开口的曝光图案，或者包括对应细栅线的长条开口的曝光图案。00。
25、40所述的曝光图案一可以根据需要设计成包括分别对应细栅线图案、主栅线图案的长条开口的曝光图案，也可以只包括对应细栅线图案的长条开口的曝光图案。0041如图2所示为一次曝光工序后的截面示意图，所述的曝光图案是膜曝光的区域21（图2中21为与主栅线图案对应长条开口的曝光图案），曝光区域21以外区域的膜11未曝说明书CN104118194A6/8页9光。0042根据本发明的实施例，所述步骤S1中所述预设的显影图案一与上述所述的曝光图案一相对应，其包括与主栅线、细栅线图案对应的长条开口的显影图案，或者包括与细栅线图案对应的长条开口的显影图案，其中所述预设的显影图案一与所述无乳剂太阳能网板的漏浆区域相适。
26、应。0043步骤S2中所述的第一电铸层与经过所述步骤S1一次显影工序形成的预设图案互补，其具体是，芯模上显影图案一区域以外的区域均电铸上一层金属层，与显影图案一形成互补的形式。0044如图3所示为一次显影工序后的截面示意图，经一次显影工序，在芯模12的膜11显出待形成的与第一电铸层上的长条开口对应的显影图案。经过一次显影工序后，未曝光的膜11与显影液反应而脱落，曝光的膜（即曝光区域21）不与显影液反应而继续存留，从而形成如图3所示的显影截面示意图，曝光区域的膜21即为与主栅线图案对应的长条开口的显影图案。0045根据本发明的实施例，经步骤S2中所述的一次电铸工序，第一电铸层41的厚度与一次贴膜。
27、中的膜11的厚度相当，为830M；优选地，经所述步骤S2中所述的一次电铸工后，所述第一电铸层41的厚度与一次贴膜中的膜11厚度相当，为1025M。0046经一次电铸工序后形成第一层电铸层，所述第一层电铸层包括步骤S1中所述的长条开口，图4所示为一次电铸后的截面示意图，在显影图案一以外的区域形成第一电铸层41。0047根据本发明的实施例，在所述步骤S3二次处理之前还包括第一层电铸层褪膜后续处理工序，所述第一层电铸层褪膜工序利用超声水洗进行褪膜处理，所述后续处理工序包括喷砂、清洗工序。0048所述褪膜工序是将经一次曝光工序后曝光的膜21（即显影图案一）褪掉。0049后续处理工序通过喷砂工序可以增加。
28、第一层电铸层与第二层电铸层的结合力。0050图5所示为第一电铸层经后续处理后的截面示意图，51为长条开口（对应主栅线的长条开口），经褪膜工序将曝光区域的膜21（也即显影图案一）去掉形成第一电铸层41上的长条开口51（51为对应主栅线图案的长条开口）。图8所示为第一电铸层41的平面结构示意图，其包括与细栅线图案对应的长条开口81、与主栅线图案对应的长条开口51。0051据本发明的实施例，步骤S3中所述的二次贴膜工序，如图6所示为二次贴膜后的截面示意图，是将膜61压贴或涂覆到经所述后续处理工序后的芯模表面，所述的膜厚度与第二电铸层71厚度相当，为1045M。0052优选地，S3中所述的二次贴膜工序。
29、中所述的膜厚度与第二电铸层71厚度相当，为1530M。0053根据本发明的实施例，步骤S3中所述的二次曝光工序是将二次贴膜后的芯模在贴有膜的一面通过曝光机，在膜上形成曝光图案二。所述曝光图案二包括板体网格曝光图案，所述板体网格的曝光图案包括主栅线、细栅线图案的曝光图案或包括细栅线图案的曝光图案。0054根据本发明的实施例，所述的经二次曝光工序后形成的包括细栅线图案，或者包说明书CN104118194A7/8页10括细栅线、主栅线图案的曝光图案通过对位与所述的第一电铸层41上的相应的长条开口（即与主栅线图案对应的长条开口51、与细栅线图案对应的长条开口81）的位置相对应。0055根据本发明的实施。
30、例，经所述步骤S3中所述的二次显影工序后，显出待形成第二电铸层的显影图案二，所述显影图案二包括板体网格的显影图案，所述板体网格的显影图案包括细栅线图案，或者包括细栅线、主栅线图案的显影图案。所述显影图案二与所述曝光图案二相对应。0056根据本发明的实施例，经所述步骤S4中所述的二次电铸工序后，第二电铸层71的厚度与二次贴膜工序中的膜61厚度一致，为1045M。0057优选地，经所述步骤S4中所述的二次电铸工序后，第二层电铸层71的厚度与二次贴膜工序中的膜61厚度一致，为1530M。0058图7所示为二次电铸后的截面示意图，71为第二电铸层，图9所示为剥离后无乳剂太阳能网板的截面示意图，图10所。
31、示为无乳剂太阳能网板的平面结构示意图，101为主栅线图案，102为细栅线图案，103为板体，105和106为待放大区域，图11图13所示为图10中105部分放大示意图，图14图16所示为图10中106部分放大示意图，图中阴影部分为第一层电铸层，网格为第二层电铸层。0059所述一次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍5080G/L七水合氯化镍为1020G/L硼酸3050G/L电铸时间2490MIN所述二次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍5080G/L七水合氯化镍为1020G/L硼酸3050G/L电铸时间30135MIN根据本发明的一个实施例，所述一次贴膜的膜11厚度为20M，所述第一电铸层厚度为20。
32、M，所述二次贴膜的膜61的厚度为30M，所述第二电铸层厚度为30M。0060所述一次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍65G/L七水合氯化镍为15G/L硼酸45G/L电铸时间60MIN所述二次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍65G/L七水合氯化镍为15G/L硼酸45G/L电铸时间90MIN根据本发明的一个实施例，所述一次贴膜的膜11厚度为15M，所述第一电铸层厚度为15M，所述二次贴膜的膜61的厚度为30M，所述第二电铸层厚度为30M。说明书CN104118194A108/8页110061所述一次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍65G/L七水合氯化镍为15G/L硼酸45G/L电铸时间45MIN所。
33、述二次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍65G/L七水合氯化镍为15G/L硼酸45G/L电铸时间90MIN根据本发明的一个实施例，所述一次贴膜的膜11厚度为20M，所述第一电铸层厚度为20M，所述二次贴膜的膜61的厚度为25M，所述第二电铸层厚度为25M。0062所述一次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍65G/L七水合氯化镍为15G/L硼酸45G/L电铸时间60MIN所述二次电铸工序的电铸参数如下氨基磺酸镍65G/L七水合氯化镍为15G/L硼酸45G/L电铸时间75MIN尽管参照本发明的多个示意性实施例对本发明的具体实施方式进行了详细的描述，但是必须理解，本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和。
34、实施例，这些改进和实施例将落在本发明原理的精神和范围之内。具体而言，在前述公开、附图以及权利要求的范围之内，可以在零部件和/或者从属组合布局的布置方面作出合理的变型和改进，而不会脱离本发明的精神。除了零部件和/或布局方面的变型和改进，其范围由所附权利要求及其等同物限定。说明书CN104118194A111/7页12图1图2图3说明书附图CN104118194A122/7页13图4图5图6说明书附图CN104118194A133/7页14图7图8说明书附图CN104118194A144/7页15图9图10说明书附图CN104118194A155/7页16图11图12说明书附图CN104118194A166/7页17图13图14说明书附图CN104118194A177/7页18图15图16图17说明书附图CN104118194A18。