一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法.pdf

本发明公开了一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，依次包括以下步骤：A.原料收集；B.加热炉煅烧；C.酸(碱)洗除碳；D.烘干；E.得到成品。所述的煅烧温度范围在500-1200℃之间。所述的加热炉煅烧时间在30-240分钟。所述的加热炉为回转窑、反射炉、推板窑、连续带式炉及其他形式焙烧炉。本发明的一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法通过高温煅烧，改变微硅粉的颜色、去除杂质碳；又通过酸(或碱)洗工序去除其余杂质，达到白碳黑对化学成分和物理性能的要求，环保节能，生产成本低，工艺简单。

权利要求书
1.  一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，其特征在于：依次包括以下步骤：
A.原料收集：将工业硅及硅铁合金生产中产生的烟尘微硅粉收集；
B.加热炉煅烧：采用直接加热煅烧方式将灰色微硅粉烧成纯白色，去除微硅粉煅烧后残余的碳；
C.酸(碱)洗除杂：使用酸(碱)去除微硅粉煅烧后残余的其他杂质；
D.烘干：将步骤C中的微硅粉注入烘干机，将微硅粉进行烘干，烘干温度控制在100-120℃，烘干过程中每隔10分钟测定一次微硅粉的含水率，直至微硅粉的含水率达到0.5％以下，停止烘干；
E.得到成品：将步骤D中得到的白炭黑分类包装、入库。

2.  根据权利要求1所述的一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，其特征在于：所述的煅烧温度范围在500-1200℃之间。

3.  根据权利要求1所述的一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，其特征在于：所述的加热炉煅烧时间在30-240分钟。

4.  根据权利要求1所述的一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，其特征在于：所述的加热炉为回转窑、反射炉、推板窑、连续带式炉及其他形式焙烧炉。

说明书一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法
技术领域
本发明涉及一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法。
背景技术
微硅粉是工业硅及硅铁合金生产中产生的烟尘，通过相关设备收集所得；其主要成份为SiO2，含量在88％--96％之间。另有少量的单质C、MgO、CaO、Al2O3、Fe2O3等杂质。微硅粉呈灰色球状及球状集合体，粒度范围约在0.04---0.3um。白碳黑主要要成份为SiO2，含量约98.00---99.999％，球形颗粒，其主要生产方法有气相法和沉淀法。粒径在10um～0.07um之间。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的缺点和不足，提供一种环保节能，生产成本低，工艺简单的用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法。
本发明的一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法是通过以下技术方案来实现的：
一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，依次包括以下步骤：
A.原料收集：将工业硅及硅铁合金生产中产生的烟尘微硅粉收集；
B.加热炉煅烧：采用直接加热煅烧方式将灰色微硅粉烧成纯白色，去除微硅粉煅烧后残余的碳；
C.酸(碱)洗除杂：使用酸(碱)去除微硅粉煅烧后残余的其他杂质；
D.烘干：将步骤C中的微硅粉注入烘干机，将微硅粉进行烘干，烘干温度控制在100-120℃，烘干过程中每隔10分钟测定一次微硅粉的含水率，直至微硅粉的含水率达到0.5％以下，停止烘干；
E.得到成品：将步骤D中得到的白炭黑分类包装、入库。
作为优选，所述的煅烧温度范围在500-1200℃之间。
作为优选，所述的加热炉煅烧时间在30-240分钟。
作为优选，所述的加热炉为回转窑、反射炉、推板窑、连续带式炉及其他形式焙烧炉。
与现有技术相比，本发明的一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法的有益效果是：通过高温煅烧方法，改变微硅粉的颜色、去除杂质碳；又通过酸(或碱)洗工序去除其余杂 质，达到白碳黑对化学成分和物理性能的要求，环保节能，生产成本低，工艺简单。
具体实施方式
下面给出本发明的较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。
本发明产品质量指标
SiO2：98.6％～99.99％
Al2O3：＜0.006％
CaO：＜0.007％
FeO：＜0.026％
MgO：＜0.004％
粒度：0.04-0.6um；团聚粒度＜5um，平均粒径0.1-0.3μm。
实施例1：
一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，依次包括以下步骤：
A.原料收集：将工业硅及硅铁合金生产中产生的烟尘微硅粉收集；
B.加热炉煅烧：采用直接加热煅烧方式将灰色微硅粉烧成纯白色，去除微硅粉煅烧后残余的碳；
C.酸(碱)洗除杂：使用酸(碱)去除微硅粉煅烧后残余的其他杂质；
D.烘干：将步骤C中的微硅粉注入烘干机，将微硅粉进行烘干，烘干温度控制在100℃，烘干过程中每隔10分钟测定一次微硅粉的含水率，直至微硅粉的含水率达到0.5％以下，停止烘干；
E.得到成品：将步骤D中得到的白炭黑分类包装、入库。
所述的煅烧温度范围在600℃之间，加热炉煅烧时间在210分钟。所述的加热炉为回转窑、反射炉、推板窑、连续带式炉及其他形式焙烧炉。
实施例2：
一种用微硅粉生产纳米级白碳黑的方法，依次包括以下步骤：
A.原料收集：将工业硅及硅铁合金生产中产生的烟尘微硅粉收集；
B.加热炉煅烧：采用直接加热煅烧方式将灰色微硅粉烧成纯白色，去除微硅粉煅烧后残余的碳；
C.酸(碱)洗除杂：使用酸(碱)去除微硅粉煅烧后残余的其他杂质；
D.烘干：将步骤C中的微硅粉注入烘干机，将微硅粉进行烘干，烘干温度控制在110 ℃，烘干过程中每隔10分钟测定一次微硅粉的含水率，直至微硅粉的含水率达到0.5％以下，停止烘干；
E.得到成品：将步骤D中得到的白炭黑分类包装、入库。
所述的煅烧温度范围在1100℃之间，加热炉煅烧时间在60分钟。所述的加热炉为回转窑、反射炉、推板窑、连续带式炉及其他形式焙烧炉。
上述实施例，只是本发明的两个实例，并不是用来限制本发明的实施与权利范围，凡与本发明权利要求所述内容相同或等同的技术方案，均应包括在本发明保护范围内。