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1、(10)申请公布号 CN 104152853 A (43)申请公布日 2014.11.19 CN 104152853 A (21)申请号 201410322534.6 (22)申请日 2014.07.08 C23C 14/35(2006.01) C23C 14/08(2006.01) (71)申请人 中国人民解放军国防科学技术大学 地址 410073 湖南省长沙市开福区德雅路 109 号 (72)发明人 李俊生 程海峰 周永江 郑文伟 童思超 (74)专利代理机构 上海金盛协力知识产权代理 有限公司 31242 代理人 段迎春 (54) 发明名称 玻璃陶瓷靶材及其制备方法 (57) 摘要 本发。
2、明公开了一种玻璃陶瓷靶材， 包括合金 背板和玻璃陶瓷本体， 合金背板为耐高温镍基合 金， 玻璃陶瓷本体是通过丝网印刷工艺转移玻璃 陶瓷粉体在前述合金背板上后烧结制备而成， 合 金背板与所述玻璃陶瓷本体通过固相扩散方式结 合 ； 其制备方法包括 ： 将各原材料粉体混合， 高温 熔炼后进行淬冷， 再通过球磨， 烘干、 过筛后得到 玻璃粉 ； 取有机载体和玻璃粉混合， 球磨后得到 玻璃浆料 ； 在一合金背板上通过丝网印刷上述玻 璃浆料， 烘干后进行烧结处理 ； 重复上述步骤直 至得到所需厚度的玻璃陶瓷本体， 将表面进行抛 磨处理， 得到玻璃陶瓷靶材。 本发明能综合利用合 金背板的导电性和导热性， 降。
3、低靶材电荷积累和 降温过程中靶材开裂失效的风险。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 6 页 附图 1 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书6页 附图1页 (10)申请公布号 CN 104152853 A CN 104152853 A 1/1 页 2 1. 一种玻璃陶瓷靶材， 包括合金背板和玻璃陶瓷本体， 其特征在于， 所述合金背板为耐 高温镍基合金， 所述玻璃陶瓷本体是通过丝网印刷工艺转移玻璃陶瓷粉体在前述合金背板 上后烧结制备而成， 所述合金背板与所述玻璃陶瓷本体通过固相扩散方式结合。 2. 根据权利要求 1 所述的玻璃陶瓷。
4、靶材， 其特征在于， 所述玻璃陶瓷本体的厚度为 0.5mm 1.5mm， 所述合金背板的厚度为 1.5mm 2.5mm。 3. 根据权利要求 1 所述的玻璃陶瓷靶材， 其特征在于， 所述玻璃陶瓷靶材为磁控溅射 用阴极靶材。 4. 根据权利要求 1、 2 或 3 所述的玻璃陶瓷靶材， 其特征在于， 所述玻璃陶瓷本体为 ZnO-Al2O3-SiO2玻璃陶瓷， 该玻璃陶瓷本体主要由 ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3按 38 46 15 25 27 31 1.8 2.7 1 3 3 6 0.2 0.4 的质量比混 合熔炼制得。 5. 一种如权利要求 1。
5、 4 中任一项所述玻璃陶瓷靶材的制备方法， 包括如下步骤 ： (1) 粉体的制备 ： 将包含 ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3的各原材料粉体混合 均匀， 高温熔炼后使用去离子水进行淬冷， 再通过球磨进行细化， 烘干、 过筛后即得到粒度 均匀的玻璃粉 ； (2) 浆料的制备 ： 取有机载体和上述步骤 (1) 获得的玻璃粉混合， 球磨分散均匀后即得 到玻璃浆料 ； (3) 涂层的制备 ： 在一合金背板上通过丝网印刷上述步骤 (2) 获得的玻璃浆料， 烘干后 进行烧结处理 ； (4) 重复上述步骤 (3)， 直至得到所需厚度的玻璃陶瓷本体， 获得靶材。
6、胚体 ； (5) 将上述步骤 (4) 获得的靶材胚体的表面进行抛磨处理， 得到玻璃陶瓷靶材。 6. 根据权利要求 5 所述的制备方法， 其特征在于， 所述步骤 (1) 中， ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3在混合时的质量比为 38 46 15 25 27 31 1.8 2.7 1 3 3 6 0.2 0.4， 各原材料粉体的纯度均大于 99.9； 高温熔炼时温度 为 1500 1600； 所述球磨时的球料比为 2 3 1， 球磨时间为 8h 12h ； 所述烘干时 的温度为 100 150， 烘干时间为 20min 30min ； 所述过筛是指。
7、过 400 600 目筛。 7. 根据权利要求 5 或 6 所述的制备方法， 其特征在于， 所述步骤 (2) 中， 有机载体与 玻璃粉的混合质量比为 2 3 1 ； 所述有机载体的配方包括 ： 丁基卡必醇、 柠檬酸三丁 酯、 羟乙基纤维素、 蔗糖酯、 聚山梨酯和曲拉通 X-100， 且各成分的质量比为 1 0.165 0.175 0.015 0.017 0.04 0.06 0.04 0.06 0.014 0.017。 8. 根据权利要求 5 或 6 所述的制备方法， 其特征在于， 所述步骤 (3) 中， 所述丝网印刷 是采用150目300目丝网 ； 所述烧结处理过程中， 烧结温度为800900。
8、， 烧结时间为 10min 15min， 升温速度为 3 /min 5 /min。 9. 根据权利要求 5 或 6 所述的制备方法， 其特征在于， 所述步骤 (4) 中， 重复次数为 5 次 25 次。 10.根据权利要求5或6所述的制备方法， 其特征在于， 所述步骤(5)中， 所述抛磨处理 过程所用砂纸为 400 目 1000 目砂纸。 权 利 要 求 书 CN 104152853 A 2 1/6 页 3 玻璃陶瓷靶材及其制备方法 技术领域 0001 本发明属于靶材及其制造技术领域， 尤其涉及一种磁控溅射用玻璃陶瓷靶材及其 制备方法。 背景技术 0002 磁控溅射法是制备薄膜材料的主要技术之。
9、一， 溅射沉积薄膜的原材料即为靶材。 用靶材溅射沉积薄膜的致密度高、 附着性好， 现已得到广泛应用。 根据成份靶材可分为金属 靶材、 合金靶材和陶瓷化合物靶材三类。 玻璃陶瓷是区别于以上三类材料的新型复合材料， 由于具有机械强度高、 热膨胀性能可调、 耐化学腐蚀、 低介电损耗等优点， 被广泛应用于机 械制造、 光学、 电子、 航空航天等工业领域。 0003 玻璃陶瓷是由结晶相和玻璃相组成的新材料， 兼具陶瓷和玻璃的优点。 因此， 将玻 璃陶瓷制备成靶材后， 通过磁控溅射方法可得到性能优异的玻璃陶瓷涂层。 目前， 尚无有关 玻璃陶瓷靶材制备的报道。由于玻璃陶瓷靶材制备技术要求高， 采用铸造法制备。
10、的靶材胚 体对设备要求苛刻 ； 而粉末冶金法制备的靶材胚体需要的成型压力大， 且烧结完成后孔隙 率高。因此， 玻璃陶瓷靶材不适合采用传统的铸造法与粉末冶金法进行制备。 发明内容 0004 本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足， 提供一种能综合利用合金背板 导电性和导热性、 降低靶材电荷积累和降温过程靶材开裂失效风险的玻璃陶瓷靶材， 该靶 材特别适于用作溅射阴极靶材， 还相应提供一种步骤简单、 工艺效率高、 成本低的前述玻璃 陶瓷靶材的制备工艺。 0005 为解决上述技术问题， 本发明提出的技术方案为一种玻璃陶瓷靶材， 包括合金背 板和玻璃陶瓷本体， 所述合金背板为耐高温镍基合金， 所述玻。
11、璃陶瓷本体是通过丝网印刷 工艺转移玻璃陶瓷粉体在前述合金背板上后烧结制备而成， 所述合金背板与所述玻璃陶瓷 本体通过固相扩散方式结合。 0006 上述的玻璃陶瓷靶材中， 优选的， 所述玻璃陶瓷本体的厚度为 0.5mm 1.5mm， 所 述合金背板的厚度为 1.5mm 2.5mm。 0007 上述的玻璃陶瓷靶材中， 优选的， 所述靶材为磁控溅射用阴极靶材 ； 其形状可为矩 形或圆形。 0008 上述的玻璃陶瓷靶材中， 优选的， 所述玻璃陶瓷本体为 ZnO-Al2O3-SiO2玻璃陶瓷， 该玻璃陶瓷本体主要由ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3按384。
12、6152527 31 1.8 2.7 1 3 3 6 0.2 0.4 的质量比混合熔炼制得。 0009 本发明的上述玻璃陶瓷靶材根据溅射沉积原理提出， 即带电粒子轰击阴极靶材， 使靶材粒子 ( 团 ) 被击溅出并沉积到衬底上成膜 ； 然而， 靶材的工作环境严酷， 首先靶材需 要置于高压电场、 磁场环境中， 其次是靶材表面工作温度高达 300 500， 而另一侧为 冷却水强冷， 靶材需要承受剧烈的温差， 因此作为溅射阴极材料， 首先要求阴极靶材能够及 说 明 书 CN 104152853 A 3 2/6 页 4 时将带电轰击粒子转移， 以避免电荷积累而影响溅射效果 ； 其次阴极靶材需要将热量传导。
13、 至强冷区域， 以避免高温造成靶头失效。 本发明提出双层结构设计， 利用合金材料优秀的导 电和导热特性， 将合金材料作为玻璃陶瓷靶材的背板使用， 从而很好地满足了上述靶材的 各项使用要求。 0010 作为一个总的技术构思， 本发明还提供一种上述玻璃陶瓷靶材的制备方法， 包括 如下步骤 ： 0011 (1) 粉体的制备 ： 将包含 ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3的各原材料粉体 混合均匀， 高温熔炼后使用去离子水进行淬冷， 再通过球磨进行细化， 烘干、 过筛后即得到 粒度均匀的玻璃粉 ； 0012 (2) 浆料的制备 ： 将有机载体和上述步骤 (。
14、1) 获得的玻璃粉混合， 球磨分散均匀后 即得到玻璃浆料 ； 0013 (3) 涂层的制备 ： 在一合金背板上通过丝网印刷上述步骤 (2) 获得的玻璃浆料， 烘 干后进行烧结处理 ； 0014 (4) 重复上述步骤 (3)， 直至得到所需厚度的玻璃陶瓷本体， 获得靶材胚体 ； 0015 (5) 将上述步骤 (4) 获得的靶材胚体的表面进行抛磨处理， 得到玻璃陶瓷靶材。 0016 上述的制备方法， 优选的， 所述步骤 (1) 中， ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3 在混合时的质量比为3846152527311.82.713360.2 0.4， 各。
15、原材料粉体的纯度均大于 99.9 ； 高温熔炼时温度为 1500 1600 ( 熔炼时间 一般为 3h 左右即可 ) ； 所述球磨时的球料比为 2 3 1， 球磨时间为 8h 12h ； 所述烘干 时的温度为 100 150， 烘干时间为 20min 30min ； 所述过筛是指过 400 600 目筛。 0017 上述的制备方法， 优选的， 所述步骤 (2) 中， 有机载体与玻璃粉的混合质量比 为 2 3 1。所述有机载体的配方包括 ： 丁基卡必醇、 柠檬酸三丁酯、 羟乙基纤维素、 蔗糖酯、 聚山梨酯和曲拉通 X-100， 各成分的质量比为 1 0.165 0.175 0.015 0.017。
16、 0.04 0.06 0.04 0.06 0.014 0.017。 0018 上述的制备方法， 优选的， 所述步骤 (3) 中， 所述丝网印刷是采用 150 目 300 目 丝网 ； 所述烘干过程一般是指丝网印刷后， 将涂层在 150下烘干 30min ； 所述烧结处理过 程中， 烧结温度为800900， 烧结时间为10min15min， 升温速度为3/min5/ min。 0019 上述的制备方法， 优选的， 所述步骤 (4) 中， 重复次数为 5 次 25 次。 0020 上述的制备方法， 优选的， 所述步骤 (5) 中， 所述抛磨处理过程所用砂纸为 400 目 1000 目砂纸。 002。
17、1 与现有技术相比， 本发明的优点在于 ： 0022 1、 本发明的玻璃陶瓷靶材采用合金背板和玻璃陶瓷一体化技术， 利用合金背板导 电性和导热性好的优势， 达到制备玻璃陶瓷靶材的目的， 降低了靶材电荷积累和降温过程 靶材开裂失效的风险。 0023 2、 本发明的玻璃陶瓷靶材采用丝网印刷技术制备在合金背板上， 由于尺寸效应， 丝网印刷技术显著降低了玻璃陶瓷本体材料的烧结温度， 并且致密度高， 较铸造法和粉末 冶金法制备得到的玻璃陶瓷胚体更适合用作溅射靶材。 0024 3、 本发明的玻璃陶瓷靶材烧结处理后的玻璃陶瓷本体表面平整度和粗糙度低， 经 说 明 书 CN 104152853 A 4 3/6。
18、 页 5 砂纸抛磨处理即可使用， 靶材胚体无需进行机械铣磨加工。 0025 总的来说， 本发明利用玻璃陶瓷成型尺寸稳定以及可与金属焊接的特性， 通过丝 网印刷在合金背板上涂覆溅射本体， 再进行烧结处理， 可制备成具有合金背板结构的新型 玻璃陶瓷靶材， 为玻璃陶瓷靶材制备成型和应用提供了一种新的途径。 附图说明 0026 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案， 下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图是本发明 的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根据 这些附图获得其他的附图。 002。
19、7 图 1 为本发明实施例中玻璃陶瓷靶材的截面示意图。 0028 图 2 为本发明实施例 1 中玻璃陶瓷靶材的实物照片。 0029 图例说明 ： 0030 1、 合金背板 ； 2、 玻璃陶瓷本体。 具体实施方式 0031 为了便于理解本发明， 下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本发明作更全 面、 细致地描述， 但本发明的保护范围并不限于以下具体的实施例。 0032 除非另有定义， 下文中所使用的所有专业术语与本领域技术人员通常理解的含义 相同。本文中所使用的专业术语只是为了描述具体实施例的目的， 并不是旨在限制本发明 的保护范围。 0033 除有特别说明， 本发明中用到的各种试剂、 原料均为。
20、可以从市场上购买的商品或 者可以通过公知的方法制得的产品。 0034 实施例 1 ： 0035 一种如图 1、 图 2 所示本发明的玻璃陶瓷靶材， 由下至上包括合金背板 1 和玻璃陶 瓷本体 2， 为双层结构， 其中， 合金背板 1 为 Inconel600 耐高温镍基合金， 厚度为 1.5mm ； 玻 璃陶瓷本体 2 是通过丝网印刷工艺转移陶瓷粉体在前述合金背板上后烧结制备而成， 玻璃 陶瓷本体2为ZnO-Al2O3-SiO2玻璃陶瓷， 该玻璃陶瓷本体主要由ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3按 40 20 30 2.7 3 4 0.3 的质量比。
21、混合熔炼制得， 玻璃陶瓷本体 的厚度为 0.5mm。合金背板 1 与玻璃陶瓷本体 2 通过化学结合连接。本实施例中的玻璃陶 瓷靶材为直径 60mm 的圆形靶材， 其主要作为磁控溅射用阴极靶材。 0036 本实施例中上述玻璃陶瓷靶材的制备方法， 包括以下步骤 ： 0037 (1) 玻璃粉的制备 ： 将包含 ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3各原材料粉 体按以下质量分数配比混合均匀， 各原材料的纯度均大于 99.9， 将上述混合料装入刚玉 坩埚中， 再置于马弗炉中在 1500下保温 3h， 高温熔炼后使用去离子水进行淬冷得到玻璃 渣， 将玻璃渣置于玛。
22、瑙球磨罐中， 以无水乙醇作为球磨介质， 球料比 2.5 1， 球磨时间为 12h， 通过球磨进行细化 ； 球磨完成后将玻璃粉烘干， 烘干过程使用温度为 150， 烘干时间 为 25min， 烘干完成后采用 400 目的分样筛进行过筛处理， 得到粒度均匀的玻璃粉 ； 0038 各原材料粉体的质量分数配比如下 ： 说 明 书 CN 104152853 A 5 4/6 页 6 0039 0040 (2) 浆料的制备 ： 取有机载体和上述步骤 (1) 获得的玻璃粉体混合， 有机载体与玻 璃粉体的质量比为 3 1， 球磨分散均匀后即得到玻璃浆料 ； 球磨转速为 400r/min， 球磨时 间为 5h ；。
23、 有机载体的配方包括 ： 丁基卡必醇、 柠檬酸三丁酯、 羟乙基纤维素、 蔗糖酯、 聚山梨 酯和曲拉通 X-100， 质量比为 1 0.165 0.015 0.06 0.06 0.014 ； 0041 (3) 涂层的制备 ： 采用丝网印刷工艺在一合金背板 (Inconel600 镍基合金板 ) 上 均匀印刷上述步骤 (2) 获得的玻璃浆料， 在 150中烘干 30min， 其中丝网印刷采用 150 目 丝网 ； 烘干后的涂层进行烧结处理， 烧结过程的工艺参数为 ： 烧结温度为 900， 烧结时间 为 10min， 升温速度为 3 /min， 烧结处理后获得玻璃陶瓷涂层 ； 0042 (4) 玻璃。
24、陶瓷本体的制备 ： 重复上述步骤 (3) 的过程 5 次， 即可制备得到玻璃陶瓷 主体， 获得靶材胚体 ； 0043 (5) 表面处理 ： 将上述步骤 (4) 制备得到的靶材胚体表面用 1000 目的砂纸进行抛 磨处理， 即制备得到玻璃陶瓷靶材。 0044 通过上述本实施例方法制得的玻璃陶瓷靶材如图 2 所示， 将其应用于磁控溅射设 备上采用射频溅射方式进行镀膜， 玻璃陶瓷靶材正常工作， 无闪烁、 脱落、 辉光不均等不良 现象。 0045 实施例 2 ： 0046 一种如图 1 所示本发明的玻璃陶瓷靶材， 由下至上包括合金背板 1 和玻璃陶瓷本 体 2， 为双层结构， 其中， 合金背板 1 为。
25、 Inconel715 耐高温镍基合金， 厚度为 2.0mm ； 玻璃陶 瓷本体 2 是通过丝网印刷工艺转移陶瓷粉体在前述合金背板 1 上后烧结制备而成， 玻璃陶 瓷本体 2 为 ZnO-Al2O3-SiO2玻璃陶瓷， 该玻璃陶瓷本体主要由 ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3按 38 25 27 2.6 1 6 0.4 的质量比混合熔炼制得， 玻璃陶瓷本体 的厚度为 1.0mm。合金背板 1 与玻璃陶瓷本体 2 通过化学结合连接。本实施例中的玻璃陶 瓷靶材为边长为 80mm 的正方形靶材， 其主要作为磁控溅射用阴极靶材。 0047 本实施例中上述。
26、玻璃陶瓷靶材的制备方法， 包括以下步骤 ： 0048 (1)玻璃粉的制备 ： 将包含ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3各原材料粉体按 以下质量分数配比混合均匀， 各原材料的纯度均大于 99.9， 将上述混合料装入刚玉坩埚 中， 再置于马弗炉中在 1600下保温 3h， 高温熔炼后使用去离子水进行淬冷得到玻璃渣， 将玻璃渣置于玛瑙球磨罐中， 以无水乙醇作为球磨介质， 球料比21， 球磨时间为8h， 通过 球磨进行细化 ； 球磨完成后将玻璃粉烘干， 烘干过程使用温度为 100， 烘干时间为 20min， 说 明 书 CN 104152853 A 6 。
27、5/6 页 7 烘干完成后采用 600 目的分样筛进行过筛处理， 得到粒度均匀的玻璃粉 ； 0049 各原材料粉体的质量分数配比如下 ： 0050 0051 (2) 浆料的制备 ： 取有机载体和上述步骤 (1) 获得的玻璃粉体混合， 有机载体与玻 璃粉体的质量比为 2 1， 球磨分散均匀后即得到玻璃浆料 ； 球磨转速为 400r/min， 球磨时 间为 5h ； 有机载体的配方包括 ： 丁基卡必醇、 柠檬酸三丁酯、 羟乙基纤维素、 蔗糖酯、 聚山梨 酯和曲拉通 X-100， 质量比为 1 0.175 0.017 0.04 0.04 0.017 ； 0052 (3) 涂层的制备 ： 采用丝网印刷。
28、工艺在一合金背板 (Inconel715 镍基合金板 ) 上 均匀印刷上述步骤 (2) 获得的玻璃浆料， 在 150中烘干 30min， 其中丝网印刷采用 300 目 丝网 ； 烘干后的涂层进行烧结处理， 烧结过程的工艺参数为 ： 烧结温度为 800， 烧结时间 为 15min， 升温速度为 5 /min， 烧结处理后获得玻璃陶瓷涂层 ； 0053 (4) 玻璃陶瓷本体的制备 ： 重复上述步骤 (3) 的过程 10 次， 即可制备得到玻璃陶 瓷主体， 获得靶材胚体 ； 0054 (5) 表面处理 ： 将上述步骤 (4) 制备得到的靶材胚体表面用 400 目的砂纸进行抛 磨处理， 即制备得到玻璃。
29、陶瓷靶材。 0055 通过上述本实施例方法制得的玻璃陶瓷靶材， 将其应用于磁控溅射设备上采用射 频溅射方式进行镀膜， 玻璃陶瓷靶材正常工作， 无闪烁、 脱落、 辉光不均等不良现象。 0056 实施例 3 ： 0057 一种如图 1 所示本发明的玻璃陶瓷靶材， 由下至上包括合金背板 1 和玻璃陶瓷本 体 2， 为双层结构， 其中， 合金背板 1 为 GH3030 耐高温镍基合金， 厚度为 2.5mm ； 玻璃陶瓷本 体 2 是通过丝网印刷工艺转移陶瓷粉体在前述合金背板 1 上后烧结制备而成， 玻璃陶瓷本 体 2 为 ZnO-Al2O3-SiO2玻璃陶瓷， 该玻璃陶瓷本体主要由 ZnO、 Al2O。
30、3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3按 46 15 31 1.8 3 3 0.2 的质量比混合熔炼制得， 玻璃陶瓷本体的厚 度为 1.5mm。合金背板 1 与玻璃陶瓷本体 2 通过化学结合连接。本实施例中的玻璃陶瓷靶 材为直径为 76.2mm 的圆形靶材， 其主要作为磁控溅射用阴极靶材。 0058 本实施例中上述玻璃陶瓷靶材的制备方法， 包括以下步骤 ： 0059 (1) 玻璃粉的制备 ： 将包含 ZnO、 Al2O3、 SiO2、 BaO、 CaCO3、 TiO2、 Co2O3各原材料粉 体按以下质量分数配比混合均匀， 各原材料的纯度均大于 99.9， 将上述混合。
31、料装入刚玉 坩埚中， 再置于马弗炉中在 1550下保温 3h， 高温熔炼后使用去离子水进行淬冷得到玻璃 渣， 将玻璃渣置于玛瑙球磨罐中， 以无水乙醇作为球磨介质， 球料比31， 球磨时间为10h， 说 明 书 CN 104152853 A 7 6/6 页 8 通过球磨进行细化 ； 球磨完成后将玻璃粉烘干， 烘干过程使用温度为 150， 烘干时间为 30min， 烘干完成后采用 500 目的分样筛进行过筛处理， 得到粒度均匀的玻璃粉 ； 0060 各原材料粉体的质量分数配比如下 ： 0061 0062 0063 (2) 浆料的制备 ： 取有机载体和上述步骤 (1) 获得的玻璃粉体混合， 有机载体。
32、与玻 璃粉体的质量比为 2.5 1， 球磨分散均匀后即得到玻璃浆料 ； 球磨转速为 400r/min， 球磨 时间为 5h ； 有机载体的配方包括 ： 丁基卡必醇、 柠檬酸三丁酯、 羟乙基纤维素、 蔗糖酯、 聚山 梨酯和曲拉通 X-100， 质量比为 1 0.17 0.016 0.05 0.05 0.016 ； 0064 (3) 涂层的制备 ： 采用丝网印刷工艺在一合金背板 (GH3030 镍基合金板 ) 上均匀 印刷上述步骤 (2) 获得的玻璃浆料， 在 150中烘干 30min， 其中丝网印刷采用 250 目丝 网 ； 烘干后的涂层进行烧结处理， 烧结过程的工艺参数为 ： 烧结温度为 85。
33、0， 烧结时间为 12min， 升温速度为 4 /min， 烧结处理后获得玻璃陶瓷涂层 ； 0065 (4) 玻璃陶瓷本体的制备 ： 重复上述步骤 (3) 的过程 25 次， 即可制备得到玻璃陶 瓷主体， 获得靶材胚体 ； 0066 (5) 表面处理 ： 将上述步骤 (4) 制备得到的靶材胚体表面用 800 目的砂纸进行抛 磨处理， 即制备得到玻璃陶瓷靶材。 0067 通过上述本实施例方法制得的玻璃陶瓷靶材， 将其应用于磁控溅射设备上采用射 频溅射方式进行镀膜， 玻璃陶瓷靶材正常工作， 无闪烁、 脱落、 辉光不均等不良现象。 说 明 书 CN 104152853 A 8 1/1 页 9 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 104152853 A 9 。