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1、(10)申请公布号 CN 102653853 A (43)申请公布日 2012.09.05 CN 102653853 A *CN102653853A* (21)申请号 201110051327.8 (22)申请日 2011.03.03 C23C 14/06(2006.01) C23C 14/35(2006.01) (71)申请人 鸿富锦精密工业 （深圳） 有限公司 地址 518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油 松第十工业区东环二路 2 号 申请人 鸿海精密工业股份有限公司 (72)发明人 张新倍 陈文荣 蒋焕梧 陈正士 熊小庆 (54) 发明名称 壳体及其制作方法 (57) 摘要 本发明提供。
2、一种具有红色外观的壳体， 其包 括基体及形成于基体表面的色彩层， 该色彩层为 包括依次形成于基体表面上氮氧铬层和氧化铝 层， 该色彩层呈现的色度区域于 CIE LAB 表色系 统的 L* 坐标介于 54 至 57 之间， a* 坐标介于 8 至 10 之间， b* 坐标介于 16 至 18 之间。本发明还提 供一种上述壳体的制作方法。该色彩层可使壳体 呈现出红色， 从而丰富了真空镀膜层的颜色。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 5 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 5 页 附图 2 页 1/1 页 2 1。
3、. 一种壳体， 其包括基体及形成于基体表面的色彩层， 其特征在于 ： 该色彩层包括依 次形成于基体表面的氮氧铬层和氧化铝层， 该色彩层呈现的色度区域于 CIE LAB 表色系统 的 L* 坐标介于 54 至 57 之间， a* 坐标介于 8 至 10 之间， b* 坐标介于 16 至 18 之间， 所述氮 氧铬层中 Cr、 O 及 N 各元素的质量百分含量分别为 53 58， 38 40及 5 7， 所述氧化铝层中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 25 65及 35 75。 2. 如权利要求 1 所述的壳体， 其特征在于 ： 所述氮氧铬层中 Cr、 O 及 N 各元素的质量百 分含量分。
4、别为58， 36及6， 所述氧化铝层中Al、 O各元素的质量百分含量分别为65， 35。 3. 如权利要求 1 所述的壳体， 其特征在于 ： 所述氮氧铬层中 Cr、 O、 N 各元素的质量百分 含量分别为 55， 38及 7， 所述氧化铝层中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 55， 45。 4. 如权利要求 1 所述的壳体， 其特征在于 ： 所述氮氧铬层中 Cr、 O、 N 各元素的质量百 分含量别为 53， 40及 7， 所述氧化铝层中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 25， 75。 5. 如权利要求 1 所述的壳体， 其特征在于 ： 所述基体的材质为不锈钢、 玻璃、 陶瓷或。
5、塑 料。 6. 如权利要求 1 所述的壳体， 其特征在于 ： 该色彩层中氮氧化铬层的厚度为 0.3 1.0um， 氧化铝层的厚度为 0.1 0.2um。 7. 如权利要求 1 所述的壳体， 其特征在于 ： 所述氮氧铬层以中频磁控溅射形成， 所述氧 化铝层以直流磁控溅射形成。 8. 一种壳体的制作方法， 其包括如下步骤 ： 提供一基体 ； 于该基体的表面中频磁控溅射形成氮氧铬层， 以铬靶为靶材， 以氧气和氮气为反应气 体， 控制氧气的初始流量为 20sccm， 氮气的初始流量为 15sccm， 氧气和氮气的流量呈梯度 增加， 使氮氧铬层中氧和氮的原子百分含量由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增加 。
6、； 于氮氧铬层上直流磁控溅射形成氧化铝层， 制得一包括氮氧铬层及氧化铝层的色彩 层， 直流磁控溅射形成氧化铝层以铝靶为靶材， 以氧气为反应气体， 氧气流量为 80sccm ； 所述色彩层呈现的色度区域于 CIE LAB 表色系统的 L* 坐标介于 54 至 57 之间， a* 坐 标介于 8 至 10 之间， b* 坐标介于 16 至 18 之间。 9. 如权利要求 8 所述的壳体的制作方法， 其特征在于 ： 形成该氧化铝层的工艺参数为 ： 设置铝靶的功率为3kw， 以氩气为工作气体， 氩气的流量为300400sccm， 施加于基体的偏 压为 -100 200V， 溅射 20 30min。 1。
7、0. 如权利要求 8 所述的壳体的制作方法， 其特征在于 ： 形成氮氧铬层中氧气和氮气 流量梯度增加的方式为 ： 第 0 5min 内， 控制氧气流量为 20sccm， 氮气流量为 15sccm ； 第 5 10min 内， 控制氧气流量为 30sccm， 氮气流量为 20sccm ； 第 10 15min 内， 控制氧气流 量为 40sccm， 氮气流量为 30sccm ； 第 15 30min 内， 控制氧气流量为 50sccm， 氮气流量为 35sccm ； 第 30 45min 时， 控制氧气流量为 80sccm， 氮气流量为 45sccm。 权 利 要 求 书 CN 10265385。
8、3 A 2 1/5 页 3 壳体及其制作方法 技术领域 0001 本发明涉及一种壳体及其制作方法， 尤其涉及一种具有红色外观的壳体及其制作 方法。 背景技术 0002 为了使电子装置的外壳具有丰富色彩， 目前主要通过阳极氧化、 烤漆、 烤瓷等工艺 制备装饰性涂层。相比这些传统工艺， PVD 镀膜技术更加绿色环保， 且采用 PVD 镀膜技术可 在产品外壳表面形成具有金属质感的装饰性色彩层。 0003 然而现有技术中， 利用 PVD 镀膜技术于壳体表面形成的膜层的色彩非常有限， 目 前能够广泛制备和使用的 PVD 膜层主要为金黄色、 黑色、 白色等色系， 能够稳定生产的颜色 较少。 发明内容 00。
9、04 有鉴于此， 本发明提供一种通过镀膜形成红色外观的壳体。 0005 另外， 本发明还提供一种上述壳体的制作方法。 0006 一种壳体， 其包括基体及形成于基体表面的色彩层， 该色彩层包括依次形成于基 体表面的氮氧铬层和氧化铝层， 该色彩层呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标介 于 54 至 57 之间， a* 坐标介于 8 至 10 之间， b* 坐标介于 16 至 18 之间， 所述氮氧铬层中 Cr、 O 及 N 各元素的质量百分含量分别为 53 58， 36 40及 5 7， 所述氧化铝层 中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 25 65及 35 75。 0007 一。
10、种壳体的制作方法， 其包括如下步骤 ： 0008 提供一基体 ； 0009 于该基体的表面中频磁控溅射形成氮氧铬层， 以铬靶为靶材， 以氧气和氮气为反 应气体， 控制氧气的初始流量为 20sccm， 氮气的初始流量为 15sccm， 氧气和氮气的流量呈 梯度增加， 使氮氧铬层中氧和氮的原子百分含量由靠近基体至远离基体的方向呈梯度增 加 ； 0010 于氮氧铬层上直流磁控溅射形成氧化铝层， 制得一包括氮氧铬层及氧化铝层的色 彩层， 直流磁控溅射形成氧化铝层以铝靶为靶材， 以氧气为反应气体， 氧气流量为 80sccm ； 0011 所述色彩层呈现的色度区域于 CIE LAB 表色系统的 L* 坐标。
11、介于 54 至 57 之间， a* 坐标介于 8 至 10 之间， b* 坐标介于 16 至 18 之间。 0012 相较于现有技术， 所述壳体的制备方法在形成色彩层时， 通过对靶材的选取、 反应 气体氧气和氮气流量的设计和溅射时间的控制形成氮氧铬层， 之后磁控溅射氧化铝层， 通 过两个膜层之间的重叠作用， 从而达到使色彩层呈现红色的目的， 以该方法所制得的壳体 呈现出具有吸引力的红色的外观， 丰富了真空镀膜层的颜色， 提高了产品的外观竞争力。 附图说明 说 明 书 CN 102653853 A 3 2/5 页 4 0013 图 1 是本发明一较佳实施例壳体的剖视图 ； 0014 图 2 是图。
12、 1 壳体的制作过程中所用镀膜机的俯视示意图。 0015 主要元件符号说明 0016 壳体 10 0017 基体 11 0018 色彩层 13 0019 氮氧铬层 131 0020 氧化铝层 133 0021 镀膜机 100 0022 镀膜室 20 0023 轨迹 21 0024 铬靶 22 0025 铝靶 23 0026 真空泵 30 0027 如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。 具体实施方式 0028 请参阅图 1， 本发明一较佳实施例的壳体 10 包括基体 11 及形成于基体 11 表面的 色彩层 13。该色彩层 13 呈现红色。 0029 基体 11 的材质可为不锈钢、 。
13、玻璃、 陶瓷或塑料， 优选为不锈钢。 0030 色彩层 13 形成于基体 11 的表面。该色彩层 13 包括依次形成于基体 11 表面的氮 氧铬层 131 和氧化铝层 133。 0031 所述氮氧铬层 131 可通过中频磁控溅射的方式形成。 0032 所述氧化铝层 133 可通过直流磁控溅射的方式形成。 0033 该氮氧化铬层 131 的厚度为 0.3 1.0um。 0034 氧化铝 133 的厚度为 0.1 0.2um。 0035 该色彩层 13 肉眼直观呈现红色， 其呈现的色度区域于 CIE LAB 表色系统的 L* 坐 标介于 54 至 57 之间， a* 坐标介于 8 至 10 之间，。
14、 b* 坐标介于 16 至 18 之间。 0036 所述氮氧铬层中 Cr、 O 及 N 各元素的质量百分含量分别为 53 58， 36 40及 5 7。 0037 所述氮氧铬层中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 25 65及 35 75。 0038 本发明壳体 10 的制作方法包括以下步骤 ： 0039 提供基体 11。基体 11 的材质可为不锈钢、 玻璃、 陶瓷或塑料， 优选为不锈钢。 0040 将基体 11 放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。 0041 于基体11的表面形成色彩层13。 该色彩层13包括氮氧铬层131和氧化铝层133。 该色彩层 13 采用磁控溅射的方式形成。。
15、 0042 结合参阅图 2， 提供一镀膜机 100， 该镀膜机 100 包括一镀膜室 20 及连接于镀膜 室 20 的一真空泵 30， 真空泵 30 用以对镀膜室 20 抽真空。该镀膜室 20 内设有转架 ( 未图 示)、 中心对称设置的铬靶22和铝靶23， 转架带动基体11沿圆形的轨迹21公转， 且基体11 说 明 书 CN 102653853 A 4 3/5 页 5 在沿轨迹 21 公转时亦自转。 0043 于基体 11 上通过中频磁控的方式形成氮氧铬层 131。抽真空使该镀膜室 20 的真 空度为810-3Pa， 设置转架的公转转速为0.5rpm(转/分钟)， 设置镀膜室20温度为100。
16、 150， 设置铬靶 22 的功率为 7 9kw， 以氩气为工作气体， 氩气的流量为 150 300sccm， 施加于基体 11 的偏压为 -250 -200V， 设置偏压的占空比为 50； 以氧气和氮气为反应气 体， 控制氧气的流量为 30 80sccm， 氮气的流量为 15 40sccm。溅射时， 使氧气的初始流 量为 30sccm， 氮气的初使流量为 15sccm， 溅射过程中使氧气和氮气的流量呈梯度增加。 0044 氧气和氮气流量具体的梯度增加方式为 ： 0045 在第 0 6min 内， 控制氧气流量为 30sccm， 氮气流量为 15sccm ； 第 6 15min 内， 控制氧气。
17、流量为 40sccm， 氮气流量为 20sccm ； 第 15 25min 内， 控制氧气流量为 50sccm， 氮气流量为 25sccm ； 第 25 35min 内， 控制氧气流量为 60sccm， 氮气流量为 30sccm ； 第 35 45min 时， 控制氧气流量为 70sccm， 氮气流量为 35sccm ； 第 45 55min 内， 控制氧气 流量为 80sccm， 氮气流量为 40sccm ； 第 55 75min 内， 控制氧气流量为 80sccm， 氮气流量 为 40sccm。 0046 上述氧气和氮气的流量变化可参见表 1 ： 0047 表 1 0048 0049 于基。
18、体 11 上形成氮氧铬层 131 后， 以直流磁控溅射的方式在氮氧铬层 131 的表面 形成氧化铝层 133。形成该氧化铝层 133 的工艺参数为 ： 设置铝靶 22 的功率为 3kw， 以氩 气为工作气体， 氩气的流量为 300 400sccm， 施加于基体 11 的偏压为 -100 -200V， 溅射 20 30min。 0050 所述色彩层 13 呈现的色度区域于 CIE LAB 表色系统的 L* 坐标介于 54 至 57 之 间， a* 坐标介于 8 至 10 之间， b* 坐标介于 16 至 18 之间。所述色彩层 13 的厚度为 0.3 1.0m。 0051 以下结合具体实施例对被。
19、覆件 10 的制备方法及被覆件 10 进行说明 ： 0052 实施例 1 0053 清洗 ： 将基体 11 放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。 说 明 书 CN 102653853 A 5 4/5 页 6 0054 溅镀色彩层 13 ： 于基体 11 上形成氮氧铬层 131， 设置镀膜室 20 温度为 100， 设置 铬靶 22 的功率为 7kw， 氩气的流量为 150sccm， 施加于基体 11 的偏压为 -250V， 设置偏压的 占空比为 50 ； 以氧气和氮气为反应气体， 氧气的初始流量为 30sccm， 氮气的初使流量为 15sccm， 溅射过程中使氧气和氮气的流量呈梯度增加。 。
20、0055 氧气和氮气流量具体的梯度增加方式为见表一。 0056 所述氮氧铬层 131 中 Cr、 O 及 N 各元素的质量百分含量分别为 58， 36及 6， 所述氧化铝层 133 中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 65， 35。 0057 于基体 11 上形成氮氧铬层 131 后， 控制氧气流量 80sccm 不变， 在氮氧铬层 131 上 形成氧化铝层 133 ： 设置铝靶 22 的功率为 3kw， 氩气的流量为 300sccm， 施加于基体 11 的偏 压为 -100V， 溅射 20min。 0058 该色彩层13所呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为57， a*。
21、坐标为8， b* 坐标为 17。 0059 实施例 2 0060 清洗 ： 将基体 11 放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。 0061 溅镀色彩层 13 ： 于基体 11 上形成氮氧铬层 131， 设置镀膜室 20 温度为 150， 设置 铬靶 22 的功率为 8kw， 氩气的流量为 200sccm， 施加于基体 11 的偏压为 -200V， 设置偏压的 占空比为 50 ； 以氧气和氮气为反应气体， 氧气的初始流量为 40sccm， 氮气的初使流量为 20sccm， 溅射过程中使氧气和氮气的流量呈梯度增加。 0062 氧气和氮气流量具体的梯度增加方式为见表一。 0063 所述氮氧铬层 1。
22、31 中 Cr、 O、 N 各元素的质量百分含量分别为 55， 38及 7， 所 述氧化铝层 133 中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 55， 45。 0064 于基体 11 上形成氮氧铬层 131 后， 控制氧气流量 80sccm 不变， 在氮氧铬层 131 上 形成氧化铝层 133 ： 设置铝靶 22 的功率为 3kw， 氩气的流量为 350sccm， 施加于基体 11 的偏 压为 -150V， 溅射 25min。 0065 该色彩层13所呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为56， a*坐标为9， b* 坐标为 17。 0066 实施例 3 0067 清洗 ： 将基。
23、体 11 放入无水乙醇中进行超声波清洗并烘干备用。 0068 溅镀色彩层 13 ： 于基体 11 上形成氮氧铬层 131， 设置镀膜室 20 温度为 200， 设 置铬靶 22 的功率为 9kw， 氩气的流量为 300sccm， 施加于基体 11 的偏压为 -200V， 设置偏压 的占空比为50； 以氧气和氮气为反应气体， 氧气的初始流量为40sccm， 氮气的初使流量为 20sccm， 溅射过程中使氧气和氮气的流量呈梯度增加。 0069 氧气和氮气流量具体的梯度增加方式为见表一。 0070 所述氮氧铬层 131 中 Cr、 O、 N 各元素的质量百分含量别为 53， 40及 7， 所述 氧化。
24、铝层 133 中 Al、 O 各元素的质量百分含量分别为 25， 75。 0071 于基体 11 上形成氮氧铬层 131 后， 控制氧气流量 80sccm 不变， 在氮氧铬层 131 上 形成氧化铝层 133 ： 设置铝靶 22 的功率为 3kw， 氩气的流量为 400sccm， 施加于基体 11 的偏 压为 -200V， 溅射 30min。 0072 该色彩层13所呈现的色度区域于CIE LAB表色系统的L*坐标为55， a*坐标为9， 说 明 书 CN 102653853 A 6 5/5 页 7 b* 坐标为 18。 0073 本发明壳体 10 可为笔记型计算机、 个人数字助理等电子装置的。
25、壳体， 或为其他装 饰类产品的壳体。 0074 所述壳体 10 的制备方法在形成色彩层 13 时， 通过对铬靶 22 和铝靶 23 的选取、 反应气体氧气和氮气流量的设计和溅射时间的控制， 形成氮氧铬层 131， 之后， 在氮氧铬层 131上磁控溅射氧化铝层133， 通过两个膜层之间的重叠作用， 从而达到使色彩层13呈现红 色的目的。以该方法所制得的壳体 10 呈现出具有吸引力的红色的外观， 丰富了真空镀膜层 的颜色， 极大地提高了产品的外观竞争力。 说 明 书 CN 102653853 A 7 1/2 页 8 图 1 说 明 书 附 图 CN 102653853 A 8 2/2 页 9 图 2 说 明 书 附 图 CN 102653853 A 9 。