一种铸造大晶粒硅锭的方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201210118729.X

申请日:

2012.04.20

公开号:

CN102653881A

公开日:

2012.09.05

当前法律状态:

驳回

有效性:

无权

法律详情:

发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):C30B 11/00申请公布日:20120905|||实质审查的生效IPC(主分类):C30B 11/00申请日:20120420|||公开

IPC分类号:

C30B11/00; C30B28/06; C30B29/06

主分类号:

C30B11/00

申请人:

镇江环太硅科技有限公司

发明人:

司荣进; 袁志钟; 王禄堡

地址:

212211 江苏省镇江市扬中市油坊镇环太工业园区

优先权:

专利代理机构:

上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258

代理人:

季萍

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内容摘要

本发明公开了一种利用定向凝固生长法铸造大晶粒硅锭的方法,主要包含以下步骤:(1)将按一定晶向切割的单晶硅板块作为籽晶铺在石英坩埚的底层;(2)在籽晶上面装填适量的多晶硅硅料和掺杂元素;(3)将装有上述原料的坩埚投入多晶炉中,抽真空并加热,使上部的硅料熔化。熔化后期单晶板块开始熔化时,通过调整隔热笼升起高度,控制坩埚底部的温度,使籽晶部分熔化;(4)进入长晶程序,通过控制加热器的功率和提升隔热笼,形成垂直的温度梯度,使硅晶体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向生长,经过退火和冷却工序得到大晶粒的多晶硅晶锭。

权利要求书

1: 一种铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于, 主要包含以下步骤 : (1) 将按 [100] 晶向切割的单晶硅板块作为籽晶铺设在石英坩埚的底层 ; (2) 在籽晶上面装填多晶硅料和掺杂元素 ; (3) 将装有所述原料的坩埚投入多晶炉中, 抽真空加热, 使籽晶上部的多晶硅料熔化, 到多晶硅料熔化后期单晶硅板块开始熔化时, 通过控制坩埚底部的温度, 使籽晶部分熔化。 (4) 进入长晶程序, 控制加热器的功率, 从坩埚底部形成垂直的温度梯度, 使硅晶体沿 着未完全熔化的单晶硅板块的方向生长 ; (5) 长晶完成后, 再经过退火和冷却工序得到大晶粒硅锭。
2: 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (1) 所述单晶硅 板块垂直于坩埚底部平面的晶向为 [100]。
3: 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (2) 所述的掺杂 元素为硼或磷。
4: 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (3) 中在加热和 熔化的初期工序中, 控制加热器的温度为 1420-1550℃, 在熔化中后期控制坩埚底部的温度 为 1000-1400℃, 使得籽晶部分熔化。
5: 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (4) 中所述的长 晶过程, 是将加热器的温度控制在 1420-1500℃, 同时打开坩埚底部隔热笼的保温层, 让坩 埚底部散热, 坩埚底部形成温度梯度实现定向凝固, 待界面生长稳定后进行分段降温, 使晶 体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向稳定生长。

说明书


一种铸造大晶粒硅锭的方法

    【技术领域】
     本发明属于太阳能电池硅片制造领域, 具体涉及一种铸造大晶粒硅锭的方法。背景技术 多晶硅由于本身存在大量的晶界, 影响着电池的光电转换率, 而单晶硅由于内部 的晶体结构比较完整, 缺陷少, 电池的光电转换率高, 但是生产成本较高。
     发明内容 本发明要解决的技术问题是提供一种铸造大晶粒硅锭的方法, 该方法利用原有低 成本和产量高的多晶硅铸造技术, 生产出类似单晶的大晶粒硅锭, 减少晶界数量, 提高硅片 的光电转换效率。
     为解决上述技术问题, 本发明铸造大晶粒硅锭的方法通过以下步骤予以实现 :
     (1) 将按 [100] 晶向切割的单晶硅板块作为籽晶铺设在石英坩埚的底层 ;
     (2) 在籽晶上面装填多晶硅料和掺杂元素 ;
     (3) 将装有所述原料的坩埚投入多晶炉中, 抽真空加热, 使籽晶上部的多晶硅料熔 化, 到多晶硅料熔化后期单晶硅板块开始熔化时, 通过控制坩埚底部的温度, 使籽晶部分熔 化。
     (4) 进入长晶程序, 控制加热器的功率, 从坩埚底部形成垂直的温度梯度, 使硅晶 体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向生长 ;
     (5) 长晶完成后, 再经过退火和冷却工序得到大晶粒硅锭。
     在上述步骤中 :
     步骤 (1) 所述单晶硅板块垂直于坩埚底部平面的晶向为 [100]。
     步骤 (2) 所述的掺杂元素为硼或磷。
     步骤 (3) 中在加热和熔化的初期工序中, 控制加热器的温度为 1420-1550℃, 在熔 化中后期控制坩埚底部的温度为 1000-1400℃, 使得籽晶部分熔化。
     步骤 (4) 中所述的长晶过程, 是将加热器的温度控制在 1420-1500℃, 同时打开坩 埚底部隔热笼的保温层, 让坩埚底部散热, 坩埚底部形成温度梯度实现定向凝固, 待界面生 长稳定后进行分段降温, 使晶体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向稳定生长。
     附图说明
     图 1 是本发明硅料加热阶段示意图 ; 图 2 是本发明硅料熔化阶段示意图。具体实施方式
     将直拉法得到的 (100) 晶向的单晶棒, 按照一定切割方向, 制成单晶硅板块作为 籽晶。单晶硅板块的形状可以是长 720mm-800mm, 宽为 125mm-200mm, 厚度为 10mmmm-30mm的长板状。
     如图 1 和图 2 所示, 选择标准尺寸的石英坩埚 2, 选取 5 块上述单晶硅板块 5 平整 的放在坩埚底部, 根据目标电阻率 1-3 欧姆 / 厘米的要求加入适量的掺杂元素硼或磷等元 素, 在单晶板块 5 上方装填多晶硅料 4 ; 将装有所述原料的坩埚 2 投入多晶炉 6 中, 抽真空 加热, 控制加热器 3 的温度为 1420-1550℃, 使籽晶上部的多晶硅料熔化, 到多晶硅料熔化 后期单晶硅板块开始熔化时, 保持坩埚底部的温度为 1000-1400℃, 使得籽晶部分熔化。在 长晶阶段, 将加热器的温度控制在 1420-1500℃, 同时打开隔热笼 1 底部保温层 7, 让坩埚底 部散热, 形成温度梯度实现定向凝固, 待界面生长稳定后进行分段降温, 使晶体沿着未完全 熔化的单晶硅板块的方向稳定生长。 经过后续的退火和冷却工序最终得到大晶粒的多晶硅 锭。
     以上实施例的描述较为具体、 详细, 但并不能因此而理解为对本发明专利范围的 限制, 应当指出的是, 对于本领域的普通技术人员来说, 在不脱离本发明构思的前提下, 还 可以做出若干变形和改进, 这些都属于本发明的保护范围。

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资源描述

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1、(10)申请公布号 CN 102653881 A (43)申请公布日 2012.09.05 CN 102653881 A *CN102653881A* (21)申请号 201210118729.X (22)申请日 2012.04.20 C30B 11/00(2006.01) C30B 28/06(2006.01) C30B 29/06(2006.01) (71)申请人 镇江环太硅科技有限公司 地址 212211 江苏省镇江市扬中市油坊镇环 太工业园区 (72)发明人 司荣进 袁志钟 王禄堡 (74)专利代理机构 上海海颂知识产权代理事务 所 ( 普通合伙 ) 31258 代理人 季萍 (54)。

2、 发明名称 一种铸造大晶粒硅锭的方法 (57) 摘要 本发明公开了一种利用定向凝固生长法铸造 大晶粒硅锭的方法, 主要包含以下步骤 : (1) 将按 一定晶向切割的单晶硅板块作为籽晶铺在石英坩 埚的底层 ; (2) 在籽晶上面装填适量的多晶硅硅 料和掺杂元素 ; (3) 将装有上述原料的坩埚投入 多晶炉中, 抽真空并加热, 使上部的硅料熔化。熔 化后期单晶板块开始熔化时, 通过调整隔热笼升 起高度, 控制坩埚底部的温度, 使籽晶部分熔化 ; (4) 进入长晶程序, 通过控制加热器的功率和提 升隔热笼, 形成垂直的温度梯度, 使硅晶体沿着未 完全熔化的单晶硅板块的方向生长, 经过退火和 冷却工序。

3、得到大晶粒的多晶硅晶锭。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 2 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书 1 页 说明书 2 页 附图 2 页 1/1 页 2 1. 一种铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于, 主要包含以下步骤 : (1) 将按 100 晶向切割的单晶硅板块作为籽晶铺设在石英坩埚的底层 ; (2) 在籽晶上面装填多晶硅料和掺杂元素 ; (3) 将装有所述原料的坩埚投入多晶炉中, 抽真空加热, 使籽晶上部的多晶硅料熔化, 到多晶硅料熔化后期单晶硅板块开始熔化时, 通过控制坩埚底部的温度, 使籽晶部分熔化。 (4) 进。

4、入长晶程序, 控制加热器的功率, 从坩埚底部形成垂直的温度梯度, 使硅晶体沿 着未完全熔化的单晶硅板块的方向生长 ; (5) 长晶完成后, 再经过退火和冷却工序得到大晶粒硅锭。 2. 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (1) 所述单晶硅 板块垂直于坩埚底部平面的晶向为 100。 3. 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (2) 所述的掺杂 元素为硼或磷。 4. 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (3) 中在加热和 熔化的初期工序中, 控制加热器的温度为 1420-1550, 在熔化中后期控。

5、制坩埚底部的温度 为 1000-1400, 使得籽晶部分熔化。 5. 根据权利要求 1 所述的铸造大晶粒硅锭的方法, 其特征在于 : 步骤 (4) 中所述的长 晶过程, 是将加热器的温度控制在 1420-1500, 同时打开坩埚底部隔热笼的保温层, 让坩 埚底部散热, 坩埚底部形成温度梯度实现定向凝固, 待界面生长稳定后进行分段降温, 使晶 体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向稳定生长。 权 利 要 求 书 CN 102653881 A 2 1/2 页 3 一种铸造大晶粒硅锭的方法 技术领域 0001 本发明属于太阳能电池硅片制造领域, 具体涉及一种铸造大晶粒硅锭的方法。 背景技术 0002 多。

6、晶硅由于本身存在大量的晶界, 影响着电池的光电转换率, 而单晶硅由于内部 的晶体结构比较完整, 缺陷少, 电池的光电转换率高, 但是生产成本较高。 发明内容 0003 本发明要解决的技术问题是提供一种铸造大晶粒硅锭的方法, 该方法利用原有低 成本和产量高的多晶硅铸造技术, 生产出类似单晶的大晶粒硅锭, 减少晶界数量, 提高硅片 的光电转换效率。 0004 为解决上述技术问题, 本发明铸造大晶粒硅锭的方法通过以下步骤予以实现 : 0005 (1) 将按 100 晶向切割的单晶硅板块作为籽晶铺设在石英坩埚的底层 ; 0006 (2) 在籽晶上面装填多晶硅料和掺杂元素 ; 0007 (3) 将装有所。

7、述原料的坩埚投入多晶炉中, 抽真空加热, 使籽晶上部的多晶硅料熔 化, 到多晶硅料熔化后期单晶硅板块开始熔化时, 通过控制坩埚底部的温度, 使籽晶部分熔 化。 0008 (4) 进入长晶程序, 控制加热器的功率, 从坩埚底部形成垂直的温度梯度, 使硅晶 体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向生长 ; 0009 (5) 长晶完成后, 再经过退火和冷却工序得到大晶粒硅锭。 0010 在上述步骤中 : 0011 步骤 (1) 所述单晶硅板块垂直于坩埚底部平面的晶向为 100。 0012 步骤 (2) 所述的掺杂元素为硼或磷。 0013 步骤 (3) 中在加热和熔化的初期工序中, 控制加热器的温度为 14。

8、20-1550, 在熔 化中后期控制坩埚底部的温度为 1000-1400, 使得籽晶部分熔化。 0014 步骤 (4) 中所述的长晶过程, 是将加热器的温度控制在 1420-1500, 同时打开坩 埚底部隔热笼的保温层, 让坩埚底部散热, 坩埚底部形成温度梯度实现定向凝固, 待界面生 长稳定后进行分段降温, 使晶体沿着未完全熔化的单晶硅板块的方向稳定生长。 附图说明 0015 图 1 是本发明硅料加热阶段示意图 ; 0016 图 2 是本发明硅料熔化阶段示意图。 具体实施方式 0017 将直拉法得到的 (100) 晶向的单晶棒, 按照一定切割方向, 制成单晶硅板块作为 籽晶。单晶硅板块的形状可。

9、以是长 720mm-800mm, 宽为 125mm-200mm, 厚度为 10mmmm-30mm 说 明 书 CN 102653881 A 3 2/2 页 4 的长板状。 0018 如图 1 和图 2 所示, 选择标准尺寸的石英坩埚 2, 选取 5 块上述单晶硅板块 5 平整 的放在坩埚底部, 根据目标电阻率 1-3 欧姆 / 厘米的要求加入适量的掺杂元素硼或磷等元 素, 在单晶板块 5 上方装填多晶硅料 4 ; 将装有所述原料的坩埚 2 投入多晶炉 6 中, 抽真空 加热, 控制加热器 3 的温度为 1420-1550, 使籽晶上部的多晶硅料熔化, 到多晶硅料熔化 后期单晶硅板块开始熔化时,。

10、 保持坩埚底部的温度为 1000-1400, 使得籽晶部分熔化。在 长晶阶段, 将加热器的温度控制在1420-1500, 同时打开隔热笼1底部保温层7, 让坩埚底 部散热, 形成温度梯度实现定向凝固, 待界面生长稳定后进行分段降温, 使晶体沿着未完全 熔化的单晶硅板块的方向稳定生长。 经过后续的退火和冷却工序最终得到大晶粒的多晶硅 锭。 0019 以上实施例的描述较为具体、 详细, 但并不能因此而理解为对本发明专利范围的 限制, 应当指出的是, 对于本领域的普通技术人员来说, 在不脱离本发明构思的前提下, 还 可以做出若干变形和改进, 这些都属于本发明的保护范围。 说 明 书 CN 102653881 A 4 1/2 页 5 图 1 说 明 书 附 图 CN 102653881 A 5 2/2 页 6 图 2 说 明 书 附 图 CN 102653881 A 6 。

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