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1、(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201410628164.9 (22)申请日 2014.11.10 C23C 14/56(2006.01) C23C 14/35(2006.01) (71)申请人 芜湖真空科技有限公司 地址 241000 安徽省芜湖市经济技术开发区 科技创业中心 B 座 320 室 (72)发明人 薛辉 任俊春 金海涛 (74)专利代理机构 北京润平知识产权代理有限 公司 11283 代理人 孙向民 董彬 (54) 发明名称 真空系统和真空镀膜方法 (57) 摘要 本发明公开了一种真空系统和真空镀膜方 法， 该真空系统包括输送装置、 所述输送装置依次 通。
2、过相隔离设置的进端锁室、 进端缓冲室、 进端过 渡室、 工艺室、 出端过渡室、 出端缓冲室和出端锁 室， 其中， 所述进端锁室和所述出端锁室分别连 接有机械泵以抽空， 所述进端过渡室、 工艺室以及 出端过渡室分别连接有分子泵以抽空， 所述进端 缓冲室和出端缓冲室分别调整输送装置的输送速 度。 该真空系统能够有效防止镀膜时有空气进入。 (51)Int.Cl. (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 (10)申请公布号 CN 104451590 A (43)申请公布日 2015.03.25 CN 104451590 A 1/1 页 2 1.。
3、 一种真空系统， 其特征在于， 该真空系统包括输送装置、 所述输送装置依次通过相 隔离设置的进端锁室、 进端缓冲室、 进端过渡室、 工艺室、 出端过渡室、 出端缓冲室和出端锁 室， 其中， 所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空， 所述进端过渡室、 工艺 室以及出端过渡室分别连接有分子泵以抽空， 所述进端缓冲室和出端缓冲室分别调整输送 装置的输送速度。 2. 根据权利要求 1 所述的真空系统， 其特征在于， 所述工艺室与所述进端过渡室之间 连通有进端隔离通道 ； 所述工艺室与所述出端过渡室之间连通有出端隔离通道。 3. 根据权利要求 2 所述的真空系统， 其特征在于， 所述进端隔离通。
4、道和所述出端隔离 通道都为敞开口管道。 4. 根据权利要求 1 所述的真空系统， 其特征在于， 所述分子泵的泵口设置有气动提升 阀， 以控制所述分子泵抽气。 5. 根据权利要求 1 所述的真空系统， 其特征在于， 所述进端锁室、 进端过渡室、 出端锁 室和出端过渡室上都设置有盖板， 所述盖板通过密封圈密封。 6. 根据权利要求 1 所述的真空系统， 其特征在于， 所述机械泵为标准旋片泵、 滑阀泵或 干泵。 7. 一种真空镀膜方法， 其特征在于， 根据权利要求 1-5 所述的真空系统， 该方法包括 ： S101， 将待镀膜件置于有第一真空环境的所述进端锁室 ； S102， 将进端锁室中的所述待镀。
5、膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度依次分别经过 有第二真空环境的进端缓冲室和进端过渡室 ； S103， 将进端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第 二真空环境的工艺室以进行镀膜 ； S104， 将工艺室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第二真 空环境的出端过渡室 ； S105， 将出端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第 二真空环境的出端缓冲室 ； S106， 将出端缓冲室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至有第 一真空环境的出端锁室。 8. 根据权利要求 6 所述的真空镀膜方法， 其特征在于， 所述第一真。
6、空环境的压力为 10-4torr。 9. 根据权利要求 6 所述的真空镀膜方法， 其特征在于， 所述第一真空环境的压力为 10-3torr。 10. 根据权利要求 6 所述的真空镀膜方法， 其特征在于， 所述工艺室与所述进端过渡室 之间连通有进端隔离通道以进行信号传输， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有出端 隔离通道以进行信号传输。 权 利 要 求 书 CN 104451590 A 2 1/4 页 3 真空系统和真空镀膜方法 技术领域 0001 本发明涉及磁控溅射领域， 具体地， 涉及一种真空系统和真空镀膜方法。 背景技术 0002 在现有技术中， 对玻璃的镀膜条件要求很是苛刻， 当镀膜时。
7、有空气的进入就会导 致玻璃镀的膜不符合条件， 不合格， 那么怎样能让玻璃进行镀膜的时候避免空气的进入， 成 为一种亟需解决的问题。 发明内容 0003 本发明的目的是克服现有技术中的真空系统在镀膜时有空气的进入的问题， 提供 一种真空系统和真空镀膜方法， 该真空系统能够有效防止镀膜时有空气进入。 0004 为了实现上述目的， 本发明提供了一种真空系统， 该真空系统包括输送装置、 所述 输送装置依次通过相隔离设置的进端锁室、 进端缓冲室、 进端过渡室、 工艺室、 出端过渡室、 出端缓冲室和出端锁室， 其中， 所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空， 所 述进端过渡室、 工艺室以及出端过。
8、渡室分别连接有分子泵以抽空， 所述进端缓冲室和出端 缓冲室分别调整输送装置的输送速度。 0005 优选地， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道 ； 所述工艺室与 所述出端过渡室之间连通有出端隔离通道。 0006 优选地， 所述进端隔离通道和所述出端隔离通道都为敞开口管道。 0007 优选地， 所述分子泵的泵口设置有气动提升阀， 以控制所述分子泵抽气。 0008 优选地， 所述进端锁室、 进端过渡室、 出端锁室和出端过渡室上都设置有盖板， 所 述盖板通过密封圈密封。 0009 优选地， 所述机械泵为标准旋片泵、 滑阀泵或干泵。 0010 本发明提供一种真空镀膜方法， 根据上述的真空。
9、系统， 该方法包括 ： 0011 S101， 将待镀膜件置于有第一真空环境的所述进端锁室 ； 0012 S102， 将进端锁室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度依次分别 经过有第二真空环境的进端缓冲室和进端过渡室 ； 0013 S103， 将进端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至 有第二真空环境的工艺室以进行镀膜 ； 0014 S104， 将工艺室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第 二真空环境的出端过渡室 ； 0015 S105， 将出端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至 有第二真空环境的出端缓冲室 ； 0016。
10、 S106， 将出端缓冲室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至 有第一真空环境的出端锁室。 0017 优选地， 所述第一真空环境的压力为 10-4torr。 说 明 书 CN 104451590 A 3 2/4 页 4 0018 优选地， 所述第一真空环境的压力为 10-3torr。 0019 优选地， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道以进行信号传 输， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有出端隔离通道以进行信号传输。 0020 通过上述实施方式， 本发明的真空系统克服了通过进端缓冲室的设置完成从粗真 空到高真空的转变， 玻璃在这里抽空完毕， 在可以进行镀膜前，。
11、 玻璃在这里做暂时的停留， 它还可以用来隔离工艺室， 防止气体从锁室进入镀膜室。进端过渡室完成从正常传动速度 到镀膜需要的缓慢传动速度的转变， 也用于进一步进行真空隔离和抽真空。 0021 本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。 附图说明 0022 附图是用来提供对本发明的进一步理解， 并且构成说明书的一部分， 与下面的具 体实施方式一起用于解释本发明， 但并不构成对本发明的限制。在附图中 ： 0023 图 1 是说明本发明的真空系统的具体实施方式的结构示意图。 具体实施方式 0024 以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是， 此处所描 述的具体实。
12、施方式仅用于说明和解释本发明， 并不用于限制本发明。 0025 在本发明中， 在未作相反说明的情况下， 使用的方位词如 “上、 下、 左、 右” 通常是指 具体结构如图 1 所示的上下左右，“内、 外” 是指具体轮廓上的内与外。 “远、 近” 是指相对于 某个器件的远与近。 0026 本发明提供一种真空系统， 该真空系统包括输送装置、 所述输送装置依次通过相 隔离设置的进端锁室、 进端缓冲室、 进端过渡室、 工艺室、 出端过渡室、 出端缓冲室和出端锁 室， 其中， 所述进端锁室和所述出端锁室分别连接有机械泵以抽空， 所述进端过渡室、 工艺 室以及出端过渡室分别连接有分子泵以抽空， 所述进端缓冲。
13、室和出端缓冲室分别调整输送 装置的输送速度。 0027 通过上述实施方式， 本发明的真空系统的进端锁室可以使玻璃从大气进入粗真空 环境 ； 进端缓冲室可以完成从粗真空到高真空的转变， 玻璃在这里抽空完毕， 在可以进行镀 膜前， 玻璃在这里做暂时的停留， 它还用来隔离工艺室， 防止气体从进端锁室进入工艺室， 进端过渡室完成从正常传动速度到镀膜需要的缓慢传动速度的转变， 也用于进一步进行真 空隔离和抽真空 ； 工艺室可以存在几个工艺区， 每个工艺区之前或之后都具有一个气体隔 离区， 玻璃在每个工艺区中都进行镀膜， 利用安装在泵抽部分或阀室中的光学过程测量装 置可以监视透过率 ； 出端过渡室可以使玻。
14、璃加速离开工艺室 ； 出端过渡室完成缓慢的镀膜 传动速度到正常的传动速度的转换， 另外， 还可以帮助隔离工艺室， 防止气体从出端锁室进 入工艺室 ； 出端缓冲室可以在出端锁室可以接收玻璃之前， 它可以暂时保存玻璃， 另外， 还 可以帮助隔离真空室， 防止气体通过狭缝阀从出端锁室进入 ； 出端锁室可以使玻璃完成从 真空室到大气环境的转换。 0028 以下结合附图 1 对本发明进行进一步的说明， 在本发明中， 通过此系统进行真空 镀膜的方法也属于本发明保护的范围。 0029 在该种实施方式中， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道 ； 所 说 明 书 CN 104451590 A 4 。
15、3/4 页 5 述工艺室与所述出端过渡室之间连通有出端隔离通道 ； 本发明利用一个叫做气体隔离通道 的长开口管道， 工艺区可以与旁边的气体隔离室进行通讯， 通道开口的横截面比较小， 这样 就可以允许在工艺区的镀膜部分和相临的室之间存在一些压差， 通过该通道， 微分泵可以 辅助隔离镀膜区位， 防止气体从其它室体进入工艺区， 从而把工艺区的气体所受到的污染 降到最低， 由于要维持适当的溅射气压， 所以这同时也减少了分子泵的气体负载。 在该种优 选地实施方式中， 所述进端隔离通道和所述出端隔离通道都为敞开口管道。 0030 在该种实施方式中， 所述分子泵的泵口设置有气动提升阀， 以控制所述分子泵抽 。
16、气。 0031 在该种实施方式中， 根据正确的真空实践经验， 构造室体时连接室体法兰的位置 必须采用单侧焊接、 双面成型焊接技术。 所有室体内的焊缝应当是连续的， 通过这样的焊接 和外侧使用的跳焊有助于检漏并减少可能的虚漏。锁室和过渡室都装配着一个用 O 形圈密 封的盖板， 这个 O 形圈固定在盖板法兰上， 利用液体驱动可以开启盖板 ； 在工艺室上， 每个 单元都有自己的盖板 ； 溅射源阴极组件从每个工艺部分的盖板上悬挂下来。蜗轮分子泵装 配在每个泵盖上， 因此， 所述进端锁室、 进端过渡室、 出端锁室和出端过渡室上都可以通过 设置有盖板并通过密封圈进行密封。 0032 在该种实施方式中， 为。
17、了实现上述功能， 所述机械泵优选为标准旋片泵、 滑阀泵或 干泵。 0033 本发明还提供一种真空镀膜方法， 根据上述的真空系统， 该方法包括 ： 0034 S101， 将待镀膜件置于有第一真空环境的所述进端锁室 ； 0035 S102， 将进端锁室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度依次分别 经过有第二真空环境的进端缓冲室和进端过渡室 ； 0036 S103， 将进端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至 有第二真空环境的工艺室以进行镀膜 ； 0037 S104， 将工艺室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第二驱动速度传送至有第 二真空环境的出端过渡室 ； 003。
18、8 S105， 将出端过渡室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至 有第二真空环境的出端缓冲室 ； 0039 S106， 将出端缓冲室中的所述待镀膜件通过所述驱动装置以第一驱动速度传送至 有第一真空环境的出端锁室。 0040 在对玻璃进行加工的时候， 每片玻璃进入或离开的时候， 进端锁室和出端锁室都 必须放一次大气， 为了加快泵抽速度， 每个锁室都安装了一个大容量罗茨增压泵， 然后在增 压泵的出口处平行连接着一些机械泵。这些泵组虽然很快， 但只能将锁室抽到粗真空。工 艺室、 进端锁室、 出端锁室以及进端缓冲室和出端缓冲室也采用机械泵组， 某些情况下也采 用高真空泵 ( 蜗轮分子泵。
19、 )。 0041 在该种方法中， 所述第一真空环境的压力为 10-4torr。 0042 在该种方法中， 所述第一真空环境的压力为10-3torr， 此为工艺区的工艺气体必须 保持的压力范围。 0043 在该种方法中， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有进端隔离通道以进行信 号传输， 所述工艺室与所述进端过渡室之间连通有出端隔离通道以进行信号传输。 说 明 书 CN 104451590 A 5 4/4 页 6 0044 以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式， 但是， 本发明并不限于上述实 施方式中的具体细节， 在本发明的技术构思范围内， 可以对本发明的技术方案进行多种简 单变型， 这些简单变型均属于本发明的保护范围。 0045 另外需要说明的是， 在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征， 在不矛 盾的情况下， 可以通过任何合适的方式进行组合， 为了避免不必要的重复， 本发明对各种可 能的组合方式不再另行说明。 0046 此外， 本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合， 只要其不违背本 发明的思想， 其同样应当视为本发明所公开的内容。 说 明 书 CN 104451590 A 6 1/1 页 7 图 1 说 明 书 附 图 CN 104451590 A 7 。