一种金属类金刚石MEDLC纳米复合膜及其制备方法.pdf

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摘要
申请专利号:

CN201010168336.0

申请日:

2010.04.30

公开号:

CN101823353A

公开日:

2010.09.08

当前法律状态:

驳回

有效性:

无权

法律详情:

登录超时

IPC分类号:

B32B9/04; C23C14/35; C23C14/02

主分类号:

B32B9/04

申请人:

广州有色金属研究院

发明人:

林松盛; 代明江; 侯惠君; 李福球; 朱霞高

地址:

510651 广东省广州市天河区长兴路363号

优先权:

专利代理机构:

广东世纪专利事务所 44216

代理人:

千知化

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内容摘要

一种金属-类金刚石纳米复合膜,其特征是依次由基材(1)、金属过渡层(2)、金属氮化物过渡层(3)、金属碳化物过渡层(4)和掺金属类金刚石层(5)构成。其制备方法采用Ti、Cr或W靶,依次轰击清洗基材,沉积金属层,金属氮化物层,金属碳化物层和沉积掺金属类金刚石层。本发明提供的金属-类金刚石纳米复合膜具有低的摩擦系数,高的耐磨性,良好的耐腐蚀性和生物相容性以及颜色均匀一致性。本发明的金属-类金刚石(Me-DLC)纳米复合膜适合用于手表壳体、饰物、工艺品等的表面涂层。

权利要求书

1: 一种金属-类金刚石纳米复合膜,其特征是依次由基材(1)、金属过渡层(2)、金属氮化物过渡层(3)、金属碳化物过渡层(4)和掺金属类金刚石层(5)构成。
2: 根据权利要求1所述的金属-类金刚石纳米复合膜,其特征是所述的基材为钢铁、钛合金或硬质合金。
3: 根据权利要求1所述的金属-类金刚石纳米复合膜,其特征是所述的金属为Ti、Cr或W。
4: 一种权利要求1所述的金属-类金刚石纳米复合膜的制备方法,其特征是采用Ti、Cr或W做靶材,在达到本底真空:
5: 0×10-3Pa,温度:150~350℃,工件架转速:1~5rpm条件下,依次包括以下步骤: ①离子束清洗基材:炉内压强:0.1~1.0Pa,Ar气流量:100~300sccm,离子源:0.5~2.0kW,负偏压:100~800V,时间:40~60min; ②金属过渡层沉积:炉内压强:0.2~0.5Pa,Ar气流量:150~200sccm,非平衡磁控溅射Ti或Cr,靶功率:2.0~10kW,离子源:0.5~1.0kW,负偏压:50~200V,时间:5~15min; ③金属氮化物过渡层沉积:炉内压强:0.3~0.6Pa,Ar气流量:100~200sccm,N2:20~60sccm,非平衡磁控溅射Ti或Cr,靶功率:5.0~10kW,离子源:0.5~1.0kW,负偏压:50~200V,时间:5~15min; ④金属碳化物过渡层沉积:炉内压强:0.3~0.6Pa,Ar气流量:100~200sccm,CH4或C2H2气流量:20~100sccm,非平衡磁控溅射Ti、Cr或W,靶功率:3.0~8.0kW,离子源:0.5~1.0kW,负偏压:50~200V,时间:5~15min; ⑤掺金属类金刚石层沉积:炉内压强:0.3~0.55Pa,Ar气流量:120~200sccm,CH4或C2H2气流量:160~250sccm,离子源:2.5~3.5kW,非平衡磁控溅射Ti、Cr或W,靶功率:0.5~1.0kW,负偏压:20~100V,时间:60~120min。

说明书


一种金属-类金刚石(Me-DLC)纳米复合膜及其制备方法

    【技术领域】

    本发明涉及一种金属表面涂层及其制备方法,特别涉及一种金属-类金刚石(Me-DLC)纳米复合膜及其制备方法。

    背景技术

    表面涂层技术在五金外饰件上已经应用了很久,主要以电镀技术为主。但随着社会发展,公众对于环境保护、能源节约的意识逐渐加强,高污染、高能耗电镀行业处于逐步被淘汰的地步,并被具有节能、环保特点的真空离子镀技术为代表的先进表面处理技术逐渐取代。目前在五金外饰件上利用真空离子镀制备的各种装饰功能薄膜,由于膜层较薄(0.2~1.0μm),其耐磨性及耐腐蚀性一般都不好。利用真空离子镀制备的类金刚石膜,具有一系列与金刚石膜相似的优异性能,特别是低的摩擦系数,高的耐磨性,良好的耐腐蚀性和生物相容性以及颜色均匀一致性。

    中国专利号ZL 200710028834.3公开了采用离子源结合磁控溅射技术制备金属碳化物/类金刚石纳米多层膜材料,该多层膜材料具有较高的显微硬度、低的摩擦系数、牢靠的附着力等性能。但纳米多层膜是由两种物质交替沉积构成,在非平面样品上,由于不同部位膜层的沉积速率不一,在具体工件的背面沉积速率比正面慢,而DLC层在一定的厚度范围内是呈干涉彩色的,这样造成了金属碳化物/类金刚石纳米多层膜在目标工件上呈外观颜色不一致。

    【发明内容】

    本发明的目的在于克服现有表面涂层技术存在的缺点和不足,提供一种Me-DLC纳米复合膜,该膜层材料具有高的显微硬度及耐磨性、低的摩擦系数、良好的膜基结合力及表面均匀一致的颜色等性能,以起到保护外饰件表面抗刮伤、耐腐蚀性和提高生物相容性。

    本发明的另一个目的是提供一种Me-DLC纳米复合膜的制备方法。

    本发明是通过以下技术方案实现的:所述的Me-DLC纳米复合膜依次由基材1、金属过渡层2、金属氮化物过渡层3、金属碳化物过渡层4和掺金属类金刚石层5构成。

    所述的基材1为钢铁、钛合金或硬质合金。

    所述的Me-DLC纳米复合膜的制备方法是采用Ti、Cr或W做靶材,在达到本底真空:5.0×10-3Pa,温度:150~350℃,工件架转速:1~5rpm条件下,依次包括以下步骤:

    ①离子束清洗基材:炉内压强:0.1~1.0Pa,Ar气流量:100~300sccm,离子源:0.5~2.0kW,负偏压:100~800V,时间:40~60min;

    ②金属过渡层沉积:炉内压强:0.2~0.5Pa,Ar气流量:150~200sccm,非平衡磁控溅射Ti或Cr,靶功率:2.0~10kW,离子源:0.5~1.0kW,负偏压:50~200V,时间:5~15min;

    ③金属氮化物过渡层沉积:炉内压强:0.3~0.6Pa,Ar气流量:100~200sccm,N2:20~60sccm,非平衡磁控溅射Ti或Cr,靶功率:5.0~10kW,离子源:0.5~1.0kW,负偏压:50~200V,时间:5~15min;

    ④金属碳化物过渡层沉积:炉内压强:0.3~0.6Pa,Ar气流量:100~200sccm,CH4或C2H2气流量:20~100sccm,非平衡磁控溅射Ti、Cr或W,靶功率:3.0~8.0kW,离子源:0.5~1.0kW,负偏压:50~200V,时间:5~15min;

    ⑤掺金属类金刚石层沉积:炉内压强:0.3~0.55Pa,Ar气流量:120~200sccm,CH4或C2H2气流量:160~250sccm,离子源:2.5~3.5kW,非平衡磁控溅射Ti、Cr或W,靶功率:0.5~1.0kW,负偏压:20~100V,时间:60~120min。

    本发明所述的金属层过渡层为Ti或Cr。沉积金属层Ti或Cr是因为适当的金属层和钢铁、钛合金或硬质合金等材料的粘附性好,该层的厚度为100~200nm。

    本发明所述的金属氮化物层TiN或CrN(1500-2500Hv)和金属碳化物层TiC、CrC或WC(Hv2000-3000),是为了在基材和Me-DLC纳米复合膜之间建立硬度热膨胀系数梯度过渡,降低膜层内应力,提高膜/基结合力及膜层的韧性,该层的厚度分别为100~200nm。

    本发明所述的掺金属类金刚石层为Ti-DLC、Cr-DLC或W-DLC,是利用阳极层流型气体离子源离化碳氢化合物甲烷、乙炔等,同时开启非平衡磁控溅射金属靶,实现在非晶类金刚石膜中掺入少量纳米晶颗粒的掺金属类金刚石(Me-DLC)纳米复合层的制备。利用非晶类金刚石碳膜具有良好的生物相容性及耐腐蚀性,做饰物使用时,佩戴者皮肤不容易产生过敏。少量金属的掺入可显著地降低膜层中的内应力,进而提高膜/基结合强度;在低的摩擦系数非晶类金刚石的基础上,纳米晶颗粒还可进一步提高膜层的耐磨性。该层的厚度为500~1000nm,硬度为Hv2000~4000。由于该纳米复合膜是在非晶类金刚石中弥撒少量的纳米晶颗粒,虽然也存在在目标工件不同部位膜层的沉积速率不一,但由于该层为同一种物质(Me-DLC),在所沉积的厚度范围内不会出现干涉彩色,呈外观颜色均匀一致。

    【附图说明】

    图1为本发明的Me-DLC纳米复合膜结构示意图。

    图中:基材1,金属过渡层2,金属氮化物过渡层3,金属碳化物过渡层4,掺金属类金刚石膜5。

    【具体实施方式】

    实施例1、2、3分别按表1、2、3所列工艺流程和参数操作。测试方法如下:

    ①膜层厚度采用横截面金相法测量;

    ②膜层硬度采用维氏显微硬度计测量:载荷10g,加载时间15秒,测三点硬度取平均值;

    ③膜/基结合力采用薄膜结合强度划痕试验仪测量:加载速度为100N/min,划行速度为5mm/min,划行时间为1分钟;

    ④膜层摩擦系数采用球-盘式摩擦磨损试验机测量,对磨件材质为GCr15,线速度为0.5m/s,载荷为0.98N;

    ⑤表面耐磨性采用与中密度纤维板(粗糙度为2.5~3.5μm)往复磨擦,载荷为2.45N;

    ⑥表面耐腐蚀性采用人工汗耐腐蚀试验,试验溶液为NaCl:20g/L、NH4Cl:17.5g/L、CH4N2O(浓度≥99.5%):5g/L、CH3COOH(浓度≥99%):2.5g(2.4ml)/L、C3H6O3(浓度90%):15g(12.4ml)/L、NaOH(浓度80g/L)调整溶液pH值到4.7。试验温度(40±2)℃,试验持续时间不小于24h。

    实施例1

    表1工艺流程表

    

    采用Ti靶材,气体为99.99%的Ar、N2和CH4,基材为316L不锈钢。依次沉积Ti/TiN/TiC/Ti-DLC的厚度分别为100nm、150nm、150nm和800nm。膜层总厚度为1200nm,工件表面颜色均匀一致,硬度值为Hv2100,膜/基结合力为55N,摩擦系数为0.110。经过与中密度纤维板往复磨擦9000m试验后,样件表面没有露底、无膜层脱落;人工汗实验24小时后,膜层的整体颜色无发生变化、没有出现盐析和锈蚀。

    实施例2

    表2工艺流程表

    

    采用Cr靶,气体为99.99%的Ar、N2和99.5%的C2H2,基材为Ti6Al4V钛合金。依次沉积Cr/CrN/CrC/Cr-DLC的厚度分别为100nm、150nm、100nm和750nm。膜层总厚度为1100nm,工件表面颜色均匀一致,硬度值为Hv2300,膜/基结合力为70N,摩擦系数为0.150。经过与中密度纤维板往复磨擦7500m试验后,样件表面没有露底、无膜层脱落;人工汗实验24小时后,膜层的整体颜色无发生变化、没有出现盐析和锈蚀。

    实施例3

    表3工艺流程表

    

    采用Cr及W靶,气体为99.99%的Ar、N2和99.5%的C2H2,基材为TiC基硬质合金。依次沉积Cr/CrN/WC/W-DLC的厚度分别为100nm、100nm、100nm和700nm。膜层总厚度为1000nm,工件表面颜色均匀一致,硬度值为Hv3100,膜/基结合力为75N,摩擦系数为0.135。经过与中密度纤维板往复磨擦10000m试验后,样件表面没有露底、无膜层脱落;人工汗实验24小时后,膜层的整体颜色无发生变化、没有出现盐析和锈蚀。

    本发明的金属-类金刚石(Me-DLC)纳米复合膜适合用于手表壳体、饰物、工艺品等的表面涂层。

    

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一种金属-类金刚石纳米复合膜,其特征是依次由基材(1)、金属过渡层(2)、金属氮化物过渡层(3)、金属碳化物过渡层(4)和掺金属类金刚石层(5)构成。其制备方法采用Ti、Cr或W靶,依次轰击清洗基材,沉积金属层,金属氮化物层,金属碳化物层和沉积掺金属类金刚石层。本发明提供的金属-类金刚石纳米复合膜具有低的摩擦系数,高的耐磨性,良好的耐腐蚀性和生物相容性以及颜色均匀一致性。本发明的金属-类金刚石(M。

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