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1、(10)申请公布号 CN 103358574 A (43)申请公布日 2013.10.23 CN 103358574 A *CN103358574A* (21)申请号 201310111003.8 (22)申请日 2013.04.01 61/618073 2012.03.30 US B29D 11/00(2006.01) (71)申请人 庄臣及庄臣视力保护公司 地址 美国佛罗里达州 (72)发明人 C. 维尔德史密斯 M.F. 维曼 J.P. 亚当斯 (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公 司 72001 代理人 徐予红 朱海煜 (54) 发明名称 轮廓形成控制 (57) 摘要 本发。
2、明涉及一种轮廓形成控制。本发明描述 用于实施收敛工艺以向透镜设计收敛的方法和装 置, 其中可修改前一DMD显示以用于后续迭代。 在 优选实施例中, 可在收敛工艺期间启用迭代循环, 其中可实施以下各者的一者或多者 : 技术、 模态、 以及厚度校正方法。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 权利要求书 3 页 说明书 18 页 附图 11 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书3页 说明书18页 附图11页 (10)申请公布号 CN 103358574 A CN 103358574 A *CN103358574A* 1/3 页 2 1. 一种经由轮廓形成。
3、装置控制眼科装置的制造的方法, 包括 : (a) 向所述轮廓形成装置发出指令以制造眼科装置 ; (b) 基于所述指令用所述轮廓形成装置制造所述眼科装置 ; (c) 测量所述眼科装置 ; (d) 确定所述眼科装置是否符合透镜设计的验收标准 ; 以及其中 (e) 在确定所述眼科装置不符合所述验收标准之后, 所述方法还包括 (f) 执行收敛工艺以朝所述透镜设计收敛所述眼科装置。 2. 根据权利要求 1 所述的方法, 其中所述收敛工艺包括 (g) 修改所述前一指令以产生 能够形成后续眼科装置的后续指令。 3. 根据权利要求 2 所述的方法, 还包括 (h) 基于所述后续指令用所述轮廓形成装置制 造后续。
4、眼科装置。 4. 根据权利要求 3 所述的方法, 还包括重复步骤 (g) 和 (h), 直至确定所述眼科装置符 合所述透镜设计的所述验收标准为止。 5. 根据前述权利要求中任一项所述的方法, 其中所述轮廓形成装置包括数字微镜装置 (DMD), 并且其中所述指令或每个指令是 DMD 显示指令。 6. 根据前述权利要求中任一项所述的方法, 其中所述收敛工艺包括收敛遮罩技术。 7. 根据权利要求 6 所述的方法, 其中所述收敛遮罩技术包括限定选择的遮罩区域并在 所述选择的遮罩区域内选择性地执行所述收敛工艺。 8. 根据权利要求 6 所述的方法, 其中所述收敛遮罩技术包括限定选择的遮罩区域并在 所述选。
5、择的遮罩区域外选择性地执行所述收敛工艺。 9. 根据权利要求 7 或 8 所述的方法, 其中所述选择的遮罩区域包括以下中的一者或多 者 : 半径、 扇形、 区段、 以及区域。 10.根据权利要求6至9中任一项所述的方法, 其中所述收敛遮罩技术包括一个或多个 融合区。 11. 根据权利要求 10 所述的方法, 其中所述融合区包括一个或多个特定区, 所述一个 或多个特定区将所述选择的遮罩区域连接到一个或多个未遮罩区域。 12. 根据前述权利要求中任一项所述的方法, 其中所述收敛工艺包括收敛模态。 13. 根据权利要求 12 所述的方法, 其中所述收敛模态包括在所述测量的眼科装置的与 目标厚度相比过。
6、厚的区域中修改所述前一指令, 并且在所述测量的眼科装置的与目标厚度 相比过薄的区域中修改所述前一指令。 14. 根据权利要求 12 所述的方法, 其中所述收敛模态包括仅在所述测量的眼科装置的 与所述目标厚度相比过薄的区域中修改所述前一指令。 15.根据权利要求13或14所述的方法, 其中修改所述前一指令包括在所述测量的眼科 装置的与所述目标厚度相比过薄的所述区域中增加指令。 16. 根据权利要求 12 所述的方法, 其中所述收敛模态包括仅在所述测量的眼科装置的 与所述目标厚度相比过厚的区域中修改所述前一指令。 17.根据权利要求13或16所述的方法, 其中修改所述前一指令包括在所述测量的眼科 。
7、装置的与所述目标厚度相比过厚的所述区域中减少指令。 18. 根据权利要求 12 至 17 中任一项所述的方法, 其中所述收敛模态包括活塞移位技 权 利 要 求 书 CN 103358574 A 2 2/3 页 3 术。 19. 根据权利要求 18 所述的方法, 其中所述活塞移位技术包括使前一 DMD 显示指令的 选择的部分的一个或多个执行等量的均匀位移。 20. 根据权利要求 12 至 17 中任一项所述的方法, 其中所述收敛模态包括顶点锁定技 术。 21. 根据权利要求 20 所述的方法, 其中所述顶点锁定技术包括锁定的 ICT, 其中所述 ICT 被设定成特定值, 所述值在后续迭代期间保持。
8、恒定。 22. 根据前述权利要求中任一项所述的方法, 其中所述收敛工艺包括厚度校正方法。 23. 根据权利要求 22 所述的方法, 其中所述厚度校正方法包括以下中的一种或多种 : 百分比方法、 算术方法、 以及割线方法。 24. 根据权利要求 22 所述的方法, 其中所述厚度校正方法包括一个或多个数据点的过 滤过程。 25. 根据权利要求 24 所述的方法, 其中所述过滤过程包括以下中的一者或多者 : 限定、 检测、 移除、 以及校正给定数据中的错误。 26. 根据权利要求 22 所述的方法, 其中所述厚度校正方法包括一个或多个所述数据点 的表面拟合过程。 27. 根据权利要求 26 所述的方。
9、法, 其中所述表面拟合过程包括通过实施内插法和平滑 法中的任一种来构建表面和数学函数中的一者或两者, 所述表面和数学函数与一系列所述 数据点具有最佳拟合。 28. 根据权利要求 22 所述的方法, 其中所述厚度校正方法包括均匀空间增益方法。 29. 根据权利要求 28 所述的方法, 其中所述均匀空间增益方法提供欲横跨所述训练区 域施用的一种或多种相同的所述厚度校正方法, 其中增益量级因数在每个像素位置处是相 等的。 30. 根据权利要求 22 所述的方法, 其中所述厚度校正方法包括非均匀空间增益方法。 31. 根据权利要求 30 所述的方法, 其中所述非均匀空间增益方法包括横跨所述训练区 域施。
10、用的一种或多种相同的所述厚度校正方法, 其中所述增益量级因数在每个像素位置处 可为不同的。 32. 根据权利要求 30 所述的方法, 其中所述非均匀空间增益方法包括基于函数的非均 匀空间增益方法。 33. 根据权利要求 32 所述的方法, 其中所述基于函数的非均匀空间增益方法包括将所 述增益量级因数与所述像素的径向位置相关联。 34. 根据权利要求 30 所述的方法, 其中所述非均匀空间增益方法包括直接映射非均匀 空间增益方法。 35. 根据权利要求 34 所述的方法, 其中所述直接映射非均匀空间增益方法包括平衡来 自训练区域的对应数据, 所述训练区域来源于以下中的一者或多者 : 所述前一 D。
11、MD 显示、 所 述测量的透镜、 以及所述透镜设计, 其中期望的所述增益量级因数可在每个像素位置处计 算。 36. 一种用于修改数字微镜装置显示的设备, 所述设备用于形成向透镜设计收敛的轮 廓形成眼科透镜, 所述设备包括 : 权 利 要 求 书 CN 103358574 A 3 3/3 页 4 计算机处理器, 所述计算机处理器与轮廓形成装置数字通信 ; 以及 数字媒体存储装置, 所述数字媒体存储装置与所述计算机处理器通信, 并且其中存储 在所述数字媒体存储装置上的是可执行软件代码, 所述可执行软件代码可在需要时执行, 以实施前述权利要求中任一项所述的方法。 37. 根据权利要求 36 所述的设。
12、备, 其中存储在所述数字媒体存储装置上的是描述数据 清单的数字数据, 其中所述数据包括透镜设计数据和 DMD 显示数据中的一者或两者。 权 利 要 求 书 CN 103358574 A 4 1/18 页 5 轮廓形成控制 0001 使用领域 0002 本发明描述经由轮廓形成装置来控制制品制造的方法和设备。更具体地讲, 可基 于收敛工艺控制轮廓形成设备来制造一系列轮廓形成透镜, 直至透镜设计符合验收标准为 止。 发明内容 0003 因此, 本发明的一个方面是用于执行收敛工艺来形成符合透镜设计验收标准的轮 廓形成接触镜片。例如, DMD 显示可形成不符合验收标准的透镜, 其中可针对后续迭代启动 收。
13、敛工艺。 在收敛工艺期间所使用的遮罩技术、 收敛模态、 以及厚度校正方法中的一种或多 种可为多种多样的。 0004 遮罩技术可包括半径遮罩技术、 扇形遮罩技术、 区段遮罩技术、 以及区域遮罩技术 中的一种或多种, 其中可视需要应用融合区 (Blend Zone)。模态可包括一侧收敛模态和两 侧收敛模态中的一种或多种。因此, 当执行一侧收敛模态和两侧收敛模态中的一者或两者 时, 可使用顶点锁定技术和活塞移位技术中的一者或两者。 0005 此外, 厚度校正方法可包括百分比厚度校正方法、 算术厚度校正方法、 以及割线厚 度校正方法中的一种或多种。在利用厚度校正方法时, 可应用均匀空间增益方法和非均匀。
14、 空间增益方法中的任一者。可存在多种类型的非均匀空间增益方法, 包括基于函数的非均 匀空间增益方法和直接映射非均匀空间增益方法。 0006 本发明提供一种经由轮廓形成装置控制眼科装置的制造的方法, 所述方法包括 : 0007 (a) 向轮廓形成装置发出指令以制造眼科装置 ; 0008 (b) 基于所述指令用所述轮廓形成装置制造所述眼科装置 ; 0009 (c) 测量所述眼科装置 ; 0010 (d) 确定所述眼科装置是否符合透镜设计的验收标准 ; 且其中 0011 (e) 在确定所述眼科装置不符合所述验收标准之后, 所述方法还包括 0012 (f) 执行收敛工艺以朝所述透镜设计收敛所述眼科装置。
15、。 0013 所述收敛工艺可包括 (g) 修改前一指令以产生能够形成后续眼科装置的后续指 令。 0014 所述方法还可包括 (h) 基于所述后续指令用所述轮廓形成装置制造后续眼科装 置。 0015 所述方法还可包括重复步骤 (g) 和 (h), 直至确定眼科装置符合透镜设计的验收 标准为止。 0016 所述轮廓形成装置可包括数字微镜装置(digital micromirror device ; DMD), 并 且所述指令或每个指令可为 DMD 显示指令。 0017 所述收敛工艺可包括收敛遮罩技术。 0018 所述收敛遮罩技术可包括限定所选遮罩区域并在所述所选遮罩区域内选择性地 执行所述收敛工艺。
16、。 说 明 书 CN 103358574 A 5 2/18 页 6 0019 所述收敛遮罩技术可包括限定所选遮罩区域并在所述所选遮罩区域外选择性地 执行所述收敛工艺。 0020 所述所选遮罩区域可包括以下中的一者或多者 : 半径、 扇形、 区段、 以及区域。 0021 所述收敛遮罩技术可包括一个或多个融合区。 0022 所述融合区可包括一个或多个特定区, 所述一个或多个特定区将所述所选遮罩区 域连接到一个或多个未遮罩区域。 0023 所述收敛工艺可包括收敛模态。 0024 所述收敛模态可包括在测量的眼科装置的与目标厚度相比过厚的区域中修改前 一指令, 并且在测量的眼科装置的与目标厚度相比过薄的。
17、区域中修改前一指令。 0025 所述收敛模态可包括仅在测量的眼科装置的与目标厚度相比过薄的区域中修改 前一指令。 0026 修改前一指令可包括在测量的眼科装置的与目标厚度相比过薄的区域中增加指 令。 0027 所述收敛模态可包括仅在测量的眼科装置的与目标厚度相比过厚的区域中修改 前一指令。 0028 修改前一指令可包括在测量的眼科装置的与目标厚度相比过厚的区域中减小指 令。 0029 所述收敛模态可包括活塞移位技术。 0030 所述活塞移位技术可包括使前一 DMD 显示指令的选择的部分的一个或多个执行 等量的均匀移位。 0031 所述收敛模态可包括顶点锁定技术。 0032 所述顶点锁定技术可包。
18、括锁定的ICT, 其中所述ICT被设定成一特定值, 所述特定值 在一后续迭代期间保持恒定。 0033 所述收敛工艺可包括厚度校正方法。 0034 所述厚度校正方法可包括百分比方法、 算术方法、 以及割线方法中的一种或多种。 0035 所述厚度校正方法可包括一个或多个数据点的过滤过程。 0036 所述过滤过程可包括以下操作中的一者或多者 : 限定、 检测、 移除、 以及校正给定 数据中的错误。 0037 所述厚度校正方法可包括一个或多个所述数据点的表面拟合过程。 0038 所述表面拟合过程可包括通过实施内插法和平滑法中的任一者来构建最佳地拟 合至一系列所述数据点的表面和数学函数中的一者或两者。 。
19、0039 所述厚度校正方法可包含均匀空间增益方法。 0040 所述均匀空间增益方法可提供欲在其中增益量级因数在每个像素位置处相等的 训练区域 (Training Region) 中施加的一种或多种相同的所述厚度校正方法。 0041 所述厚度校正方法可包含非均匀空间增益方法。 0042 所述非均匀空间增益方法可包括在其中所述增益量级因数在每个像素位置处可 不同的训练区域中施加的一种或多种相同的所述厚度校正方法。 0043 所述非均匀空间增益方法可包括基于函数的非均匀空间增益方法。 0044 所述基于函数的非均匀空间增益方法可包括使所述增益量级因数与所述像素的 说 明 书 CN 103358574。
20、 A 6 3/18 页 7 径向位置相关联。 0045 所述非均匀空间增益方法可包括直接映射非均匀空间增益方法。 0046 所述直接映射非均匀空间增益方法可包括平衡来自训练区域的对应数据, 所述训 练区域来源于以下中的一者或多者 : 所述前一 DMD 显示、 所述测量的透镜、 以及所述透镜设 计, 其中期望的所述增益量级因数可在每个像素位置处计算。 0047 本发明还提供一种用于修改数字微镜装置显示的设备, 所述设备用于形成向透镜 设计收敛的轮廓形成眼科透镜, 所述设备包括 : 0048 计算机处理器, 与轮廓形成装置数字通信 ; 和 0049 数字媒体存储装置, 与所述计算机处理器通信, 并。
21、且其中存储在所述数字媒体存 储装置上的是可执行软件代码, 所述可执行软件代码可在需要时执行, 以实施本文所述的 方法。 0050 任选地, 存储在所述数字媒体存储装置上的是描述数据清单的数字数据, 其中所 述数据包括透镜设计数据和 DMD 显示数据中的一者或两者。 附图说明 0051 图 1 例示可用于实施本发明的方法步骤 ; 0052 图 2a 例示可用于实施本发明的半径遮罩技术的例子 ; 0053 图 2b 例示可用于实施本发明的扇形遮罩技术的例子 ; 0054 图 2c 例示可用于实施本发明的区段遮罩技术的例子 ; 0055 图 2d 例示可用于实施本发明的区域遮罩技术的例子 ; 005。
22、6 图 2e 例示可用于实施本发明的融合区的例子 ; 0057 图 3 例示可用于实施本发明的两侧收敛模态的平坦空间中的图形表示 ; 0058 图 4 例示可用于实施本发明的利用加厚棘轮工序的一侧收敛模态的平坦空间中 的图形表示 ; 0059 图 5 例示可用于实施本发明的利用减薄棘轮工序的一侧收敛模态的平坦空间中 的图形表示 ; 0060 图 6 和图 7 例示可用于实施本发明的顶点锁定技术的平坦空间中的图形表示 ; 0061 图 8 例示可用于实施本发明的活塞移位技术的平坦空间中的图形表示 ; 以及 0062 图 9 例示可用于实施本发明的处理器。 具体实施方式 0063 本发明提供用于产。
23、生和/或修改DMD显示以形成向透镜设计收敛的透镜的方法和 设备。以下章节将详细说明本发明的实施例。虽然作了详述, 但优选和可供选择实施例均 仅为示例性实施例, 应理解其变化、 修改和更改对于本领域技术人员而言是显而易见的。 因 此应当了解所述的示例性实施例并不会限制下述发明的各个方面的广泛性。 本文所述的方 法步骤在此讨论内容中以逻辑序列列出, 然而除非具体说明, 否则此序列并不限制所述步 骤可被实施的顺序。 0064 术语 0065 在涉及本发明的该说明书和权利要求中, 所使用的各个术语定义如下 : 说 明 书 CN 103358574 A 7 4/18 页 8 0066 本文所用的 “验收。
24、标准” 是指特定参数范围和特定参数值中的一者或两者, 使得如 果成品透镜或透镜坯件的测量的参数落在透镜设计和期望目标文件中的一者或两者的范 围内或满足其中的值, 则可认为该制成品是可接受的。 0067 本文所用的 “融合区” 是指用于以下一者或两者的连续区域 : 将透镜的一部分融合 到透镜的另一邻接部分 ; 以及将 DMD 显示的一部分融合到 DMD 显示的另一邻接部分。混合 区是其中透镜一部分的性质与透镜另一邻接部分的性质相融合的区域。 0068 本文所用的 “目录项” 是指可暂时性地或永久性地存储在例如文库或数据库中并 可被召回使用而无需重建的文件、 特征、 组件、 设计、 数据、 或描述。
25、符。 0069 本文所用的 “轮廓形成装置” 是指用于制造以下中的一者或多者的设备和方法 : 透镜坯形、 透镜坯件、 以及透镜, 其中所述器件可涉及例如对光化学辐射、 反应混合物、 以及 DMD 器件的使用。 0070 本文所用的 “收敛 (Convergence)” ( 在本文中有时也被称为 :“收敛工艺” 和与 “收 敛工艺” 具有相同意义的 “收敛 (converge)” ) 是指修改指令并在迭代循环中使用所修改指 令的过程。迭代可持续进行, 直至后续加工的透镜参数满足特定验收标准和期望目标文件 中的一者或两者为止。所述指令可为 DMD 文件或多个 DMD 文件。 0071 本文所用的 。
26、“弯曲空间” 是指其中设计的曲率尚未被移除的坐标映射空间 ( 例如, 笛卡尔 (Cartesian) 坐标、 极坐标、 球面坐标等 )。 0072 本文所用的 “定制产品” 是指包括一个或多个参数的产品, 所述一个或多个参数可 在其他增量步骤中可用。定制产品参数比标准产品参数容许更精确的球面光焦度、 圆柱光 焦度、 以及圆柱轴 ( 例如, -3.125D/-0.47D18 ), 并可基于对所提供产品的特定使用而 包括基础曲线、 直径、 稳定性分布、 以及厚度分布。 0073 如本文所使用的术语 “期望的目标文件” ,“期望的目标文件” 或 “目标文件” 是指 可表示以下中的一者或多者的数据 :。
27、 透镜设计、 等厚图、 透镜坯件设计、 透镜坯形设计、 透镜 坯件结构设计、 以及上述组合。 期望的目标文件可被表示成处于水合状态或非水合状态中、 平坦空间或弯曲空间中、 二维空间或三维空间中, 并可通过包括但不限于以下的方法表示 : 几何图、 光焦度分布图、 形状、 特征、 厚度等。 期望的目标文件可包含位于以规则或不规则方 式间隔开的网格上的数据。 0074 本文所用的 “数字核心间歇 (Digital Core Break)” 是指其中选择透镜坯件结构 或控制参数或其他特征可相同并可在特定产品范围内保持恒定的产品范围。 0075 本文所用的 “DMD” 是指数字微镜装置, 所述数字微镜装。
28、置是由安装在 CMOS SRAM 上的可移动微镜阵列组成的双稳态空间光调制器。 可通过将数据载入反射镜下的存储单元 来独立控制每个面反射镜使反射光转向, 从而将视频数据的像素空间映射到显示器上的像 素。数据以二元方式静电地控制反射镜的倾角, 其中反射镜状态为 +X 度 (“开” ) 或 -X 度 (“关” )。例如, 在当前器件下, X 可为 10 度或 12 度 ( 标称 ) ; 未来的器件可具有不同的倾 角。由 “开” 反射镜反射的光穿过投影透镜并投射到屏幕上。由 “关” 反射镜反射的光形成 暗场并为图像限定黑色级的底板。图像通过介于 “开” 电平与 “关” 电平之间的灰度调节而 形成, 。
29、开关速率快到足以让观看者将其视为完整图像。每个反射镜可自一个或多个 DMD 显 示或不自任何 DMD 显示接收多个指令。选择反射镜可在透镜制造工艺期间被打 “开” 。数字 微镜装置 (DMD) 可存在于 DLP 投影系统中。 说 明 书 CN 103358574 A 8 5/18 页 9 0076 本文所用的 “DMD 控制软件” 是指如下软件 : 所述软件用于整理及利用可实现透镜 坯件或透镜坯件结构的制造的 DMD 文件和 DMD 显示。 0077 如本文所用的 “DMD 显示” ,“DMD 显示” 或 “DMD 文件” 是指基于时间的指令数据点 和基于厚度的指令数据点中的一者或两者的集合,。
30、 所述集合可用于启动 DMD 上的反射镜并 能够使透镜或透镜坯件或透镜坯形或透镜坯件结构得以制造。 DMD显示可具有各种格式, 其 中 (x, y, t) 和 (r, , t) 是最常见的格式, 其中例如 “x” 和 “y” 是 DMD 反射镜的笛卡尔坐 标位置,“r” 和 “” 是 DMD 反射镜的极坐标位置, 并且 “t” 表示用于控制 DMD 反射镜状态 的时间指令。DMD 显示可包含位于以规则或不规则方式间隔开的网格上的数据。 0078 本文所用的 “制造工艺条件” 是指用于制造以下中的一者或多者时所使用的设定、 条件、 方法、 设备和工艺 : 透镜坯件、 透镜坯形、 以及透镜。 00。
31、79 本文所用的 “过滤” 是指包括以下中的一者或多者 : 限定、 检测、 移除、 以及校正给 定数据中的错误, 以便将输入数据中的错误对后续分析的影响最小化的工艺。 0080 本文所用的 “平坦空间” 是指其中认为设计的曲率已被移除的坐标映射空间 ( 例 如, 笛卡尔坐标、 极坐标、 球面坐标等 )。 0081 本文所用的 “流动透镜反应介质” 是指如下反应混合物 : 所述反应混合物在其自然 状态、 反应后状态、 或部分反应状态中可流动并可经进一步加工而形成为眼科透镜的一部 分。 0082 如本文所用的 “自由形成” ,“自由形成的” 或 “自由形成” ( 在本文中有时也被称 为 :“轮廓形。
32、成的” 或与 “轮廓形成的” 具有相同意义的 “轮廓形成” ) 是指如下表面 : 所述表 面是反应混合物经由在体素乘体素的基础上暴露于光化学辐射发生交联而形成, 并且未根 据注模、 车床加工、 或雷射烧蚀而成形。 自由形成方法及设备的详细说明公开于美国专利公 开案 No.US2009/0053351 和美国专利公开案 No.US2009/0051059 中。 0083 本文所用的 “迭代” 是指后续 DMD 文件 /DMD 显示的形成, 所述后续 DMD 文件 /DMD 显示随后用于收敛工艺来满足验收标准。 0084 本文所用的 “迭代循环” 是指如下一个或一系列工艺步骤 : 所述步骤能够实现。
33、以 下中的一者或多者的制造 : 透镜、 透镜坯件、 以及透镜坯件结构, 使得每经过一次循环后, 透 镜、 透镜坯件、 以及透镜坯件结构可比其在前一循环更符合所期望的透镜设计。 收敛工艺可 包含一个或多个迭代循环, 在所述一个或多个迭代循环中, DMD 显示和制造工艺条件中的一 者或两者可被修改。 0085 如本文所用的 “透镜” ,“透镜 (Lens 或 lens)” 是指任何驻留于眼睛中或眼睛上的 眼科装置。这些装置可提供光学校正或可供装饰用。例如, 术语透镜可指用于校正或改进 视力或提升眼部机体美观效果(例如虹膜颜色)而不会影响视力的接触镜片、 眼内镜片、 覆 盖镜片、 眼嵌入物、 光学嵌。
34、入物或其它类似的器件。 本发明优选的透镜可为由硅氧烷弹性体 或水凝胶 ( 包括但不限于硅树脂水凝胶和氟水凝胶 ) 制成的软的接触镜片。 0086 本文所用的 “透镜设计” 是指所期望透镜的形状、 功能、 或两者, 所述形状、 功能或 两者被加工后可提供光焦度校正、 可接受的透镜贴合性 ( 例如, 角膜覆盖和运动 )、 可接受 的透镜旋转稳定性等。透镜设计可被表示成处于水合状态或非水合状态中、 平坦空间或弯 曲空间中、 二维空间或三维空间中, 并可通过包括以下中的一者或多者的方法表示 : 几何 图、 光焦度分布图、 形状、 特征、 厚度等。 透镜设计可包含位于以规则或不规则方式间隔开的 说 明 。
35、书 CN 103358574 A 9 6/18 页 10 网格上的数据。 0087 本文所用的 “透镜坯件” 是指由透镜坯形和与透镜坯形相接触的流动透镜反应介 质组成的组合物件, 所述透镜坯形可为旋转对称的或非旋转对称的。 例如, 可在一定体积的 反应混合物内制作透镜坯形的过程中形成流动透镜反应介质。 从用于制备透镜坯形的一定 体积的反应混合物中分离出镜片坯形和流动透镜反应介质, 可得到透镜坯件。 另外, 透镜坯 件可通过移除一定量的流动透镜反应介质或将一定量的流动透镜反应介质转化成非流动 复合材料而转变为不同的实体。 0088 本文所用的 “透镜坯件结构” ( 也被称为 “结构” ) 是指透。
36、镜坯形的非流动性底层 结构并用作透镜坯件的基础结构。透镜坯件结构可凭经验限定或可由控制参数 ( 高度、 宽 度、 长度、 形状、 位置等 ) 以数学方式描述, 所述控制参数可经由 DMD 显示指令产生。透镜坯 件结构的例子可包括以下中的一个或多个 : 透镜边缘结构、 稳定区结构、 智能底层书结构、 光学区结构、 壕沟结构、 排泄通道结构等。 透镜坯件结构可使用光化学辐射体素制成并可经 进一步加工而被复合到眼科透镜中。 0089 本文所用的 “透镜坯形” 是指可符合经进一步加工被复合到眼科透镜中的非流动 性物体。 0090 本文所用的 “眼科装置” 或 “产品” 是指以下中的一者或多者 : 透镜。
37、、 透镜坯件、 以 及透镜坯形, 并可包括 “标准产品” 或 “定制产品” 。 0091 本文所用的 “峰谷 (Peak to Valley ; PV)” 是指对于整个表面和特定区域 ( 例如 视区 ) 中的一者或两者, 测量的透镜坯件、 测量的透镜坯形、 以及测量的透镜中的一者或多 者的表面上的最高点与最低点之间的差值, 并可为验收标准的一部分。 0092 本文所用的 “均方根 (Root Mean Square)” 是指对于整个表面和特定区域 ( 例如 视区 ) 中的一者或两者, 测量的透镜坯件、 测量的透镜坯形、 以及测量的透镜中的一者或多 者的平滑度, 并可为验收标准的一部分。 009。
38、3 本文所用的 “标准产品” 是指产品参数可用性受限的产品 ( 例如以离散步长提供 的产品 )。例如, 球面光焦度参数可仅在 0.25D 步长 ( 例如, -3.00D、 3.25D、 -3.50D 等 ) 中 可用 ; 圆柱光焦度参数可仅在 0.50D 步长 ( 例如, -0.75D、 -1.25D、 -1.75D 等 ) 中可用 ; 且 圆柱轴参数可仅在 10步长 ( 例如, 10、 20、 30等 ) 中可用。其他以离散步长提供的 标准产品参数及特征包括但不限于基础曲线半径、 直径、 稳定性分布和厚度分布。 0094 本文所用的 “基板” 是指可在上面放置或形成其他实体的物理实体。 00。
39、95 本文所用的 “表面拟合” 是指用于构建最佳地拟合至一系列数据点的表面或数学 函数的工艺, 并且该工艺可能会受到限制。 表面拟合可涉及内插法或平滑法, 在内插法中需 要与数据的准确拟合, 在平滑法中构建与数据近似拟合的 “平滑” 函数。 0096 本文所用的 “厚度映射” 是指所期望产品、 透镜坯形、 或透镜坯件的二维或三维厚 度分布表示。厚度映射可处于平坦空间坐标空间或弯曲空间坐标空间中, 并可包含位于以 规则或不规则方式间隔开的网格上的数据。 0097 本文所用的 “训练区域” 是指可在收敛工艺期间重复的整个透镜以及透镜的一个 或多个部分的一者或两者。 0098 本文所用的 “体素” 。
40、( 也被称为 “光化学辐射体素” ) 是体积元素, 其表示位于三维 空间中的规则或不规则网格上的值。 然而, 体素可被看成三维的像素, 其中像素表示二维图 说 明 书 CN 103358574 A 10 7/18 页 11 像数据而体素包含第三维。 此外, 其中体素常用于可视化以及医疗和科研数据分析, 在本发 明中, 体素用于限定到达特定体积的反应性混合物的光化辐射量的边界, 从而控制该具体 体积的反应性混合物的交联或聚合反应速度。举例来说, 体素被视为存在于与二维模具表 面共形的单层内, 其中光化辐射可垂直地辐射到二维表面并以每个体素的共同轴向尺寸表 示。例如, 特定体积的反应混合物可按 7。
41、68768 个体素交联或聚合。 0099 可经由 DMD 显示的使用基于期望的透镜设计来制造透镜。此外, 所制成的透镜可 能不符合透镜设计的验收标准, 其中可能必须发生前一 DMD 显示的迭代。例如, 前一 DMD 显 示的迭代可实现向所期望透镜设计的更紧密的收敛。 0100 现在参见图 1, 流程图例示可用于实施本发明的方法步骤。在步骤 101 中, 在某些 实施例中, 可检测透镜表面上是否存在表面异常 ( 例如, 斑点、 污垢等 )。在步骤 102 中, 在 确定透镜表面上存在表面异常时, 可舍弃透镜并例如通过利用与前一 DMD 显示相同的设定 来重新制造新的透镜。在步骤 103 中, 在。
42、确定透镜表面上不存在表面异常时, 可确定 PV 值。 如果 PV 并非可接受的, 则在步骤 104 中, 可形成用于 DMD 显示的后续迭代的参数并可制造 新的透镜。 如果PV是可接受的, 则在步骤105中, 可确定RMS是否位于所期望的视区中。 如 果 RMS 并非可接受的, 则在步骤 104 中, 可形成用于后续 DMD 显示的参数并制造新的透镜。 如果 RMS 是可接受的, 则在步骤 106 中, 可确定测量的透镜是否符合其他厚度规格 ( 例如周 边几何形状 )。如果其他厚度规格并非可接受的, 则在步骤 104 中, 可形成用于 DMD 显示的 后续迭代的参数并制造透镜的迭代。如果其他厚。
43、度规格是可接受的, 则在步骤 107 中, 透镜 可被释放以供后加工。 0101 如在上述方法步骤中所述, 可存在如下情形 : 前一 DMD 显示形成不符合透镜设计 验收标准的透镜, 并且可能需要后续迭代。 0102 以下中的一者或多者可为各种各样的 : 在收敛工艺期间所利用的技术、 模态、 以及 方法。在执行收敛工艺时, 用于后续迭代的后续 DMD 显示指令可为被改变的前一 DMD 显示 指令、 前一显示指令与一个或多个另一DMD显示指令的组合、 以及两个或更多个DMD显示的 组合其中一者或两者。例如, 可将来自一个或多个 DMD 显示中的两部分或更多部分结合在 一起用于后续迭代。 因此, 。
44、可连续地重复收敛工艺的迭代循环, 直至透镜符合透镜设计的验 收标准为止。 0103 在本发明的一些方面, 可在收敛工艺期间实施遮罩技术。 在一些实施例中, 遮罩技 术可包括以下中的一者或多者 : 半径遮罩技术、 扇形遮罩技术、 区段遮罩技术、 以及区域遮 罩技术。 在一些相关实施例中, 可将一种或多种遮罩技术应用于以下中的任一者 : 可用于后 续迭代的一个 DMD 显示、 以及两个或更多个 DMD 显示。另外, 可将一种或多种遮罩技术应用 至透镜的训练区域, 所述训练区域可包括以下一者或两者 : 整个透镜、 以及透镜的一个或多 个部分。 0104 此外, 即使测量的透镜已经符合期望的验收标准,。
45、 仍可执行遮罩技术来进一步向 透镜设计收敛。例如, 测量的透镜的 PV 可为可接受的, 但在后续迭代中执行遮罩技术可更 紧密地向透镜设计收敛, 并且因此能够使透镜比在不使用遮罩技术时具有更好的性能, 例 如更加精确地改善视力。 0105 现在参见图2a至图2d, 图2a至图2d例示在平坦空间中的各种不同遮罩技术的例 子。在实施遮罩技术时, 用户可指定一个或多个边界, 在所述一个或多个边界内可使用 DMD 说 明 书 CN 103358574 A 11 8/18 页 12 显示且在所述一个或多个边界外可使用不同的 DMD 显示。 0106 现在参见图 2a, 图 2a 例示应用至 DMD 显示的。
46、半径遮罩技术的例子。在针对后续 迭代使用半径遮罩技术时, 可指定一个或多个 DMD 显示的一个或多个部分发生于某一半径 201 内。另外, 可指定一个或多个不同 DMD 显示的一个或多个部分发生于以下一者或两者 内 : 透镜设计的一个或多个半径、 以及透镜设计的所有剩余部分。 0107 现在参见图 2b, 图 2b 例示应用至 DMD 显示的扇形遮罩技术的例子。在针对后续 迭代使用扇形遮罩技术时, 可指定一个或多个 DMD 显示的一个或多个部分发生于某一扇形 202 内。另外, 可指定一个或多个不同 DMD 显示的一个或多个部分发生于以下一者或两者 内 : 透镜设计的一个或多个扇形、 以及透镜。
47、设计的所有剩余部分。 0108 现在参见图 2c, 图 2c 例示应用至 DMD 显示的区段遮罩技术的例子。在针对后续 迭代使用区段遮罩技术时, 可指定一个或多个 DMD 显示的一个或多个部分发生于某一区段 203, 204内。 另外, 可指定一个或多个不同DMD显示的一个或多个部分发生于以下一者或两 者内 : 透镜设计的一个或多个区段、 以及透镜设计的所有剩余部分。 0109 现在参见图 2d, 图 2d 例示应用至 DMD 显示的区域遮罩技术的例子。在针对后续 迭代使用区域遮罩技术时, 可指定一个或多个 DMD 显示的一个或多个部分发生于某一区域 205 内。另外, 可指定一个或多个不同 。
48、DMD 显示的一个或多个部分发生于以下一者或两者 内 : 透镜设计的一个或多个区域、 以及透镜设计的所有剩余部分。 0110 在使用遮罩技术时可指定一个或多个融合区206。 例如, 在实施遮罩技术时可施用 一个或多个融合区206, 并且取自一个DMD显示或两个或更多个DMD显示的两个或更多个部 分 207, 208 在后续 DMD 显示中结合在一起时并不相互连接, 如图 2e 所示。融合区 206 存在 于透镜的一部分 207 与透镜的邻接部分 208 之间。在每个融合区中, 透镜的部分 207 的性 质与透镜的邻接部分 208 的性质融合。 0111 在本发明的另外一些方面, 可在收敛工艺期。
49、间通过一侧收敛模态和两侧收敛模态 中的一者或两者实施不同的收敛模态。在一些实施例中, 在执行前一 DMD 显示的迭代时可 使用两侧收敛模态, 以在后续 DMD 显示中向透镜设计收敛。例如, 前一显示可形成透镜的某 些部分, 所述部分可厚于透镜设计和 / 或薄于透镜设计。在执行两侧收敛模态时, 可通过以 下方式发生后续 DMD 显示的迭代 : 调整产生透镜的指令的一个或多个参数, 所述透镜具有 透镜设计中期望的一个或多个较厚的区域以及一个或多个较薄的区域。 可针对后续显示在 前一显示的每个像素处进行调整。 0112 也可实施一侧收敛模态, 以在后续DMD显示中向透镜设计收敛。 在执行前一DMD显 示的迭代时, 可利用加厚棘轮指令和减薄棘轮指令中的一者或两者执行一侧收敛模态。例 如, 前一 DMD 显示可形成透镜的某些区域, 所。