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1、(10)申请公布号 CN 103376652 A (43)申请公布日 2013.10.30 CN 103376652 A *CN103376652A* (21)申请号 201310150204.9 (22)申请日 2013.04.26 2012-103091 2012.04.27 JP G03F 7/004(2006.01) G03F 7/075(2006.01) G03F 7/027(2006.01) G03F 7/00(2006.01) B41N 1/22(2006.01) B41C 1/05(2006.01) (71)申请人 富士胶片株式会社 地址 日本国东京都 (72)发明人 菅崎敦司。
2、 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任 公司 11021 代理人 龚敏 (54) 发明名称 激光雕刻用树脂组合物、 柔性印刷版原版及 其制造方法、 以及柔性印刷版及其制版方法 (57) 摘要 本发明的激光雕刻用树脂组合物的特征在 于, 其含有 ( 成分 A) 具有由逐步聚合而得的下 述式 I V 中任一式所示的结构的大分子引发 剂、 和 ( 成分 B) 聚合性化合物。式 I 中, PS表 示聚硅氧烷骨架, 式 II V 中, PS表示由逐步 聚合而得的主链骨架, 式 I V 中, R1 R 4分别 独立地表示氢原子、 卤素原子或一价有机基团。 (30)优先权数据 (51)Int.Cl。
3、. 权利要求书 2 页 说明书 35 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书2页 说明书35页 (10)申请公布号 CN 103376652 A CN 103376652 A *CN103376652A* 1/2 页 2 1. 一种激光雕刻用树脂组合物, 其含有 : 成分 A : 具有由逐步聚合而得的下述式 I V 中任一式所示的结构的大分子引发剂、 和 成分 B : 聚合性化合物, 式 I 中, Ps 表示聚硅氧烷骨架, 式 II V 中, Ps 表示由逐步聚合而得的主链骨架, 式 I V 中, R1 R4分别独立地表示氢原子、 卤素原子或一价有机基团。 。
4、2. 根据权利要求 1 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分 A 具有式 IV 或式 V 所示 的结构。 3.根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 所述激光雕刻用树脂组合 物还含有成分 C, 所述成分 C 为不具有聚合引发能力的粘合剂。 4.根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分B至少包含烯键式不 饱和化合物。 5. 根据权利要求 1 或 2 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分 B 为选自 ( 甲基 ) 丙 烯酸酯类、 苯乙烯类及丙烯腈中的至少 1 种。 6. 根据权利要求 1 或 2 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 式 II V 中。
5、, 成分 A 的 Ps 为选自聚酯骨架、 聚氨酯骨架、 聚氨酯脲骨架、 聚酰胺骨架、 聚亚烷基二醇骨架及聚硅氧 烷骨架中的至少 1 种的骨架。 7. 根据权利要求 1 或 2 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分 B 包含 ( 甲基 ) 丙烯 酸酯化合物, 以及具有水解性甲硅烷基及硅烷醇基中的至少 1 种基团的化合物。 8.根据权利要求1或2所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 所述激光雕刻用树脂组合 物还含有成分 D, 所述成分 D 为光热转换剂。 9. 根据权利要求 8 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分 D 为炭黑。 10. 根据权利要求 3 所述的激光雕刻用树脂组合物, 。
6、其中, 成分 C 为选自氨基甲酸酯 ( 甲基 ) 丙烯酸酯、 聚乙烯醇缩丁醛及苯乙烯丁二烯橡胶中的化合物。 权 利 要 求 书 CN 103376652 A 2 2/2 页 3 11.根据权利要求3所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分C为氨基甲酸酯(甲基) 丙烯酸酯。 12.一种激光雕刻用柔性印刷版原版, 其具有包含权利要求1或2所述的激光雕刻用树 脂组合物的凸版形成层。 13.一种激光雕刻用柔性印刷版原版, 其具有利用光和/或热使包含权利要求1或2所 述的激光雕刻用树脂组合物的凸版形成层交联而成的交联凸版形成层。 14. 一种激光雕刻用柔性印刷版原版的制造方法, 其包括 : 层形成工序。
7、 : 形成包含权利要求 1 或 2 所述的激光雕刻用树脂组合物的凸版形成层 ; 和 交联工序 : 利用光和 / 或热使所述凸版形成层交联而得到具有交联凸版形成层的柔性 印刷版原版。 15. 根据权利要求 14 所述的激光雕刻用柔性印刷版原版的制造方法, 其中, 所述交联 工序为利用热使所述凸版形成层交联而得到具有交联凸版形成层的柔性印刷版原版的工 序。 16. 一种柔性印刷版的制版方法, 其包括对具有交联凸版形成层的激光雕刻用柔性印 刷版原版进行激光雕刻而形成凸版层的雕刻工序, 所述交联凸版形成层是利用光和 / 或热使包含权利要求 1 或 2 所述的激光雕刻用树脂 组合物的凸版形成层交联而成的。
8、。 17. 一种柔性印刷版, 其是利用权利要求 16 所述的柔性印刷版的制版方法制版而得的 具有凸版层的柔性印刷版。 权 利 要 求 书 CN 103376652 A 3 1/35 页 4 激光雕刻用树脂组合物、 柔性印刷版原版及其制造方法、 以 及柔性印刷版及其制版方法 技术领域 0001 本发明涉及激光雕刻用树脂组合物、 激光雕刻用柔性印刷版原版及其制造方法、 以及柔性印刷版及其制版方法。 背景技术 0002 目前, 利用激光直接雕刻凸版形成层而制版的、 所谓 “直接雕刻 CTP 方式” 被广泛 提案。 该方式中, 对柔性原版直接照射激光, 利用光热转换使凸版形成层产生热分解及挥发 性, 。
9、形成凹部。直接雕刻 CTP 方式与使用原画膜的凸版形成不同, 其可以自由地控制凸版形 状。因此, 在形成如镂空文字那样的图像的情况下, 可以将该区域雕刻得比其他区域更深、 或者在微细网点图像中考虑到对印压的阻力而进行带肩 (shoulder) 的雕刻。在该方式中 使用的激光通常使用高输出功率的二氧化碳激光。在二氧化碳激光的情况下, 所有的有机 化合物均能够吸收照射能量而转换为热。 另一方面, 正在开发廉价且小型的半导体激光, 但 这些激光是可见光和近红外光, 因此, 需要吸收上述激光而转换成热。 0003 作为现有的大分子引发剂, 已知有例如专利文献1及2中记载的大分子引发剂。 此 外, 已知。
10、专利文献 3 中记载有使用大分子引发剂的激光雕刻用树脂组合物。 0004 现有技术文献 0005 专利文献 0006 专利文献 1 : 日本特公昭 51-35514 号公报 0007 专利文献 2 : 日本特开 2005-179640 号公报 0008 专利文献 3 : 日本特开 2012-45801 号公报 发明内容 0009 发明要解决的技术问题 0010 但是, 本发明人发现 : 以往的激光雕刻用树脂组合物具有难以得到对水性墨液及 溶剂墨液这两者具有良好耐久性的柔性印刷版的问题。 0011 本发明所要解决的技术问题在于, 提供能够得到对水性墨液及溶剂墨液这两者具 有良好耐久性的柔性印刷版。
11、的激光雕刻用树脂组合物、 使用了上述激光雕刻用树脂组合物 的柔性印刷版原版及其制造方法、 使用该柔性印刷版原版的柔性印刷版的制版方法、 以及 由该制版方法得到的柔性印刷版。 0012 本发明所要解决的技术问题之一在于, 提供能够得到雕刻灵敏度高且雕刻渣滓的 冲洗性良好的柔性印刷版原版的激光雕刻用树脂组合物、 使用了上述激光雕刻用树脂组合 物的柔性印刷版原版及其制造方法、 使用该柔性印刷版原版的柔性印刷版的制版方法、 以 及由该制版方法得到的柔性印刷版。 0013 用于解决技术问题的手段 0014 本发明的上述技术问题可以利用以下的 、 、 及 中记载的 说 明 书 CN 103376652 A。
12、 4 2/35 页 5 手段来解决。与作为优选的实施方式的 及 一同记载如下。 0015 一种激光雕刻用树脂组合物, 其特征在于, 其含有 : ( 成分 A) 具有由逐步聚合 而得的下述式 I V 中任一式所示的结构的大分子引发剂、 和 ( 成分 B) 聚合性化合物。 0016 【化 1】 0017 0018 ( 式 I 中, PS表示聚硅氧烷骨架, 式 II V 中, PS表示由逐步聚合而得的主链骨 架, 式 I V 中, R1 R4分别独立地表示氢原子、 卤素原子或一价有机基团。) 0019 根据所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分A具有以式IV或式V来表 示的结构。 0020 根据。
13、 或 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其还含有 ( 成分 C) 不具有聚 合引发能力的粘合剂。 0021 根据 中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分 B 为选自 ( 甲基 ) 丙烯酸酯类、 苯乙烯类及丙烯腈中的至少 1 种。 0022 根据 中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 式 II V 中, 成分 A 的 PS为选自聚酯骨架、 聚氨酯骨架、 聚氨酯脲骨架、 聚酰胺骨架、 聚亚烷基二醇骨架 及聚硅氧烷骨架中的至少 1 种。 0023 根据中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分B包含(甲 基 ) 丙烯酸酯化合物, 以及具有水解性甲硅烷基及硅烷醇基中的至少 1 。
14、种基团的化合物。 0024 根据 中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物, 其还含有 ( 成分 D) 光热转换剂。 0025 根据 所述的激光雕刻用树脂组合物, 其中, 成分 D 为炭黑。 0026 一种激光雕刻用柔性印刷版原版, 其具有包含中任一项所述的激光 雕刻用树脂组合物的凸版形成层。 0027 一种激光雕刻用柔性印刷版原版, 其具有利用光和 / 或热使包含 中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物的凸版形成层交联而成的交联凸版形成层。 0028 一种激光雕刻用柔性印刷版原版的制造方法, 其包括 : 说 明 书 CN 103376652 A 5 3/35 页 6 0029 层形成工序, 形成包含 。
15、中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物的凸版 形成层 ; 和 0030 交联工序, 利用光和 / 或热使上述凸版形成层交联而得到具有交联凸版形成层的 柔性印刷版原版。 0031 根据 所述的激光雕刻用柔性印刷版原版的制造方法, 其中, 上述交联工 序为利用热使上述凸版形成层交联而得到具有交联凸版形成层的柔性印刷版原版的工序。 0032 一种柔性印刷版的制版方法, 其包括对具有交联凸版形成层的激光雕刻用柔 性印刷版原版进行激光雕刻而形成凸版层的雕刻工序, 上述交联凸版形成层是利用光和 / 或热使包含中任一项所述的激光雕刻用树脂组合物的凸版形成层交联而成的。 0033 一种柔性印刷版, 其是利用 所述。
16、的柔性印刷版的制版方法制版而得的 具有凸版层的柔性印刷版。 0034 发明效果 0035 根据本发明, 可提供能够得到对水性墨液及溶剂墨液这两者具有良好耐久性的柔 性印刷版的激光雕刻用树脂组合物、 使用了上述激光雕刻用树脂组合物的柔性印刷版原版 及其制造方法、 使用了该柔性印刷版原版的柔性印刷版的制版方法、 以及由该制版方法得 到的柔性印刷版。 0036 根据本发明, 还可提供能够得到雕刻渣滓的冲洗性良好且雕刻灵敏度优异的柔性 印刷版的激光雕刻用树脂组合物、 使用了上述激光雕刻用树脂组合物的柔性印刷版原版及 其制造方法、 使用了该柔性印刷版原版的柔性印刷版的制版方法、 以及由该制版方法得到 的。
17、柔性印刷版。 具体实施方式 0037 以下, 对本发明进行详细说明。 0038 予以说明, 本发明中, 表示数值范围的 “下限上限” 的记载表示 “下限以上且上限 以下” ,“上限下限” 的记载表示 “上限以下且下限以上” 。即, 表示包含上限及下限在内的 数值范围。此外, 也将 “( 成分 A) 具有由逐步聚合而得的下述式 I V 中任一式所示的结 构的大分子引发剂” 等简称为 “成分 A” 。 0039 ( 激光雕刻用树脂组合物 ) 0040 本发明的激光雕刻用树脂组合物 ( 以下, 也简称为 “树脂组合物” 。) 的特征在于, 其含有 ( 成分 A) 具有由逐步聚合而得的下述式 I IV。
18、 中任一式所示的结构的大分子引发 剂、 和 ( 成分 B) 聚合性化合物。 0041 【化 2】 0042 说 明 书 CN 103376652 A 6 4/35 页 7 0043 ( 式 I 中, PS表示聚硅氧烷骨架, 式 I V 中, PS表示由逐步聚合而得的主链骨架, 式 I V 中, R1 R4分别独立地表示氢原子、 卤素原子或一价有机基团。) 0044 以下, 对本发明的激光雕刻用树脂组合物中含有的成分进行说明。 0045 (成分A)具有由逐步聚合而得的特定结构的大分子引发剂成分A为特定的大分子 引发剂。在此,“大分子” 是指数均分子量为 1000 以上。在此, 数均分子量的测定采。
19、用的是 利用 GPC 测定得到的聚苯乙烯换算的数值。此外, 有关成分 A 的数均分子量, 从耐印刷性的 观点出发, 优选使数均分子量为 5000 以上。此外, 该引发剂优选具有烯键式不饱和化合物 的自由基聚合引发性。 0046 成分 A 具有热引发自由基聚合的结构 ( 引发剂残基 ) 及连接该引发剂残基的结构 ( 连接部 ), 该连接部 PS由逐步聚合而得到。 0047 在此,“逐步聚合” 是指通过如以缩聚反应及加聚反应为代表的、 反应产物成为下 一阶段的反应试剂、 在反应性官能基之间连续发生一系列基元反应、 即所谓逐步反应的重 复而进行的聚合。在该点上, 与聚合引发剂的活性结构引发单体的链式。
20、加成反应的链式聚 合不同。 0048 此外, 逐步聚合及链式聚合例如记载于高分子学会编 基础高分子科学 第 2 次印 刷、 2006 年、 东京化学同人 ( 株 ) 发行。 0049 由逐步聚合而得的主链骨架优选为由加聚或缩聚而得的骨架, 更优选为由加聚而 得的骨架。 0050 此外, 由逐步聚合而得的主链骨架可以在其末端具有与其他结构键合的连接基 团。上述连接基团也可不由逐步聚合或链式聚合来形成。 0051 成分 A 是具有以上述的式 I V 中的任一个式子来表示的结构的大分子引发剂。 PS优选为2价的连接部。 予以说明, 大分子引发剂优选具有以式IV中任一个式子来表示 的部分结构作为构成单。
21、元且其重复数 n 优选为 2 100 的整数。式 I V 的分子末端 ( 未 图示 ) 优选为氢原子、 低级 ( 碳数 1 5) 的烷基或羟基等通常的 1 价基团。 0052 作为成分 A 中的由逐步聚合而得的主链骨架, 在式 II V 中, 优选为选自聚酯骨 架、 聚氨酯骨架、 聚氨酯脲骨架、 聚酰胺骨架、 聚亚烷基二醇骨架及聚硅氧烷骨架中的骨架, 说 明 书 CN 103376652 A 7 5/35 页 8 更优选为选自聚酯骨架、 聚氨酯骨架、 聚亚烷基二醇骨架及聚硅氧烷骨架中的骨架。 0053 此外, 成分 A 中的由逐步聚合而得的主链骨架可以单独具有 1 种, 也可以具有 2 种 以。
22、上。 0054 式 I 中, 作为能够在形成成分 A 的 PS的聚硅氧烷骨架的形成中使用的单体, 可例 示出硅烷化合物及硅烷醇化合物。 0055 式 II V 中, 作为能够在形成成分 A 的 PS的逐步聚合中使用的单体, 没有特别 的限制, 可以使用公知的逐步聚合性单体。 0056 作为逐步聚合性单体, 可例示出多元羧酸化合物、 多元酰卤化合物、 多元醇化合 物、 多胺化合物、 多异氰酸酯化合物、 硅烷化合物、 硅烷醇化合物、 酸酐化合物、 羟基羧酸化 合物等。此外, 作为逐步聚合性单体, 优选为 2 官能单体。 0057 此外, 作为逐步聚合性单体, 具体而言, 可例示出以下所示的化合物,。
23、 但本发明并 不受这些化合物的限定。 0058 作为多元羧酸化合物及多元酰卤化合物, 可举出例如马来酸、 马来酸酐、 富马酸、 衣康酸、 邻苯二甲酸、 间苯二甲酸、 邻苯二甲酸酐、 对苯二甲酸、 2, 6- 萘二羧酸、 2, 7- 萘二羧 酸、 2, 3- 萘二羧酸、 2, 3- 萘二羧酸酐、 4, 4 - 联苯基二羧酸、 四氢邻苯二甲酸酐、 四氢邻苯二 甲酸、 六氢邻苯二甲酸、 六氢邻苯二甲酸酐、 六氢对苯二甲酸、 六氢间苯二甲酸、 琥珀酸、 己 二酸、 癸二酸、 草酸、 丙二酸、 戊二酸、 辛二酸、 5- 磺酸基间苯二甲酸钠、 及将这些多元羧酸化 合物的羧基变为酰卤基而得的化合物等。 00。
24、59 作为多胺化合物, 可举出己二胺、 乙二胺、 二亚乙基三胺、 三亚乙基四胺、 四亚乙基 五胺、 间苯二甲胺、 对苯二甲胺等脂肪族多胺类 ; 1, 3- 二氨基环己烷、 异佛尔酮二胺等脂环 式多胺类 ; 1, 4- 苯二胺、 2, 3- 二氨基萘、 2, 6- 二氨基蒽醌、 2, 2- 双 (4- 氨基苯基 ) 六氟丙 烷、 4, 4 - 二氨基二苯甲酮、 4, 4 - 二氨基二苯基甲烷等聚苯胺类 ; 由多胺类与醛化合物及 一元酚或多元酚类的缩聚物构成的曼尼希碱 (Mannich base)、 利用多胺类与多元羧酸或二 聚酸的反应而得的聚酰胺多胺类 ; N, N - 二甲基乙二胺、 N, N。
25、 - 二乙基乙二胺、 N, N - 二苄 基乙二胺、 N, N - 二异丙基乙二胺、 2, 5- 二甲基哌嗪、 N, N - 二甲基环己烷 -1, 2- 二胺、 哌 嗪、 高哌嗪、 2- 甲基哌嗪、 N, N- 双 (3- 氨基苯基 ) 间苯二甲酰胺等。 0060 作为多元醇化合物, 可举出例如乙二醇、 二乙二醇、 丙二醇、 二丙二醇、 三亚甲基二 醇、 1, 4- 四亚甲基二醇、 1, 3- 四亚甲基二醇、 2- 甲基 -1, 3- 三亚甲基二醇、 1, 5- 五亚甲基二 醇、 新戊二醇、 1, 6- 六亚甲基二醇、 1, 7- 庚二醇、 1, 8- 辛二醇、 1, 9- 壬二醇、 1, 1。
26、0- 癸二醇、 3- 甲基 -1, 5- 五亚甲基二醇、 2, 4- 二乙基 -1, 5- 五亚甲基二醇、 甘油、 三羟甲基丙烷、 三羟 甲基乙烷、 对苯二酚、 环己二醇类 (1, 4- 环己二醇等 ) ; 双酚类 ( 双酚 A、 4, 4- 二苯酚等 )、 糖醇类 ( 木糖醇、 山梨糖醇等 ) ; 聚乙二醇、 聚丙二醇、 聚四亚甲基二醇等聚亚烷基二醇类 ; 苯酚酚醛清漆树脂、 甲酚酚醛清漆树脂、 萘酚酚醛清漆树脂等酚醛清漆型树脂 ; 三苯酚甲烷 型树脂等多官能型酚醛树脂 ; 二环戊二烯改性酚醛树脂、 萜烯改性酚醛树脂等改性酚醛树 脂 ; 具有亚苯基骨架的苯酚芳烷基树脂、 具有亚联苯基骨架的苯。
27、酚芳烷基树脂、 具有亚苯基 骨架的萘酚芳烷基树脂、 具有亚联苯基骨架的萘酚芳烷基树脂等芳烷基型树脂 ; 双酚 A、 双 酚 F 等双酚化合物 ; 双酚 S 等含硫原子型酚醛树脂等。 0061 作为多异氰酸酯化合物, 可举出例如间亚苯基二异氰酸酯、 对亚苯基二异氰酸酯、 2, 6- 甲苯二异氰酸酯、 2, 4- 甲苯二异氰酸酯、 萘 -1, 4- 二异氰酸酯、 二苯基甲烷 -4, 4 - 二 说 明 书 CN 103376652 A 8 6/35 页 9 异氰酸酯、 3, 3 - 二甲氧基联苯基二异氰酸酯、 3, 3 - 二甲基二苯基甲烷 -4, 4 - 二异氰酸 酯、 1, 4- 二甲苯二异氰。
28、酸酯、 1, 3- 二甲苯二异氰酸酯、 4- 氯亚二甲苯基 -1, 3- 二异氰酸酯、 2- 甲基亚二甲苯基 -1, 3- 二异氰酸酯、 1, 4- 氢化二甲苯二异氰酸酯、 1, 3- 氢化二甲苯二异 氰酸酯、 4, 4 - 二苯基丙烷二异氰酸酯、 4, 4 - 二苯基六氟丙烷二异氰酸酯、 三亚甲基二异 氰酸酯、 六亚甲基二异氰酸酯、 1, 2- 亚丙基二异氰酸酯、 1, 2- 亚丁基二异氰酸酯、 1, 2- 亚环 己基二异氰酸酯、 1, 3- 亚环己基二异氰酸酯、 1, 4- 亚环己基二异氰酸酯、 二环己基甲烷 -4, 4 - 二异氰酸酯、 1, 4- 双 ( 异氰酸根合甲基 ) 环己烷、 。
29、1, 3- 双 ( 异氰酸根合甲基 ) 环己烷、 异佛尔酮二异氰酸酯、 降冰片烷二异氰酸甲酯、 及赖氨酸二异氰酸酯等。 0062 作为硅烷化合物, 可举出例如甲基三甲氧基硅烷、 甲基三乙氧基硅烷、 苯基三甲氧 基硅烷、 苯基三乙氧基硅烷、 二甲基二甲氧基硅烷、 二甲基二乙氧基硅烷、 二苯基二甲氧基 硅烷、 二苯基二乙氧基硅烷、 四甲氧基硅烷、 四乙氧基硅烷等。 作为硅烷醇化合物, 可例示出 上述的硅烷化合物的部分水解物。 0063 作为酸酐化合物, 可举出例如琥珀酸酐、 马来酸酐、 邻苯二甲酸酐、 六氢邻苯二甲 酸酐、 甲基六氢邻苯二甲酸酐、 纳迪克酸酐、 氢化纳迪克酸酐、 偏苯三酸酐、 均苯。
30、四酸酐等。 0064 作为羟基羧酸化合物, 可举出例如羟基辛酸、 羟基壬酸、 羟基癸酸、 羟基十一烷 酸、 羟基十二烷酸、 羟基十四烷酸、 羟基十三烷酸、 羟基十六烷酸、 羟基十五烷酸、 羟基硬脂 酸等。 0065 以下, 依次对式 I V 所示的特定大分子引发剂进行说明。 0066 作为具有由上述逐步聚合而得的主链骨架的大分子引发剂, 从合成收率、 溶剂墨 液耐性的观点出发, 使用具有以下述式 I V 来表示的构成单元的大分子引发剂。其中, 可 优选举出具有以下述式III、 式IV或式V来表示的构成单元的大分子引发剂, 从墨液着壁性 (“着壁性” 的日语原文为 “着肉性” ) 及耐印刷性的观。
31、点出发, 可更优选举出具有以下述的 式 IV 或式 V 来表示的构成单元的化合物。如上所述, 式 I V 的分子末端 ( 未图示 ) 优选 为氢原子、 低级 ( 碳数 1 5) 的烷基、 或羟基。 0067 【化 3】 0068 说 明 书 CN 103376652 A 9 7/35 页 10 0069 ( 式 I 中, PS表示聚硅氧烷骨架, 式 II V 中, PS表示由逐步聚合而得的主链骨 架, 式 I V 中, PS表示由逐步聚合而得的主链骨架, R1 R4分别独立地表示氢原子、 卤素 原子或一价有机基团。) 0070 式 I 中, PS表示聚硅氧烷骨架, 式 II V 中, PS中的。
32、由逐步聚合而得的主链骨架 与上述的由逐步聚合而得的主链骨架同义, 优选的形态也同样。 0071 作为 R1 R4中的一价有机基团, 可举出烷基、 芳基、 杂环基、 杂芳香族基、 烷氧基、 芳氧基、 烷硫基、 芳硫基、 氨基、 羟基、 氰基、 烷氧基 羰基、 芳氧基羰基、 羧基、 酰基或酰胺基。 此外, 一价有机基团还可以被取代基取代。作为取代基, 可例示出卤素原子、 及上述一价有 机基团中所举出的基团。 0072 此外, R1 R4可以是其中的 2 个以上彼此键合, 此外, 也可以是 R1 R4中的任一 个或 2 个以上与其他结构键合。 0073 此外, R1 R4中的一价有机基团的碳数优选为。
33、 1 60, 更优选为 1 30, 进一步 优选为 1 20。其中, 芳基的下限碳数为 6。 0074 作为具有以式 I 来表示的构成单元的化合物的具体例, 可优选例示出具有以下述 式 I-1 来表示的构成单元的化合物, 可更优选例示出具有以下述式 I-1 来表示的构成重复 单元的化合物。 0075 【化 4】 0076 0077 ( 式中, R1及 R2分别独立地表示低级 ( 碳数 1 6) 烷基或氰基, Rs1和 Rs2分别独 立地表示低级 ( 碳数 1 10) 烷基或芳基, X1 X4分别独立地表示低级 ( 碳数 1 10) 亚 烷基, p2 表示正整数。) 0078 作为以上述式 I-。
34、1 中的 R1、 R2、 Rs1及 Rs2来表示的低级烷基, 可以是直链状或支链 状, 可举出例如碳数16的烷基。 具体而言, 可举出甲基、 乙基、 正丙基、 异丙基、 正丁基、 异 丁基、 叔丁基、 仲丁基、 正戊基、 异戊基、 叔戊基、 新戊基、 正己基、 异己基、 1- 甲基戊基、 2- 甲 基戊基等。 0079 作为以上述式 I-1 中的 Rs1及 Rs2来表示的芳基, 可举出例如苯基、 邻甲苯基、 间甲 苯基、 对甲苯基、 2, 3-二甲苯基、 2, 4-二甲苯基、 2, 5-二甲苯基、 2, 6-二甲苯基、 3, 5-二甲苯 基、 萘基等。 0080 作为以上述式 I-1 中的 X。
35、1 X4来表示的低级亚烷基, 可以是直链状、 支链状或环 状, 可举出例如碳数 1 10 的亚烷基, 具体而言, 可举出亚甲基、 亚乙基、 亚丙基、 亚丁基、 2- 甲基亚丙基、 亚戊基、 2, 2- 二甲基亚丙基、 2- 乙基亚丙基、 亚己基、 亚庚基、 亚辛基、 2- 乙 基亚己基、 亚壬基、 亚癸基、 亚环丙基、 亚环戊基、 亚环己基等。其中, X1 X4优 选碳数 1 6 的亚烷基。 0081 上述式 I-1 中的 p2 优选为 1 200 的整数, 更优选为 1 100 的整数。 0082 此外, 特别优选在上述式 I-1 及式 I-2 中 R1为甲基且 R2为氰基。 说 明 书 C。
36、N 103376652 A 10 8/35 页 11 0083 以式I或式I-1来表示的化合物可以使用市售品, 市售有来自和光纯药工业(株) 的大分子偶氮聚合引发剂VSP系列, 具体而言, 可例示出VPS-1001(具有聚二甲基硅氧烷单 元, 个体单元的分子量为约 10000。)。 0084 在与 PS具有聚烯化氧基的偶氮系大分子引发剂比较时, 式 I-1 所示的化合物能够 形成墨液溶胀得到抑制的凸版层。这是由于, 式 I-1 中, PS为疏水性高的聚硅氧烷, 向成分 B 的加聚物中导入疏水性嵌段。 0085 作为具有以上述式II来表示的构成单元的化合物, 优选为利用来自具有2个羟基 的二硫化。
37、物的结构而形成有二硫化物结构的化合物, 更优选具有 2 个羟基的二硫化物、 上 述二硫化物以外的二醇化合物与二异氰酸酯化合物缩聚而得的聚氨酯树脂 ; 或者具有 2 个 羟基的二硫化物与上述二硫化物以外的二醇化合物, 以及二羧酸化合物、 二酰卤化合物和 / 或酸酐化合物缩聚而得的聚酯树脂。 0086 上述式 II 中的 PS优选为聚酯骨架、 聚氨酯骨架或聚硅氧烷骨架。 0087 作为上述具有 2 个羟基的二硫化物, 可优选例示出以下化合物。 0088 【化 5】 0089 0090 作为具有以上述式 III 来表示的构成单元的化合物, 优选利用来自具有 2 个氨基 和下述式II-1所示的结构的化。
38、合物的结构而形成有下述式III-1所示的结构的化合物, 更 优选为具有2个氨基和下述式III-1所示的结构的化合物与上述化合物以外的二氨基化合 物, 以及二羧酸化合物、 二酰卤化合物和 / 或酸酐化合物缩聚而得的聚酰胺树脂。 0091 上述式 III 中的 PS优选为聚酯骨架、 聚氨酯骨架或聚硅氧烷骨架。 0092 作为上述具有 2 个氨基和下述式 III-1 所示的结构的化合物, 可优选例示出以式 III-2 来表示的化合物。 0093 【化 6】 0094 说 明 书 CN 103376652 A 11 9/35 页 12 0095 ( 式中, Rs3和 Rs4分别独立地表示氢原子、 烷基。
39、、 芳基、 卤烷基、 氰基烷基或烷氧基 烷基, 波浪线部分表示与其他的结构的结合位置。) 0096 作为具有以上述式 IV 来表示的构成单元的化合物, 从合成收率的观点出发, 优选 为具有以下述式 IV-1 或式 IV-2 来表示的构成单元的化合物, 更优选为具有以 PS为聚酯骨 架、 聚氨酯骨架或聚硅氧烷骨架的下述式IV-1或式IV-2来表示的构成单元的化合物, 从耐 印刷性的观点出发, 进一步优选为具有以 PS为聚氨酯骨架或聚硅氧烷骨架的下述式 IV-1 或式 IV-2 来表示的构成单元的化合物。 0097 【化 7】 0098 0099 ( 式中, PS表示由逐步聚合而得的主链骨架。) 。
40、0100 作为具有以上述式 V 来表示的构成单元的化合物, 优选为具有以下述式 V-1 或式 V-2 来表示的构成单元的化合物, 更优选为具有以下述式 V-1 来表示的构成单元的化合物。 此外, 具有以上述式 IV 来表示的构成单元的化合物优选为具有以下述式 V-1 或式 V-2 来表 示的构成重复单元的化合物。 0101 此外, 下述式 V-1 中的 PS优选为聚氨酯骨架、 聚酯骨架或聚硅氧烷骨架, 更优选为 聚氨酯骨架。 此外, 下述式V-2中的PS优选为聚氨酯脲骨架、 聚酰胺骨架或聚硅氧烷骨架。 0102 【化 8】 0103 说 明 书 CN 103376652 A 12 10/35 。
41、页 13 0104 ( 式中, PS表示由逐步聚合而得的主链骨架。) 0105 激光雕刻用树脂组合物中含有的成分A的含量相对于固体成分总量优选为350 质量, 更优选为 5 40 质量, 进一步优选为 10 35 质量, 特别优选为 15 25 质 量。在上述范围时, 包含激光雕刻用树脂组合物的凸版形成层的耐印刷性优异。 0106 ( 成分 B) 聚合性化合物 0107 本发明的激光雕刻用树脂组合物含有 ( 成分 B) 聚合性化合物。 0108 予以说明, 本发明中的 “聚合” 不仅包括狭义的链式的加成聚合, 而且还包括缩聚、 加聚。 0109 作为能够在本发明中使用的聚合性化合物, 只要能够。
42、聚合, 则没有特别的限制, 可 以使用公知的公知的聚合性化合物。 具体而言, 可优选例示出烯键式不饱和化合物、 硅烷化 合物、 多元羧酸化合物、 多元酰卤化合物、 多元醇化合物、 多胺化合物、 多异氰酸酯化合物、 酸酐化合物及羟基羧酸化合物。 0110 作为成分 B 中的硅烷化合物, 优选为后述的具有水解性甲硅烷基及硅烷醇基中的 至少 1 种基团的化合物。 0111 此外, 成分 B 中的烯键式不饱和化合物优选为分子内具有 2 个以上烯键式不饱和 基的多官能烯键式不饱和化合物。 0112 其中, 成分B优选为具有烯键式不饱和化合物、 和/或具有水解性甲硅烷基及硅烷 醇基中的至少 1 种基团的化。
43、合物, 更优选为烯键式不饱和化合物、 和具有水解性甲硅烷基 及硅烷醇基中的至少 1 种基团的化合物。在上述形态时, 能够得到对水性墨液及溶剂墨液 的溶胀抑制性及耐印刷性优 异的柔性印刷版。 0113 此外, 作为成分 B, 优选至少包含烯键式不饱和化合物。 0114 作为能够在成分 B 中使用的烯键式不饱和化合物、 硅烷化合物、 多元羧酸化合物、 多元酰卤化合物、 多元醇化合物、 多胺化合物、 多异氰酸酯化合物、 酸酐化合物、 及羟基羧酸 化合物, 包含成分 A 中的上述逐步聚合性单体。 0115 其中, 可优选举出以下所示的化合物作为烯键式不饱和化合物, 以及硅烷化合物。 0116 此外, 。
44、能够在本发明中使用的聚合性化合物的分子量 ( 或数均分子量 ) 优选小于 5000。 0117 烯键式不饱和化合物是指具有 1 个以上烯键式不饱和基的化合物。烯键式不饱和 化合物可以单独使用 1 种或并用 2 种以上。 0118 此外, 属于烯键式不饱和化合物的化合物群是本产业领域中广为人知的化合物 说 明 书 CN 103376652 A 13 11/35 页 14 群, 本发明中可以无特别限制地使用。该化合物群具有例如单体、 预聚物 ( 即二聚物、 三聚 物及低聚物 ) 或者它们的共聚物、 以及它们的混合物等化学形态。 0119 作为上述烯键式不饱和化合物, 可优选使用多官能烯键式不饱和化。
45、合物。这些多 官能烯键式不饱和化合物的分子量优选为 200 2000。 0120 作为多官能烯键式不饱和化合物, 优选具有2个20个末端烯键式不饱和基的化 合物。 0121 作为多官能烯键式不饱和化合物中的烯键式不饱和基所由来的化合物的例子, 可 举出不饱和羧酸 ( 例如丙烯酸、 甲基丙烯酸、 衣康酸、 巴豆酸、 异巴豆酸、 马来酸等 )、 其酯 类、 酰胺类, 优选使用不饱和羧酸与脂肪族多元醇化合物形成的酯、 不饱和羧酸与脂肪族多 元胺化合物形成的酰胺类。 此外, 也优选使用具有羟基、 氨基等亲核性取代基的不饱和羧酸 酯、 酰胺类与多官能异氰酸酯类、 环氧类的加成反应物 ; 具有羟基、 氨基。
46、等亲核性取代基的 不饱和羧酸酯、 酰胺类与多官能羧酸的脱水缩合反应物等。此外, 还优选为具有异氰酸基、 环氧基等亲电子性取代基的不饱和羧酸酯、 酰胺类与单官能或多官能的醇类、 胺类的加成 反应物 ; 具有卤素基、 甲苯磺酰氧基等脱离性取代基的不饱和羧酸酯、 酰胺类与单官能或多 官能的醇 类、 胺类的取代反应物。此外, 作为其他的例子, 还可使用替换为乙烯基化合物、 烯丙基化合物、 不饱和膦酸、 苯乙烯等的化合物群来代替上述不饱和羧酸。 0122 上述的多官能烯键式不饱和化合物中含有的烯键式不饱和基, 从反应性的观点出 发, 优选(甲基)丙烯酸酯、 乙烯基化合物、 烯丙基化合物的各残基, 特别优。
47、选丙烯酸酯及甲 基丙烯酸酯。此外, 从耐印刷性的观点出发, 更优选使多官能单体具有 3 个以上烯键式不饱 和基。 0123 就脂肪族多元醇化合物与不饱和羧酸形成的酯的单体的具体例而言, 作为丙烯酸 酯, 可举出乙二醇二丙烯酸酯、 三乙二醇二丙烯酸酯、 1, 3- 丁二醇二丙烯酸酯、 四亚甲基二 醇二丙烯酸酯、 丙二醇二丙烯酸酯、 新戊二醇二丙烯酸酯、 三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、 三羟 甲基丙烷三 ( 丙烯酰氧基丙基 ) 醚、 三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、 己二醇二丙烯酸酯、 1, 4- 环 己二醇二丙烯酸酯、 四乙二醇二丙烯酸酯、 季戊四醇二丙烯酸酯、 季戊四醇三丙烯酸酯、 季 戊四醇四丙烯酸酯、 。
48、二季戊四醇二丙烯酸酯、 二季戊四醇六丙烯酸酯、 山梨糖醇三丙烯酸 酯、 山梨糖醇四丙烯酸酯、 山梨糖醇五丙烯酸酯、 山梨糖醇六丙烯酸酯、 三 ( 丙烯酰氧基乙 基 ) 异氰脲酸酯、 聚酯丙烯酸酯低聚物等。 0124 作为甲基丙烯酸酯, 可举出四亚甲基二醇二甲基丙烯酸酯、 三乙二醇二甲基丙烯 酸酯、 新戊二醇二甲基丙烯酸酯、 三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、 三羟甲基乙烷三甲基丙烯 酸酯、 乙二醇二甲基丙烯酸酯、 1, 3- 丁二醇二甲基丙烯酸酯、 己二醇二甲基丙烯酸酯、 季戊 四醇二甲基丙烯酸酯、 季戊四醇三甲基丙烯酸酯、 季戊四醇四甲基丙烯酸酯、 二季戊四醇二 甲基丙烯酸酯、 二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、 山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、 山梨糖醇四甲基丙 烯酸酯、 双 对 (3- 甲基丙烯酰氧基 -2- 羟基丙氧基 ) 苯基 二甲基甲烷、 双 对 ( 甲基丙烯 酰氧基乙氧基 ) 苯基 二甲基甲烷等。其中, 特别优选三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯。 0125 作为其他的酯的例子, 优选使用例如日本特公昭 46-27926 号、 日本特公昭 51-47334号、 日本特开昭57-196231号各公。