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1、(10)申请公布号 CN 103091974 A (43)申请公布日 2013.05.08 CN 103091974 A *CN103091974A* (21)申请号 201310062258.X (22)申请日 2013.02.27 G03F 1/42(2012.01) (71)申请人 上海华力微电子有限公司 地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园 区高斯路 497 号 (72)发明人 郑刚 陈力钧 朱骏 张旭升 (74)专利代理机构 上海思微知识产权代理事务 所 ( 普通合伙 ) 31237 代理人 陆花 (54) 发明名称 一种光刻版结构 (57) 摘要 本发明提供了一种光刻版结。
2、构， 包括 ： 外框区 域以及图案区域 ； 其中， 所述外框区域布置在所 述图案区域外周从而包围所述图案区域 ； 其中， 所述图案区域用于布置集成电路图案 ； 并且， 所 述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨 片， 而且， 所述拨片能够在其所布置的所述外框区 域的边的延伸方向上滑动 ； 而且， 在每个拨片中 在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上 放置了多个对准标记图案。每个拨片的多个对准 标记图案中的至少一部分具有不同图案。本发明 通过采用光刻版对准标记的新型结构设计， 实现 在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机 所需要的对准标记图案， 从而解决不同厂家光刻 机在匹配时共用光。
3、刻版的标记冲突问题。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 3 页 附图 3 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书3页 附图3页 (10)申请公布号 CN 103091974 A CN 103091974 A *CN103091974A* 1/1 页 2 1. 一种光刻版结构， 其特征在于包括 ： 外框区域以及图案区域 ； 其中， 所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域 ； 其中， 所述图案区域用于布置集成电路图案 ； 并且， 所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片， 而且， 所述拨片能够在其 所布置的所述。
4、外框区域的边的延伸方向上滑动 ； 而且， 在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上放置了多个对准 标记图案。 2. 根据权利要求 1 所述的光刻版结构， 其特征在于， 每个拨片的多个对准标记图案中 的至少一部分具有不同图案。 3. 根据权利要求 1 所述的光刻版结构， 其特征在于， 每个拨片的多个对准标记图案各 不相同。 4.根据权利要求1至3之一所述的光刻版结构， 其特征在于， 所述外框区域中还放置了 条形码。 5.根据权利要求1至3之一所述的光刻版结构， 其特征在于， 所述外框区域的相对边上 的拨片对称布置。 权 利 要 求 书 CN 103091974 A 2 1/3 页 。
5、3 一种光刻版结构 技术领域 0001 本发明涉及半导体制造领域 ； 具体地说， 本发明涉及半导体光刻工艺 ； 更具体地 说， 本发明涉及一种光刻版结构。 背景技术 0002 半导体光刻工艺是大规模集成电路生产中的重要工艺步骤， 目前光学光刻依旧是 主流技术， 而光刻版像转移技术是半导体光刻工艺的核心技术之一。 0003 半导体领域有多家光刻机生产厂商， 品牌各异， 种类繁多， 在光刻版对准标记的设 计上， 也各不相同， 全行业没有统一的标准， 这就给晶圆厂在使用、 管理光刻版上带来了一 定的问题。 而晶圆厂针对不同的工艺要求， 会使用不同的光刻机种类， 光刻机的相互匹配必 需要求使用同一块标。
6、准版， 所以标准版上使用不同的对准标记是一大问题。 0004 图 1 示意性地示出了根据现有技术的光刻版结构。 0005 如图 1 所示， 光刻版结构包括外框区域 10 以及图案区域 20。外框区域用于放置 条形码 11 或者对准标记 12、 13、 14、 15 等一些辅助图形， 而图案区域 20 则为集成电路图案。 如上所述， 传统的光刻版由于光刻机生产厂家的不同， 在外框区域 10 放置不同的光刻版对 准标记， 对准标记的图形各异， 对准标记的位置冲突， 光刻机也就不能使用同一块光刻版。 发明内容 0006 本发明所要解决的技术问题是解决现有技术中存在的上述缺陷， 通过采用光刻版 对准标。
7、记的新型结构设计， 实现在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的 对准标记， 从而解决不同厂家光刻机在匹配时共用版的标记冲突问题。 0007 为了实现上述技术目的， 根据本发明， 提供了一种光刻版结构， 其包括 ： 外框区域 以及图案区域 ； 0008 其中， 所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域 ； 0009 其中， 所述图案区域用于布置集成电路图案 ； 0010 并且， 所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片， 而且， 所述拨片能够 在其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上滑动 ； 0011 而且， 在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上。
8、放置了多个 对准标记图案。 0012 优选地， 每个拨片的多个对准标记图案中的至少一部分具有不同图案。 0013 优选地， 每个拨片的多个对准标记图案各不相同。 0014 优选地， 所述外框区域中还放置了条形码。 0015 优选地， 所述外框区域的相对边上的拨片对称布置。 0016 由此， 本发明通过采用光刻版对准标记的新型结构设计， 实现在同一块光刻版上 同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记图案， 从而解决不同厂家光刻机在匹配时 共用光刻版的标记冲突问题。 说 明 书 CN 103091974 A 3 2/3 页 4 附图说明 0017 结合附图， 并通过参考下面的详细描述， 将会更容。
9、易地对本发明有更完整的理解 并且更容易地理解其伴随的优点和特征， 其中 ： 0018 图 1 示意性地示出了根据现有技术的光刻版结构。 0019 图 2 示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构。 0020 图 3 示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构所采用的滑移拨片的 具体结构。 0021 需要说明的是， 附图用于说明本发明， 而非限制本发明。注意， 表示结构的附图可 能并非按比例绘制。并且， 附图中， 相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。 具体实施方式 0022 为了使本发明的内容更加清楚和易懂， 下面结合具体实施例和附图对本发明的内 容进行详细描述。 0023 图 。
10、2 示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构。 0024 具体地说， 如图2所示， 根据本发明优选实施例的光刻版结构包括 ： 外框区域10以 及图案区域 20。 0025 其中， 所述外框区域 10 布置在所述图案区域 20 外周从而包围所述图案区域 20。 0026 其中， 所述图案区域 20 用于布置集成电路图案。 0027 所述外框区域 10 的四个边分别布置了一个或者多个拨片。而且， 所述拨片能够在 其所布置的所述外框区域 10 的边的延伸方向上滑动。其中， 拨片在各自外框区域边上滑动 的具体结构和方式可以采用现有技术中任意适当方式， 由此出于简洁和突出重点的目的， 在此不再赘述。
11、。 0028 例如， 如图2所示， 在所述外框区域10的四个边依次布置了两个第一拨片31、 一个 第二拨片 32、 两个第三拨片 34 和一个第四拨片 33。 0029 而且， 两个第一拨片 31 以及两个第三拨片 34 可以在图 2 所示的水平方向滑动， 第 二拨片 32 和第四拨片 33 可以在图 2 所示的竖直方向滑动。 0030 优选地， 所述外框区域 10 中还放置了条形码 11。 0031 图 3 示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构所采用的滑移拨片的 具体结构。 0032 更具体地说， 如图 3 所示， 在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域 10 的边的 延伸方向上放。
12、置了多个对准标记图案 41。 0033 并且， 每个拨片的多个对准标记图案 41 中的至少一部分具有不同图案。优选地， 每个拨片的多个对准标记图案 41 各不相同。 0034 优选地， 在具体实施例中， 所述外框区域 10 的相对边上的拨片对称布置， 即， 所述 外框区域 10 的相对边上的拨片的数量相同， 结构相同， 且在各自边的布置位置相对应。 0035 这样， 本发明上述实施例对光刻版外框区域进行结构重新设计， 在原标记位置处， 采用滑移拨片的方式， 增加一个拨片结构， 在拨片上形成不同种类光刻机所需求的对准标 记图案 ； 当这块光刻版需要在不同的光刻机上使用时， 将拨片移动， 切换到该。
13、光刻机所需求 说 明 书 CN 103091974 A 4 3/3 页 5 的标记， 从而解决同一块光刻版可以在不同类型的光刻机上使用， 实现光刻机匹配中的光 刻版互容。 0036 由此， 本发明上述优选实施例通过采用光刻版对准标记的新型结构设计， 实现在 同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记图案， 从而解决不同厂家 光刻机在匹配时共用光刻版的标记冲突问题。 0037 此外， 需要说明的是， 除非特别说明或者指出， 否则说明书中的术语 “第一” 、“第 二” 、“第三” 等描述仅仅用于区分说明书中的各个组件、 元素、 步骤等， 而不是用于表示各个 组件、 元素、 步骤之间的。
14、逻辑关系或者顺序关系等。 0038 可以理解的是， 虽然本发明已以较佳实施例披露如上， 然而上述实施例并非用以 限定本发明。 对于任何熟悉本领域的技术人员而言， 在不脱离本发明技术方案范围情况下， 都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰， 或修改为等 同变化的等效实施例。 因此， 凡是未脱离本发明技术方案的内容， 依据本发明的技术实质对 以上实施例所做的任何简单修改、 等同变化及修饰， 均仍属于本发明技术方案保护的范围 内。 说 明 书 CN 103091974 A 5 1/3 页 6 图 1 说 明 书 附 图 CN 103091974 A 6 2/3 页 7 图 2 说 明 书 附 图 CN 103091974 A 7 3/3 页 8 图 3 说 明 书 附 图 CN 103091974 A 8 。