窗结构及其制造方法、电子设备及其制造方法.pdf

本发明提供一种窗结构及其制造方法、电子设备及其制造方法。该窗结构包括窗、窗上的设计层结构、设计层结构上的遮光层，以及光吸收层。设计层结构包括暴露窗的一部分的第一孔。遮光层包括与第一孔流体连通的第二孔。光吸收层至少覆盖设计层结构的被第一孔和第二孔暴露的部分，并且包括暴露所述窗的一部分的第三孔。通过包括具有灰色或黑色的光吸收层来覆盖设计层结构的暴露的部分，防止由设计层结构引起的关于图像的晕影。

权利要求书
1.  一种窗结构，包括：
窗；
布置在所述窗上的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；
布置在所述设计层结构上的遮光层，所述遮光层包括第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通；以及
光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层包括第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分。

2.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述第二孔具有比所述第一孔的直径大的直径。

3.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述第一孔和所述第二孔具有相同的直径。

4.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述光吸收层至少覆盖所述遮光层的侧壁的被所述第二孔暴露的部分。

5.  根据权利要求4所述的窗结构，其中所述光吸收层覆盖所述遮光层的上表面的一部分。

6.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述光吸收层从所述遮光层的上表面中缺失。

7.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述设计层结构包括在所述窗上顺序堆叠的多个设计层。

8.  根据权利要求7所述的窗结构，其中所述第一孔具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。

9.  根据权利要求7所述的窗结构，其中所述第一孔沿与所述窗的上表面垂直的方向具有一致直径。

10.  根据权利要求9所述的窗结构，其中所述第一孔和所述第二孔具有相同的直径。

11.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述设计层结构具有彩色或白色，并且所述遮光层和所述光吸收层具有黑色或灰色。

12.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述设计层结构、所述遮光层和所述光吸收层中每个均是被印刷的层。

13.  根据权利要求1所述的窗结构，其中当从上侧观看所述第一孔、所述第二孔 和所述第三孔时，所述第一孔、所述第二孔和所述第三孔具有圆形边界，并且当从上侧观看所述光吸收层时，所述光吸收层具有圆形、椭圆形或多边形的边界。

14.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述第三孔具有与所述窗的上表面垂直的侧壁。

15.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述第三孔具有相对于所述窗的上表面倾斜的侧壁。

16.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述第三孔具有弧形侧壁。

17.  根据权利要求1所述的窗结构，进一步包括布置在所述窗上的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，并且其中所述设计层结构布置在所述聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上。

18.  根据权利要求1所述的窗结构，其中所述第三孔担当入射到面向所述遮光层的相机传感器上的光穿过的路径。

19.  一种制造窗结构的方法，包括：
在窗上形成设计层结构，所述设计层结构具有第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；
在所述设计层结构上形成遮光层，所述遮光层具有第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通；以及
形成光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层具有第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分。

20.  根据权利要求19所述的制造窗结构的方法，其中形成遮光层包括：形成所述遮光层，使得所述第二孔具有比所述第一孔的直径大的直径。

21.  根据权利要求19所述的制造窗结构的方法，其中形成光吸收层包括：形成所述光吸收层，以至少覆盖所述遮光层的侧壁的被所述第二孔暴露的部分。

22.  根据权利要求21所述的制造窗结构的方法，其中形成光吸收层包括：形成所述光吸收层，以覆盖所述遮光层的上表面的一部分。

23.  根据权利要求19所述的制造窗结构的方法，其中形成设计层结构包括：在所述窗上顺序地堆叠多个设计层。

24.  根据权利要求23所述的制造窗结构的方法，其中形成设计层结构包括：形成所述设计层结构，使得所述第一孔具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。

25.  根据权利要求19所述的制造窗结构的方法，其中形成设计成结构、形成遮光层和形成光吸收层每个均是使用网格通过丝网印刷工艺生产的。

26.  一种窗结构，包括：
窗；
布置在所述窗上的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；以及
布置在所述窗上的遮光层，所述遮光层覆盖所述设计层结构并且包括第二孔，所述第二孔暴露所述窗的一部分。

27.  根据权利要求26所述的窗结构，其中所述设计层结构包括在所述窗上顺序堆叠的多个设计层。

28.  根据权利要求27所述的窗结构，其中所述第一孔具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。

29.  根据权利要求27所述的窗结构，其中所述设计层结构具有彩色或白色，并且所述遮光层具有黑色或灰色。

30.  一种电子设备，包括：
布置在基板上的显示面板；
布置在所述显示面板上的窗结构，所述窗结构包括：
窗；
布置在所述窗上的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；
布置在所述设计层结构上的遮光层，所述遮光层包括第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通；以及
光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层包括第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分；以及
相机，包括相机传感器，所述相机传感器布置在所述窗结构和所述基板之间，以检测穿过所述第三孔的光。

31.  根据权利要求30所述的电子设备，其中所述第二孔具有比所述第一孔的直径大的直径。

32.  根据权利要求30所述的电子设备，其中所述光吸收层至少覆盖所述遮光层的侧壁的被所述第二孔暴露的部分。

33.  根据权利要求32所述的电子设备，其中所述光吸收层覆盖所述遮光层的上表面的一部分。

34.  根据权利要求30所述的电子设备，其中所述设计层结构包括在所述窗上顺序堆叠的多个设计层。

35.  根据权利要求34所述的电子设备，其中所述第一孔具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。

36.  根据权利要求30所述的电子设备，其中所述设计层结构具有彩色或白色，并且所述遮光层和所述光吸收层具有黑色或灰色。

37.  根据权利要求30所述的电子设备，其中所述窗具有面向所述基板的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，并且其中所述设计层结构布置在所述窗的所述第一表面上。

38.  根据权利要求30所述的电子设备，其中所述显示面板是有机发光二极管显示面板、液晶显示面板或等离子体显示面板。

39.  一种制造电子设备的方法，包括：
在基板上形成显示面板；
在所述基板上形成相机传感器，所述相机传感器与所述显示面板间隔开；
形成窗结构，包括，
提供窗，
在所述窗上形成设计层结构，所述设计层结构具有第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分，
在所述设计层结构上形成遮光层，所述遮光层具有第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通，以及
形成光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层具有第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分；以及
将所述窗结构附接到所述显示面板上，使得所述第三孔与所述相机传感器重叠并且所述设计层结构面向所述基板。

40.  一种电子设备，包括：
布置在基板上的显示面板；
布置在所述显示面板上的窗结构，所述窗结构包括：
窗，
布置在所述窗上的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分，以及
布置在所述窗上的遮光层，所述遮光层覆盖所述设计层结构并且包括第二孔，所述第二孔暴露所述窗的一部分；以及
相机，包括相机传感器，所述相机传感器布置在所述窗结构和所述基板之间，以 检测穿过所述第二孔的光。

说明书窗结构及其制造方法、电子设备及其制造方法
优先权声明
本申请向2012年5月23日提交的韩国专利申请No.2012-0054731要求优先权，该韩国专利申请的全部公开内容通过引用特此并入本申请。
技术领域
本发明的示例性实施例涉及窗结构、该窗结构的制造方法、包括窗结构的装备有相机的电子设备以及该电子设备的制造方法。
背景技术
在电子设备（例如移动电话、个人媒体播放器（PMP）等等）中使用的显示面板上可以安装窗，并且印有标识或图标的设计层可以附接到窗上。近来，多种电子设备已装备有相机，并且担当通往相机传感器的光路径的孔可以穿过设计层而形成。
如果设计层具有彩色或白色，那么穿过孔的光可以在设计层的与孔相邻的一部分处漫射，因此设计层的颜色可以转移至图像周围，即可能产生一种晕影。
发明内容
示例性实施例提供一种可以防止发生晕影的窗结构。
示例性实施例提供一种制造可以防止发生晕影的窗结构的方法。
示例性实施例提供一种装备有相机的电子设备，该电子设备包括可以防止发生晕影的窗结构。
示例性实施例提供一种制造装备有相机的电子设备的方法，该电子设备包括可以防止发生晕影的窗结构。
根据本发明的一个方面，提供一种窗结构，所述窗结构包括：窗；在所述窗上布置的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；在所述设计层结构上布置的遮光层，所述遮光层包括第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通；以及光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层包括第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分。
所述第二孔可以具有比所述第一孔的直径大的直径。所述第一孔和所述第二孔可以具有基本相同的直径。所述光吸收层至少可以覆盖所述遮光层的侧壁的被所述第二孔暴露的部分。所述光吸收层可以覆盖所述遮光层的上表面的一部分。所述光吸收层可以从所述遮光层的上表面中缺失。所述设计层结构可以包括在所述窗上顺序堆叠的多个设计层。所述第一孔可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。所述第一孔沿与所述窗的上表面基本垂直的方向可以具有一致的直径。所述第一孔和所述第二孔可以具有基本相同的直径。所述设计层结构可以具有彩色或白色，并且所述遮光层和所述光吸收层可以具有黑色或灰色。所述设计层结构、所述遮光层和所述光吸收层每个都可以是被印刷的层。当从上侧观看所述第一孔、所述第二孔和所述第三孔时，所述第一孔、所述第二孔和所述第三孔可以具有圆形边界，并且当从上侧观看所述光吸收层时，所述光吸收层可以具有圆形、椭圆形或多边形的边界。所述第三孔可以具有与所述窗的上表面基本垂直的侧壁。所述第三孔可以具有相对于所述窗的上表面倾斜的侧壁。所述第三孔可以具有弧形侧壁。所述窗结构还可以包括在所述窗上布置的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）膜，并且所述设计层结构可以布置在所述PET膜上。所述第三孔可以担当入射到面向所述遮光层的相机传感器上的光穿过的路径。
根据本发明的另一方面，提供一种制造窗结构的方法，所述方法包括在窗上形成设计层结构，所述设计层结构具有第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；在所述设计层结构上形成遮光层，所述遮光层具有第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通；以及形成光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层具有第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分。形成遮光层可以包括形成所述遮光层，使得所述第二孔具有比所述第一孔的直径大的直径。形成光吸收层可以包括形成所述光吸收层，以至少覆盖所述遮光层的侧壁的被所述第二孔暴露的部分。形成光吸收层可以包括形成所述光吸收层，以覆盖所述遮光层的上表面的一部分。形成设计层结构可以包括在所述窗上顺序堆叠多个设计层。形成设计层结构可以包括形成所述设计层结构，使得所述第一孔具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。形成设计层结构、形成遮光层和形成光吸收层每个均可以是使用网格通过丝网印刷工艺生产的。
根据本发明的另一方面，提供一种窗结构，所述窗结构包括：窗；在所述窗上布置的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；以及在所述窗上布置的遮光层，所述遮光层覆盖所述设计层结构并且包括第二孔，所述 第二孔暴露所述窗的一部分。所述设计层结构可以包括在所述窗上顺序堆叠的多个设计层。所述第一孔可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。所述设计层结构可以具有彩色或白色，并且所述遮光层可以具有黑色或灰色。
根据本发明的另一方面，提供一种电子设备，所述电子设备包括在基板上布置的显示面板、在所述显示面板上布置的窗结构、以及相机，所述窗结构包括：窗；在所述窗上布置的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一部分；在所述设计层结构上布置的遮光层，所述遮光层包括第二孔，所述第二孔与所述第一孔流体连通；以及光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分,所述光吸收层包括第三孔，所述第三孔暴露所述窗的一部分；所述相机包括布置在所述窗结构和所述基板之间以检测穿过所述第三孔的光的相机传感器。
所述第二孔可以具有比所述第一孔的直径大的直径。所述光吸收层至少可以覆盖所述遮光层的侧壁的被所述第二孔暴露的部分。所述光吸收层可以覆盖所述遮光层的上表面的一部分。所述设计层结构可以包括在所述窗上顺序堆叠的多个设计层。所述第一孔可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径从与所述窗的上表面相邻的底部增大至距所述窗的上表面最远的上部。所述设计层结构可以具有彩色或白色，并且所述遮光层和所述光吸收层可以具有黑色或灰色。所述窗可以具有面向所述基板的第一表面和与所述第一表面相对的第二表面，并且其中所述设计层结构可以布置在所述窗的所述第一表面上。所述显示面板可以是有机发光二极管（OLED）显示面板、液晶显示（LCD）面板或等离子体显示面板（PDP）。
根据本发明的另一方面，提供一种制造电子设备的方法，所述方法包括：在基板上形成显示面板；在所述基板上形成相机传感器，所述相机传感器与所述显示面板间隔开；形成窗结构，所述形成窗结构包括：提供窗；在所述窗上形成设计层结构，所述设计层结构具有暴露所述窗的一部分的第一孔；在所述设计层结构上形成遮光层，所述遮光层具有与所述第一孔流体连通的第二孔；以及形成光吸收层，所述光吸收层至少覆盖所述设计层结构的被所述第一孔和所述第二孔暴露的部分，所述光吸收层具有暴露所述窗的一部分的第三孔；以及将所述窗结构附接到所述显示面板上，使得所述第三孔与所述相机传感器重叠并且所述设计层结构面向所述基板。
根据本发明的又一方面，提供一种电子设备，所述电子设备包括在基板上布置的显示面板、在所述显示面板上布置的窗结构、以及相机，所述窗结构包括：窗；在所述窗上布置的设计层结构，所述设计层结构包括第一孔，所述第一孔暴露所述窗的一 部分；以及在所述窗上布置遮光层，所述遮光层覆盖所述设计层结构并且包括第二孔，所述第二孔暴露所述窗的一部分；所述相机包括布置在所述窗结构和所述基板之间以检测穿过所述第二孔的光的相机传感器。
附图说明
当结合附图考虑下面的具体实施方式时，本发明的更全面理解以及随之产生的许多优势将显而易见，因为本发明通过参考具体实施方式变得更容易理解，在附图中相同的附图标记表示相同或相似的组件，其中：
图1是图示对比示例的窗结构的剖面图，而图2是图1的窗结构的平面图；
图3是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图，而图4是图3的窗结构的平面图；
图5是图示根据示例性实施例的窗结构的平面图；
图6、图8、图10和图12是图示根据示例性实施例的制造窗结构的方法的剖面图；
图7、图9、图11和图13是图6、图8、图10和图12的窗结构的平面图；
图14至图19是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图；
图20是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图；
图21是图20的窗结构的平面图；
图22和图23是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图；
图24是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图；
图25是图24的窗结构的平面图；
图26是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图；
图27是图示根据示例性实施例的包括窗结构的装备有相机的电子设备的剖面图；
图28和图29是图示根据示例性实施例的制造包括窗结构的装备有相机的电子设备的方法的剖面图；以及
图30是图示根据示例性实施例的包括窗结构的装备有相机的电子设备的剖面图。
具体实施方式
下面参照附图更全面地描述示例性实施例。然而，本发明可以以多种不同形 式来实现，而不应当被解释为局限于本文中所介绍的示例性实施例。在附图中，为了清楚起见，可以放大层和区域的尺寸和相对尺寸。
应当理解，当元件或层被称为位于另一元件或层“上”、与另一元件或层“连接”或“联接”时，该元件或层可以直接位于该另一元件或层上、与该另一元件或层直接连接或直接联接，或者可以存在介于中间的元件或层。相比之下，当元件被称为“直接位于另一元件或层上”、与另一元件或层“直接连接”或“直接联接”时，不存在介于中间的元件或层。在全文中，相同或相似的附图标记表示相同或类似的元件。在本文中使用的术语“和/或”包括所列关联项目中的一个或多个的任意和所有组合。
应当理解，虽然在本文中可使用术语第一、第二、第三等来描述不同元件、部件、区域、层、图案和/或部分，但这些元件、部件、区域、层、图案和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅仅用于将一个元件、部件、区域、层、图案或部分与另一区域、层、图案或部分区别开。因此，在不脱离示例性实施例的教导的情况下，下面介绍的第一元件、组件、区域、层或部分可以被称为第二元件、组件、区域、层或部分。
为了便于描述，在本文中使用的与空间有关的术语，例如“在……下面”、“在……正下方”、“下面的”、“在……正上方”、“在……上面”等，可以用来描述附图中图示的一个要素或特征与另一要素或特征的关系。将理解，与空间有关的术语旨在包括使用中或操作中的装置除图中所示的方位以外的不同方位。例如，如果图中的设备反转，则被描述为位于其它元件或特征的“下面”或“下方”的元件将位于其它元件或特征的“上方”。因此，示例性术语“在…下方”可包括“上方”和“下方”两个方位。设备可以位于别的方向（旋转90度或朝其它方位），并且相应地解释在本文中使用的与空间有关的描述符。
本文中使用的术语仅仅是为了描述具体的示例性实施例的目的，而不旨在限制本发明。在本文中使用的单数形式“一”、“该”旨在也包含复数形式，除非上下文清楚地表示别的含义。进一步将理解，术语“包括”和/或“包含”，当其在本说明书中使用时规定所述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但不排除存在或增加一个或多个其它的特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或它们的组合。
在本文中，示例性实施例是参照剖面图示描述的，剖面图示是本发明的图解理想化示例性实施例（和中间结构）的示意图。因此，应预料到由例如制造技术和/或容差导致的图示形状的变化。因此，示例性实施例不应被解释为局限于本文 中图示的区域的特定形状，而应包括由例如制造导致的形状偏差。图中所示的区域实际上是示意性的，它们的形状不旨在示出设备的区域的实际形状，并且不旨在限制本发明的范围。
除非另外限定，否则本文中使用的所有术语（包括技术术语和科学术语）具有与本发明所属的技术领域的普通技术人员之一所通常理解的意义相同的意义。进一步应理解，术语（例如在常用词典中限定的那些术语）应当被解释为具有与它们在相关领域的背景中的意义一致的意义，而不应从理想化的或过于形式的意义上去解释，除非本文中明确如此限定。
现在转向图1和图2，图1是图示对比示例的窗结构的剖面图，而图2是图1的窗结构的平面图。图1是图2的窗结构沿线I-I’切出的剖面图。在图1中，还示出可以面向窗结构布置的相机传感器。
现在参照图1和图2，窗结构50可以包括窗10和在窗10上顺序堆叠的设计层结构20和遮光层30。设计层结构20可以包括在窗结构10上顺序堆叠的第一设计层22和第二设计层24，窗结构10是透明物质，例如玻璃、塑料等。第一设计层22和第二设计层24可以具有彩色或白色。设计层结构20可以具有第一孔25，第一孔25暴露窗10的上表面。因此，由于设计层结构20包括第一设计层22和第二设计层24，所以第一孔25可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径可以从与窗10的上表面相邻的底部增大至距窗10的上表面远的上部，例如距窗10的上表面最远的上部。当从上侧观看第一孔25时，第一孔25可以具有圆形状。
遮光层30可以具有黑色或灰色。遮光层30可以具有与第一孔25流体连通的第二孔35，并且第二孔35可以具有比第一孔25的直径大的直径。当从上侧观看第二孔35时，第二孔35可以具有圆形状。第一孔25和第二孔35可以是同心圆。
可以面向第一孔25和第二孔35布置相机传感器90，并且相机传感器90可以布置在基板80上。从对象（未示出）上反射并穿过窗10和设计层结构20的第一孔25的光可以入射到相机传感器90上，并且光的一部分可以从相机传感器90上反射并且入射到遮光层30和设计层结构20上。入射到设计层结构20上的光的一部分可以再次反射（见图1的光线A1）并且入射到相机传感器90上。因此，如论对象的颜色如何，相机传感器90都可以检测设计层结构20的颜色。
如果设计层结构20具有很薄的厚度，那么从对象上反射的、穿过窗10并入射到设计层结构20上的光的那部分可以穿过设计层结构20（见图1的光线A2），在此情况下，相机传感器90还可以检测设计层结构20的颜色。然而，入射到设计层结构20的被遮光层30覆盖的那部分上的光不可以穿过遮光层30，因此不可 以入射到相机传感器90上。
结果，穿过窗10的光可以在未被遮光层30覆盖的设计层结构20处漫射，并且相机传感器90可以检测与对象的颜色无关的设计层结构20的颜色。因此，设计层结构20的颜色可以转移至对象图像的周围，即产生一种晕影。
现在转向图3和图4，图3是图示根据示例性实施例的窗结构的剖面图，而图4是图3的窗结构的平面图。图3是图4的窗结构沿图4的线II-II’截取的剖面图。在图3中，还示出了可以面向窗结构布置的相机传感器。
现在参照图3和图4，窗结构100可以包括窗110，在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130，以及第一光吸收层140。窗110可以是平板，并且具有第一表面112和与第一表面112相对的第二表面114。窗110可以包括透光物质，例如合成树脂（如压克力（acryl））或玻璃。
第一设计层结构120可以形成在窗110的第一表面112上。在示例性实施例中，第一设计层结构120可以包括在窗110上顺序堆叠的第一设计层122和第二设计层124。第一设计层122和第二设计层124可以具有彩色或白色。在示例性实施例中，第一设计层122和第二设计层124可以具有基本相同的颜色。
第一设计层结构120可以具有第一孔125，第一孔125暴露窗110的第一表面112的一部分。在示例性实施例中，当从上侧观看第一孔125时，第一孔125可以具有圆形状。因此，由于第一设计层结构120包括第一设计层122和第二设计层124，所以第一孔125可以具有阶梯形状，阶梯形状的直径可以从与窗110的第一表面112相邻的底部增大至距窗110的第一表面112远的上部，例如距窗110的第一表面112最远的上部。也就是说，第二设计层124可以不覆盖全部的第一设计层122，因此第一设计层122可以被部分暴露。
图3和图4示出具有两个顺序堆叠的设计层122和124的第一设计层结构120，然而第一设计层结构120可以具有两个以上的设计层，并且可以被限定为设计层的侧壁和/或上表面的第一孔也可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径可以从与窗110的第一表面112相邻的底部增大至距窗110的第一表面112远的上部，例如距窗110的第一表面112最远的上部。可替代地，第一设计层结构120可以仅具有一个设计层。下文中，为了方便说明，仅图示第一设计结构120具有两个设计层的情况。
第一遮光层130可以具有黑色或灰色，可以形成在第一设计层结构120的第二设计层124上，并且可以具有与第一孔125流体连通的第二孔135。在示例性实施例中，第二孔135可以具有比第一孔125的直径大的直径。当从上侧观看第二 孔135时，第二孔135可以具有圆形状。第一孔125和第二孔135可以是同心圆。第一遮光层130可以不覆盖全部的第二设计层124，因此第二设计层124可以被部分暴露。因此，包括第一孔125和第二孔135的孔结构可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径可以从与窗110的第一表面112相邻的底部增大至距窗110的第一表面112远的上部，例如距窗110的第一表面112最远的上部。
第一光吸收层140至少可以覆盖第一设计层结构120的被第一孔结构（即第一孔125和第二孔135）暴露的部分，并且可以具有第三孔145，第三孔45暴露窗110的第一表面112的一部分。也就是说，第一光吸收层140可以覆盖第一设计层122的侧壁、第一设计层122的上表面的一部分、第二设计层124的侧壁以及第二设计层124的上表面的被第二孔135暴露的部分，第一设计层122的侧壁、第一设计层122的上表面的一部分和第二设计层124的侧壁可以被第一孔125暴露或者可以限定第一孔125。第三孔145可以在由第一孔125和第二孔135组成的第一孔结构内形成并且可以具有比第一孔结构的直径小的直径。在示例性实施例中，当从上侧观看第三孔145和第一孔125和/或第二孔135时，第三孔145和第一孔125和/或第二孔135可以是同心圆。在示例性实施例中，第三孔145可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。也就是说，第一光吸收层140可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。
在示例性实施例中，第一光吸收层140不仅可以覆盖第一设计层结构120的一部分，还可以覆盖第一遮光层130的侧壁以及第一遮光层130的上表面的与第二孔135相邻的部分，第一遮光层130的侧壁可以被第二孔135暴露或者可以限定第二孔135。第一光吸收层140的边界可以是圆，并且第一孔125、第二孔135和第一光吸收层140的边界可以是同心圆。在示例性实施例中，第一光吸收层140可以具有与窗110的第一表面112基本平行的上表面。第一光吸收层140可以具有黑色或灰色。在示例实施例中，第一遮光层130可以具有灰色，第一光吸收层140可以具有黑色。
在图4中，除了第一孔125、第二孔135和第三孔145以外，第一设计层结构120和第一遮光层130完全覆盖窗110的第一表面112，然而，根据期望的设计，第一设计层结构120和第一遮光层130可以仅在窗110的第一表面112的与第一光吸收层140相邻的一部分处形成。
可以面向第三孔145布置相机传感器190，并且相机传感器190可以布置在基板180上。因此，第三孔145可以担当从对象（未示出）反射的光可以穿过的路径。
从对象上反射并穿过窗110和第三孔145的光可以入射到相机传感器190上，并且此光的一部分可以从相机传感器190上反射并且向第一设计层结构120、第一遮光层130或第一光吸收层140反射。然而，第一光吸收层140可以覆盖第一设计层结构120的被第一孔125和第二孔135暴露的部分，因此第一光吸收层140和第一遮光层130可以阻挡从相机传感器190上反射的光入射到第一设计层结构120上。因此，第一设计层结构120的颜色（可以是彩色或白色）可以不被相机传感器190检测。
即便第一设计层结构120可以具有很薄的厚度，从对象上反射的、穿过窗110和第一设计层结构120并且入射到第一孔125或第二孔135上的光可以被第一光吸收层140吸收，使得光可以不入射到相机传感器180上。穿过窗110并入射到第一设计层结构120的被第一遮光层130覆盖的一部分上的光也可以被第一遮光层130阻挡，使得光与第一设计层结构120的相互影响不到达相机传感器190。
因此，可以防止与对象的颜色无关的第一设计层结构120的颜色入射到相机传感器190上，并且可以防止晕影，即会另外转移到对象图像周围的第一设计层结构120的颜色。
现在转向图5，图5是图示根据示例性实施例的窗结构的平面图。除了光吸收层140的边界以外，该窗结构可以与图3和图4的窗结构基本相同。因此，相同附图标记表示相同元件，并且本发明中省略对相同元件的详细描述。
窗结构100可以包括窗110，在窗结构110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130，以及第二光吸收层142。在示例性实施例中，第二光吸收层142可以具有矩形的边界。
除了第一光吸收层140的圆形和第二光吸收层142的矩形以外，窗结构100可以具有其它类型的边界，例如椭圆、多边形等。下文中，为了方便说明，将仅介绍具有圆形边界的窗结构。
现在转向图6至图13，图6、图8、图10和图12是图示根据示例性实施例的制造窗结构的方法的剖面图，而图7、图9、图11和图13是图6、图8、图10和图12的窗结构的平面图。更具体地，图6、图8、图10和图12分别是图7、图9、图11和图13的窗结构沿图7、图9、图11和图13的线III-III’切开的剖面图。图6至图13示出制造图3和图4的窗结构的方法，然而，这些方法可以不局限于此。
现在参照图6和图7，窗110可以包括透光物质，例如合成树脂（如压克力）或玻璃。窗110可以包括第一表面112和与第一表面112相对的第二表面114。
在窗110的第一表面112上可以形成第一设计层122。在示例性实施例中，第 一设计层122可以使用网格通过丝网印刷工艺来形成。也就是说，可以在窗110的第一表面112上安装用于形成期望图案的网格（未示出），可以向网格上喷洒或滴落颜料，并且橡胶板可以压在所喷洒或所滴落的颜料上来形成具有期望图案的第一设计层122。在示例性实施例中，可以使用彩色颜料或白色颜料形成第一设计层122，并且在颜料中可以包含金属粉末（例如银粉末）。
在示例性实施例中，可以将第一设计层122形成为包括穿过第一设计层122的第一孔125。当从上侧观看第一孔125时，第一孔125可以具有圆形状。在将第一设计层122印到窗110的第一表面112上以后，可以进一步执行干燥工艺。
现在参照图8和图9，在第一设计层122上可以形成第二设计层124。第二设计层124可以与第一设计层122一样使用网格通过丝网印刷工艺来形成。在示例性实施例中，可以使用彩色颜料或白色颜料形成第二设计层124，并且可以使用具有与第一设计层122的颜色基本相同颜色的颜料形成第二设计层124。
在示例性实施例中，可以将第二设计层124形成为具有穿过第二设计层124的孔。第二设计层124中的孔和第一孔125可以是同心圆。因此，第二设计层124中的孔可以与第一孔125流体连通。
在示例性实施例中，可以将第二设计层124中的孔形成为具有比第一孔125的直径大的直径，以便在丝网印刷工艺过程中，第二设计层124可以不在窗110的第一表面112的被第一孔125暴露的部分上形成。因此，第一设计层122可以不被第二设计层124完全覆盖，并且可以暴露第一设计层122的与第一孔125相邻的一部分。
下文中，穿过第一设计层122的第一孔125与穿过第二设计层124的与第一孔125流体连通的孔一起可以称为第一孔125。第一孔125的底部可以由窗110的第一表面112的未被第一设计层122覆盖的一部分限定，而第一孔125的侧壁可以由第一设计层122的侧壁、第一设计层122的上表面的暴露的部分以及第二设计层124中的孔的侧壁限定。因此，第一孔125可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径可以从与窗110的第一表面112相邻的底部增大到距窗110的第一表面112远的上部，例如距窗110的第一表面112最远的上部。
第一设计层122和第二设计层124可以限定第一设计层结构120。如上文所述，作为替代，可以将第一设计层结构120形成为包括两个以上的顺序堆叠的设计层，或者可以不包括第二设计层124而仅包括第一设计层122。
现在参照图10和图11，在第一设计层结构120的上表面上，即在第二设计层124的上表面上，可以形成第一遮光层130。
第一遮光层130可以与第一设计层122和第二设计层124一样使用网格通过丝网印刷工艺形成。在示例性实施例中，可以使用黑色颜料或灰色颜料形成第一遮光层130。
在示例性实施例中，可以将第一遮光层130形成为具有穿过第第一遮光层130的第二孔135。当从上侧观看第二孔135时，第二孔135可以具有圆形状。在示例性实施例中，第二孔135和第一孔125可以是同心圆。因此，第一孔125和第二孔135可以彼此流体连通。
在示例性实施例中，可以将第二孔135形成为具有比第一孔125的直径大的直径，使得第一遮光层130可以不在窗110的第一表面112的被第一孔125暴露的部分上形成。因此，第二设计层124可以不被第一遮光层130完全覆盖，并且可以暴露第二设计层124的上表面的与第一孔125相邻的部分。
下文中，第一孔125连同与第一孔125流体连通的第二孔135一起可以称为第一孔结构。第一孔结构的侧壁可以由第一孔125的侧壁、第二设计层124的上表面的与第一孔125相邻的暴露的部分以及第一遮光层130的侧壁限定。因此，第一孔结构可以具有阶梯形状，该阶梯形状的直径可以从与窗110的第一表面112相邻的底部增大至距窗110的第一表面112远的上部，例如距窗110的第一表面112最远的上部。
现在参照图12和图13，在窗110的第一表面112上可以形成第一光吸收层140，以至少覆盖第一设计层结构120的由第一孔结构（即第一孔125和第二孔135）暴露的部分，因此可以制造窗结构100。
第一光吸收层140可以与第一设计层122、第二设计层124和第一遮光层130一样使用网格通过丝网印刷工艺形成。在示例性实施例中，可以使用黑色颜料或灰色颜料形成第一光吸收层140。
在示例性实施例中，当从上侧观看第一光吸收层140时，第一光吸收层140可以具有圆形形状，并且可以具有第三孔145，第三孔145暴露窗110的第一表面112的一部分。如上文所述，作为替代，可以将第一光吸收层140形成为具有其它类型的形状，例如椭圆形、多边形等。
在示例性实施例中，第一光吸收层140可以至少覆盖第一设计层122的侧壁、第一设计层122的上表面的可以被第一孔125暴露或限定第一孔125的部分、第二设计层124的可以被第一孔125暴露或限定第一孔125的侧壁以及第二设计层125的上表面的被第二孔135暴露的部分。此外，第一光吸收层140可以覆盖第一遮光层130的被第二孔135暴露或限定第二孔135的侧壁以及第一遮光层130的 上表面的与第二孔135相邻的部分。
可以将第三孔145在第一孔结构内形成为具有比第一孔结构的直径小的直径，并且第三孔145和第一孔125和/或第二孔135可以是同心圆。在示例性实施例中，可以将第三孔145形成为具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。也就是说，第一光吸收层140可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。在示例性实施例中，可以将第一光吸收层140形成为与窗110的第一表面112基本平行的上表面。
现在转向图14至图19，图14至图19是图示根据各示例性实施例的窗结构的剖面图。除了光吸收层的形状以外，图14至图19中的窗结构可以与图3和图4的窗结构基本相同或基本相似。因此，相同的附图标记表示相同的要素，并且在本文中省略对相同要素的详细描述。
现在参考图14，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130以及第三光吸收层144。
与前面的实施例一样，第三光吸收层144可以具有与窗110的第一表面112基本平行的上表面，但是第三光吸收层144还可以具有不与窗110的第一表面112垂直的侧壁，而是作为替代相对于窗110的第一表面112倾斜。具体地，第三光吸收层144的第三孔145可以具有从与窗110的第一表面112相邻的底部逐渐增大至距窗110的第一表面112的远的上部，例如距窗110的第一表面112最远的上部的直径。因此，可以从对象上反射的、穿过窗110并且入射到相机190上的光的数量可以相对增加。
现在参考图15，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130以及第四光吸收层146。第四光吸收层146具有弧形侧壁，该弧形侧壁相对于窗110的第一表面112形成各种倾斜角。此外，第四光吸收层146的上表面弯曲，因此不与窗110的第一表面112平行。
现在参考图16，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130以及第五光吸收层148。
第五光吸收层148可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁和与窗110的第一表面112基本平行的上表面，但是不覆盖第一遮光层130的上表面。在示例性实施例中，第五光吸收层148可以具有大大高于第一遮光层130的上表面的上表面。
现在参考图17，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130以及第六光吸收层150。第六光吸收层150可以具 有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁以及与窗110的第一表面112基本平行的上表面，并且可以不存在在第一遮光层130的上表面中，而是与第一遮光层130的上表面基本共面。
现在参考图18，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130，以及第七光吸收层152。第七光吸收层152可以具有相对于窗110的第一表面112倾斜的弯曲的侧壁，并且可以不存在在第一遮光层130的上表面中。在图18的示例性实施例中，第七光吸收层152可以具有与第一遮光层130的上表面基本共面的上表面。
现在参考图19，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130，以及第八光吸收层154。第八光吸收层154可以具有相对于窗110的第一表面112倾斜的弯曲的侧壁，并且可以不存在在第一遮光层130的上表面中。在图19的示例性实施例中，第八光吸收层154可以具有比第一遮光层130的上表面低的上表面，因此可以仅覆盖第一遮光层130的侧壁的一部分。
现在转向图20至图21，图20是图示根据示例性实施例的面向窗结构的相机传感器的剖面图，而图21是图20的窗结构的平面图。更具体地，图20是图21的窗结构沿图21的线IV-IV’截取的剖面图。除了窗结构可以不包括与遮光层分离的光吸收层以及遮光层可以具有不同形状以外，图20和图21中的窗结构可以与图3和图4的窗结构基本相同或基本相似。因此，相同的附图标记表示相同的元件，并且在本文中省略对相同元件的详细描述。
参照图20和21，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第二遮光层132。
第二遮光层132可以覆盖第一设计层120并且可以在窗110上形成。第二遮光层132可以具有在第一孔125内的第四孔137，第四孔137可以暴露窗110的第一表面112的一部分。在示例性实施例中，当从上侧观看第四孔137时，第四孔137可以具有圆形状，并且第四孔137和第一孔125可以是同心圆。
在示例性实施例中，第四孔137可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。也就是说，第二遮光层132可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。
第二遮光层132可以包括黑色印刷层或灰色印刷层。第二遮光层132可以覆盖第一设计层结构120，因此可以防止光在第一设计层结构120处漫射，使得可以防止晕影的发生。也就是说，第二遮光层132可以担当图3和图4所示的窗结构 的第一遮光层130和第一光吸收层140。
现在转向图22至图23，图22和图23是图示根据另一示例实施例的窗结构的剖面图。除了遮光层的侧壁的形状以外，图22和图23中的窗结构可以与图20和图21的窗结构基本相同或基本相似。因此，相同的附图标记表示相同的元件，并且在本文中省略对相同元件的详细描述。
现在参考图22，窗结构100可以包括窗110以及在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第三遮光层134。第三遮光层134可以具有侧壁，该侧壁不与窗110的第一表面112垂直，而是作为替代相对于窗110的第一表面112倾斜或偏斜。这允许从外部对象上反射的、穿过窗110并且经由第四孔137入射到相机传感器190上的光的数量相对增加。
现在参考图23，窗结构100可以作为替代包括窗110以及在窗110上顺序堆叠的第一设计层结构120和第四遮光层136。第四遮光层136可以具有弧形侧壁，该弧形侧壁不与窗110的第一表面112垂直而是弯曲。
现在转向图24至图25，图24是图示根据另一示例实施例的窗结构的剖面图，而图25是图24的窗结构的平面图。更具体地，图24是图25的窗结构沿图25的线V-V’截取的剖面图。在图24中，还示出了可以面向窗结构100布置的相机传感器190。除了设计层结构、遮光层和光吸收层的形状以外，图24中的窗结构100可以与图3和图4的窗结构基本相同或基本相似。因此，相同的附图标记表示相同的元件，并且在本文中省略对相同元件的详细描述。
现在参照图24和图25，窗结构100可以包括窗110、在窗110上顺序堆叠的第二设计层结构121和第五遮光层133以及第九光吸收层156。
第二设计层结构121可以包括在窗110的第一表面112上顺序堆叠的第一设计层122和第三设计层123。第三设计层123可以完全覆盖第一设计层122。因此，无论距窗110的第一表面112的距离如何，第二设计层结构121的第五孔127都可以具有一致的直径。
第五遮光层133可以在第二设计层结构121的上表面（即第三设计层123的上表面）上形成,并且可以完全覆盖第三设计层123。因此，第五遮光层133的第六孔139可以具有与第五孔127的直径基本相同的直径。由此，无论距窗110的第一表面112的直径如何，包括第五孔127和第六孔139的第二孔结构可以具有一致的直径。
第九光吸收层156可以覆盖第二设计层结构121的被第五孔127暴露的部分（即第一设计层122的侧壁和第三设计层123的侧壁），并且可以具有暴露窗110 的第一表面112的一部分的第七孔155。第七孔155可以在包括第五孔127和第六孔139的第二孔结构内形成，并且可以具有比第二孔结构小的直径。当从上侧观看第七孔155时，第七孔155可以具有圆形状，并且第七孔155、第五孔127和/或第六孔139可以是同心圆。在该示例实施例中，第七孔155可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。也就是说，第九光吸收层156可以具有与窗110的第一表面112基本垂直的侧壁。
在示例性实施例中，第九光吸收层156不仅可以覆盖第二设计层结构121的一部分，还可以覆盖第五遮光层133的由第六孔139暴露或限定第六孔139的侧壁以及第五遮光层133的上表面的与第六孔139相邻的部分。当从上侧观看第九光吸收层156时，第九光吸收层156可以具有圆形边界。第九光吸收层156的边界、第五孔127和第六孔139可以是同心圆。在示例性实施例中，第九光吸收层156可以具有与窗110的第一表面112基本平行的上表面。
现在转向图26，图26是图示根据另一示例性实施例的窗结构的剖面图。除了窗结构进一步包括聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）膜170以外，图26中的窗结构可以与图3和图4的窗结构基本相同或相似。因此，相同附图标记表示相同元件，并且本发明中省略对相同元件的详细描述。
现在参考图26，窗结构100可以包括窗110、PET膜170，在PET膜170上顺序堆叠的第一设计层结构120和第一遮光层130，以及第一光吸收层140。
可以高质量地印刷第一设计层结构120并且第一设计层结构120可以具有暴露PET膜170的上表面的一部分的第一孔125，并且第一遮光层130可以具有与第一孔125流体连通的第二孔135。第二光吸收层140可以至少覆盖第一设计层结构120的被第一孔125和第二孔135暴露的部分，并且可以具有第三孔145，第三孔145暴露PET膜170的上表面的一部分。
光透射PET膜170可以在窗110的第一表面112上形成，因此PET膜170不会影响入射到相机传感器190上的光的数量。
现在转向图27，图27是图示根据另一示例性实施例的装备有相机和窗结构的电子设备的剖面图。该电子设备可以包括关于图3和图4介绍的窗结构和相机传感器，因此本发明中省略对关于图3和图4介绍的窗结构和相机传感器的详细描述。
现在参考图27，该电子设备可以包括基板180、显示面板200、柔性印刷电路板（FPCB）220、窗结构100和相机传感器190。
基板180可以具有用于驱动电子设备的多种电路布线。在示例性实施例中， 基板180可以是PCB。
显示面板200可以是例如有机发光二极管（OLED）显示面板、液晶显示（LCD）面板或等离子体显示面板（PDP）等。当显示面板200是LCD面板或PDP时，电子设备可以进一步包括用于向面板提供光的背光组件。在本实施例中，显示面板200可以通过粘合剂（例如缓冲胶带（cushion tape）210）附接到基板180上。
FPCB 220可以包括柔性树脂并且可以连接至基板180的表面上，以向显示面板200提供驱动信号。FPCB 220可以与显示面板200的第一表面接触。图27图示出FPBC被弯曲来接触基板180的背向显示面板200的第二表面，但是FPCB 220可以作为替代被弯曲成接触基板180的面向显示面板200的第一表面。
窗结构100可以在显示面板200的与显示面板200的第一表面相对的第二表面上形成。窗结构100可以通过粘合剂（例如超视树脂（SVR））附加到显示面板200上。
相机传感器190可以面向窗结构100的第三孔145布置，并且可以通过例如相机盒185布置在基板180上。
在电子设备中安装的相机传感器19可以面向包括第一设计层结构120的窗结构100的第三孔145布置，并且可以防止由第一光吸收层140的存在引起的晕影。
现在转向图28至图29，图28和图29是图示根据示例性实施例的制造包括窗结构的装备有相机的电子设备的方法的剖面图。更具体地，图28和图29图示制造图27的电子设备的方法，然而这些图不局限于此。
现在参考图28，可以执行与关于图6至图13图示的那些过程基本相同或相似的过程来制造窗结构100。
现在参考图29，可以在基板180的第一表面上安装相机盒185，并且在相机盒185内可以安装相机传感器190。此外，显示面板200可以附接到基板180的第一表面上。在该实施例中，基板180的第一表面和显示面板200的第一表面可以通过粘合剂（例如缓冲胶带210）彼此附接。
FPCB 220可以附接到显示面板200的第一表面上，并且可以像图29所示那样弯曲到基板180的第二表面或者弯曲到与基板180的第一表面相对的第一表面。
再次返回参考图27，可以将透光粘合剂230（例如SVR）涂覆到窗结构100的第一遮光层130，使得窗结构100可以附接到显示面板200的第二表面上来制造电子设备。可以将窗结构100附接成使得第三孔145可以面向在基板180上安装的相机传感器190。
现在转向图30，图30是图示根据示例性实施例的包括窗结构的装备有相机的 电子设备的剖面图。除了窗结构的组成以外，图30的电子设备可以与图27的电子设备基本相同或相似。也就是说，图30的窗结构不包括图27的第一光吸收层140，而是作为替代延伸第二遮光层来覆盖第一设计层结构120的暴露的部分，使得防止产生晕影图像。因此，相同的附图标记表示相同的元件，并且在本文中省略对相同元件的详细描述。
根据示例性实施例的窗结构可以应用至具有显示面板和相机的任何类型的电子设备。
上述内容是说明示例性实施例，而不应被解释为对示例性实施例的限制。尽管描述了一些示例性实施例，但本领域技术人员将容易理解，在示例实施例中进行实质上不脱离示例性实施例的新颖教导和优点的很多修改是可能的。因此，所有这种修改意图包括在在权利要求中限定的示例性实施例的范围内。在权利要求中，装置加功能句式旨在覆盖本文中描述的实现所记载的功能的结构，不仅覆盖结构性等同物还覆盖等同的结构。因此，应当理解，上述内容是说明示例实施例，而不应被解释为局限于所公开的特定实施例，而且，对所公开的示例实施例以及其它示例实施例的修改旨在包括在所附权利要求的范围内。本发明由下面的权利要求限定，权利要求的等同物应包含在本发明中。