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1、(10)申请公布号 CN 103307986 A (43)申请公布日 2013.09.18 CN 103307986 A *CN103307986A* (21)申请号 201310243113.X (22)申请日 2013.06.19 G01B 11/02(2006.01) G03F 7/20(2006.01) (71)申请人 清华大学 地址 100084 北京市海淀区北京市 100084 信箱 82 分箱清华大学专利办公室 (72)发明人 张鸣 朱煜 王磊杰 杨开明 刘召 成荣 刘昊 徐登峰 叶伟楠 张利 赵彦坡 田丽 张金 胡金春 穆海华 尹文生 秦慧超 (74)专利代理机构 北京鸿元知识。
2、产权代理有限 公司 11327 代理人 邸更岩 (54) 发明名称 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 (57) 摘要 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系 统， 包括双频激光器、 光栅干涉仪、 测量光栅、 接收 器、 电子信号处理部件 ； 光栅干涉仪包括偏振分 光镜、 参考光栅、 折光元件 ； 该测量系统基于光栅 衍射、 光学多普勒效应和光学拍频原理实现位移 测量。双频激光器出射的双频激光入射至光栅干 涉仪、 测量光栅后输出两路光信号至接收器， 后至 电子信号处理部件。当光栅干涉仪与测量光栅做 二自由度线性相对运动时， 系统可输出二个线性 位移。该测量系统能够实现亚纳米甚至更高分辨 率及。
3、精度， 且能够同时测量二个线性位移。 该测量 系统具有对环境不敏感、 测量精度高、 体积小、 质 量轻等优点， 作为光刻机超精密工件台位置测量 系统可提升工件台综合性能。 (51)Int.Cl. 权利要求书 1 页 说明书 4 页 附图 4 页 (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 权利要求书1页 说明书4页 附图4页 (10)申请公布号 CN 103307986 A CN 103307986 A *CN103307986A* 1/1 页 2 1. 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统， 其特征在于 ： 包括双频激光器 （1） 、 光 栅干涉仪 （2） 、 测量光栅 （。
4、3） 、 两个接收器 （4） 和电子信号处理部件 （5） ； 光栅干涉仪 （2） 包括 偏振分光镜 （21） 、 参考光栅 （22） 、 第一折光元件和第二折光元件 ； 双频激光器 （1） 出射双频 正交偏振激光经光纤耦合入射至偏振分光镜 （21） 后分光， 透射光为参考光， 反射光为测量 光 ； 所述参考光入射至参考光栅 （22） 后产生两束衍射反射参考光， 两束参考光经第一折光 元件后偏转形成两束平行参考光， 两束平行参考光回射至偏振分光镜 （21） 后透射 ； 所述测量光入射至测量光栅 （3） 后产生两束衍射反射测量光， 两束测量光经第二折光 元件后偏转形成两束平行测量光， 两束平行测量。
5、光回射至偏振分光镜 （21） 后反射 ； 其中的一束透射参考光和一束反射测量光重合形成一路测量光信号， 另一束透射参考 光和另一束反射测量光重合形成另一路测量光信号， 两路测量光信号分别经光纤传输至两 个接收器 （4） 进行处理分别形成两路测量电信号， 两路测量电信号输入至电子信号处理部 件 （5） 进行处理 ； 双频激光器 （1） 同时也输出一束参考电信号至电子信号处理部件 （5） ； 当测量光栅 （3） 相对于光栅干涉仪 （2） 做水平向和垂向两个自由度的线性运动时， 电子信号处理部件 （5） 将输出二自由度线性位移。 2. 根据权利要求 1 所述的一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统，。
6、 其特征在于 ： 所述的参考光栅 （22） 和测量光栅 （3） 均采用一维反射型光栅。 3. 根据权利要求 1 所述的一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统， 其特征在 于 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用两个直角棱镜 （23a） 组成， 两个直角棱镜 （23a） 并列布置。 4. 根据权利要求 1 所述的一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统， 其特征在于 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用两个反射镜 （23b） 组成。 5. 根据权利要求 1 所述的一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统， 其特征在于 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用截面为等腰梯形的折光棱镜 （。
7、23c） 。 6. 根据权利要求 1 所述的一种三自由度外差光栅干涉仪位移测量系统， 其特征在于 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用透镜 （23d） 。 7. 根据权利要求 1-6 任一权利要求所述的一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系 统， 其特征在于 ： 所述的两个接收器与电子信号处理部件 （5） 集成为一体化结构 （6） ， 所述 的两路测量光信号和双频激光器输出的一路参考电信号输入至一体化结构 （6） 进行处理 后， 输出水平向和垂直向二自由度线性运动位移。 权 利 要 求 书 CN 103307986 A 2 1/4 页 3 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统 技术领域 。
8、0001 本发明涉及一种光栅测量系统， 特别涉及一种用于光刻机工件台位移测量的二自 由度外差光栅干涉仪测量系统。 背景技术 0002 光栅测量系统作为一种典型的位移传感器广泛应用于众多机电设备。 光栅测量系 统的测量原理主要基于莫尔条纹原理和衍射干涉原理。 基于莫尔条纹原理的光栅测量系统 作为一种发展成熟的位移传感器以其测距长、 成本低、 易于装调等众多优点成为众多机电 设备位移测量的首选， 但精度通常在微米量级， 常见于一般工业应用。 0003 半导体制造装备中的光刻机是半导体芯片制作中的关键设备。 超精密工件台是光 刻机的核心子系统， 用于承载掩模板和硅片完成高速超精密步进扫描运动。超精密。
9、工件台 以其高速、 高加速、 大行程、 超精密、 多自由度等运动特点成为超精密运动系统中最具代表 性的一类系统。为实现上述运动， 超精密工件台通常采用双频激光干涉仪测量系统测量超 精密工件台多自由度位移。然而随着测量精度、 测量距离、 测量速度等运动指标的不断提 高， 双频激光干涉仪以环境敏感性、 测量速度难以提高、 占用空间大、 价格昂贵、 测量目标工 件台动态特性差等存在的一系列问题， 从而难以满足更高的测量需求。 0004 针对上述问题， 世界上超精密测量领域的各大公司及研究机构展开了一系列的研 究， 研究主要集中于基于衍射干涉原理的光栅测量系统， 研究成果在诸多专利论文中均有 揭露。 。
10、0005 美 国 专 利 文 献 US7,102,729B2（公 开 日 2005 年 8 月 4 日） 、 US7,483,120B2 （公 开 日 2007 年 11 月 15 日） 、 US7,940,392B2（公 开 日 2009 年 12 月 24 日） 、 公 开 号 US2010/0321665A1（公开日 2010 年 12 月 23 日） 公开了一种应用于光刻机超精密工件台 的平面光栅测量系统及布置方案， 该测量系统主要利用一维或二维的平面光栅配合读数头 测量工件台水平大行程位移， 垂直方向位移测量采用电涡流或干涉仪等传感器， 但多种传 感器的应用限制工件台测量精度。美国专。
11、利文献公开号 US2011/0255096A1（公开日 2011 年 10 月 20 日） 公开了一种应用于光刻机超精密工件台的光栅测量系统， 该测量系统亦采 用一维或二维光栅配合特定的读数头实现位移测量， 可同时进行水平向和垂向位移测量， 但结构复杂 ； 美国专利文献公开号 US2011/0096334A1（公开日 2011 年 4 月 28 日） 公开了 一种外差干涉仪， 该干涉仪中采用光栅作为目标镜， 但该干涉仪仅能实现一维测量。 日本学 者 GAOWEI 在研究论文 “Design and construction of a two-degree-of-freedom linear e。
12、ncoder for nanometric measurement of stage position and straightness.Precision Engineering34(2010)145-155” 中提出了一种利用衍射干涉原理的单频二维光栅测量系 统， 该光栅测量系统可同时实现水平和垂直向的位移测量， 但由于采用单频激光， 测量信号 易受干扰， 精度难以保证。中国专利文献申请号 201210449244.9（申请日 2012 年 11 月 09 日） 及 201210448734.7（申请日 2012 年 11 月 09 日） 分别公开了一种外差光栅干涉仪测量 系统， 两种干涉。
13、仪测量系统中的读数头结构中均采用了四分之一波片用于改变光束的偏振 说 明 书 CN 103307986 A 3 2/4 页 4 态， 光学结构复杂， 同时光学元件的非理想性将导致测量误差。 发明内容 0006 考虑到上述技术方案的局限， 寻求一种利用光学拍频原理的外差光栅干涉仪测量 系统， 该测量系统能够实现二个线性自由度位移的同时测量 ； 该测量系统测量光路短、 环境 敏感性低、 测量信号易于处理， 分辨率与精度可达亚纳米甚至更高 ； 同时该光栅干涉仪测量 系统还具有结构简洁、 体积小、 质量轻、 易于安装、 方便应用等优点。 采用该测量系统作为超 精密工件台位移测量装置， 能够有效的降低激。
14、光干涉仪测量系统在超精密工件台应用中的 不足， 使光刻机超精密工件台性能提升。该二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统还可应 用于精密机床、 三坐标测量机、 半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量。 0007 本发明的技术方案如下 ： 0008 一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统， 其特征在于 ： 包括双频激光器、 光栅 干涉仪、 测量光栅、 两个接收器和电子信号处理部件 ； 光栅干涉仪包括偏振分光镜、 参考光 栅、 第一折光元件和第二折光元件 ； 双频激光器出射双频正交偏振激光经光纤耦合入射至 偏振分光镜后分光， 透射光为参考光， 反射光为测量光 ； 0009 所述参考光入射至参考光。
15、栅后产生两束衍射反射参考光， 两束参考光经第一折光 元件后偏转形成两束平行参考光， 两束平行参考光回射至偏振分光镜后透射 ； 0010 所述测量光入射至测量光栅后产生两束衍射反射测量光， 两束测量光经第二折光 元件后偏转形成两束平行测量光， 两束平行测量光回射至偏振分光镜后反射 ； 0011 其中的一束透射参考光和一束反射测量光重合形成一路测量光信号， 另一束透射 参考光和另一束反射测量光重合形成另一路测量光信号， 两路测量光信号分别经光纤传输 至两个接收器进行处理分别形成两路测量电信号， 两路测量电信号输入至电子信号处理部 件进行处理 ； 0012 双频激光器同时也输出一束参考电信号至电子信。
16、号处理部件 ； 当测量光栅相对于 光栅干涉仪做水平向和垂向两个自由度的线性运动时， 电子信号处理部件将输出二自由度 线性位移。 0013 上述技术方案中， 所述的参考光栅、 测量光栅均采用一维反射型光栅， 所述的第一 折光元件和第二折光元件均采用两个直角棱镜组成， 两个直角棱镜并列布置。 0014 本发明另一技术方案是 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用两个反射镜 组成。 0015 本发明另一技术方案是 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用截面为等腰 梯形折光的棱镜。 0016 本发明优选技术方案是 ： 所述的第一折光元件和第二折光元件均采用透镜。 0017 本发明另一优选技术方。
17、案是 ： 所述的两个接收器与电子信号处理部件集成为一体 化结构， 所述的两路测量光信号和双频激光器输出的一路参考电信号输入至一体化结构进 行处理后， 输出水平向和垂直向二自由度线性运动位移。 0018 本发明所提供的一种二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统具有以下优点及突 出性效果 ： 0019 该测量系统能够实现二个线性自由度位移的同时测量 ； 该测量系统测量光路短、 说 明 书 CN 103307986 A 4 3/4 页 5 环境敏感性低、 测量信号易于处理， 分辨率与精度可达亚纳米甚至更高 ； 同时该光栅干涉仪 测量系统还具有结构简洁、 体积小、 质量轻、 易于安装、 方便应用等优点。 。
18、应用于光刻机超精 密工件台的位移测量， 对比激光干涉仪测量系统， 在满足测量需求的基础上， 可有效的降低 工件台体积、 质量， 大大提高工件台的动态性能， 使工件台整体性能综合提高。该二自由度 外差光栅干涉仪位移测量系统还可应用于精密机床、 三坐标测量机、 半导体检测设备等的 工件台多自由度位移的精密测量中。 附图说明 0020 图 1 为本发明第一种外差光栅干涉仪位移测量系统示意图。 0021 图 2 为本发明第一种光栅干涉仪内部结构示意图。 0022 图 3 为本发明第二种外差光栅干涉仪位移测量系统示意图。 0023 图 4 为本发明第二种光栅干涉仪内部结构示意图。 0024 图 5 为本。
19、发明第三种光栅干涉仪内部结构示意图。 0025 图 6 为本发明第四种光栅干涉仪内部结构示意图。 0026 图中， 1双频激光器， 2光栅干涉仪， 3测量光栅， 4接收器， 5 电子信号处理部件， 6一体化结构 ； 21偏振分光镜， 22参考光栅， 23a直角 棱镜， 23b反射镜， 23c折光棱镜， 23d透镜。 具体实施方式 0027 下面结合附图对本发明的结构、 原理和具体实施方式作进一步地详细描述。 0028 请参考图1， 图1为本发明第一种外差光栅干涉仪位移测量系统示意图。 如图1所 示， 该二自由度外差光栅干涉仪位移测量系统包括双频激光器 1、 光栅干涉仪 2、 测量光栅 3、 接。
20、收器 4、 电子信号处理部件 5， 测量光栅 3 为一维反射型光栅。 0029 请参考图2， 图2为本发明第一种光栅干涉仪内部结构示意图。 所述的光栅干涉仪 2 包括偏振分光镜 21、 参考光栅 22、 第一折光元件、 第二折光元件， 参考光栅 22 为一维反射 型光栅， 第一折光元件与第二折光元件均采用两个直角棱镜23a组成， 两个直角棱镜23a并 列布置。 0030 结合图 1、 图 2 阐述测量系统原理， 所述的双频激光器 1 出射双频正交偏振激光经 光纤耦合入射至偏振分光镜 21 后分光， 透射光为参考光， 反射光为测量光。 0031 所述参考光入射至参考光栅 22 后产生两束衍射反射。
21、参考光， 两束参考光分别经 两个直角棱镜23a后偏转形成两束平行参考光， 两束平行参考光回射至偏振分光镜21后透 射。 0032 所述测量光入射至测量光栅 3 后产生两束衍射反射测量光， 两束测量光经分别经 两个直角棱镜23a后偏转形成两束平行测量光， 两束平行测量光回射至偏振分光镜21后反 射。 0033 其中的一束透射参考光和一束反射测量光重合形成一路测量光信号， 另一束透射 参考光和另一束反射测量光重合形成另一路测量光信号， 两路测量光信号分别经光纤传输 至两个接收器 4 进行处理分别形成两路测量电信号， 两路测量电信号输入至电子信号处理 部件 5 进行处理。 说 明 书 CN 1033。
22、07986 A 5 4/4 页 6 0034 双频激光器 1 同时也输出一束参考电信号至电子信号处理部件 5 ； 当测量光栅 3 相对于光栅干涉仪 2 做水平向和垂向 （其中垂向运动为微小运动， 运动范围为 1mm） 两个自 由度的线性运动时， 电子信号处理部件 5 将输出二自由度线性位移。 0035 二 自 由 度 运 动 位 移 的 表 达 式 为 x=kx(-)、 z=kz(+)， kx=/4， kz=/4（1+cos ） , 式中 、 为电子信号处理卡的读数值， 为光栅常数， 为激光 波长， 为光栅衍射角， 取 =1m， =632.8nm， 、 的相位分辨率为 2/1024， 外差光 。
23、栅干涉仪的 x、 z 的测量分辨率分别为 0.49nm、 0.18nm。 0036 请参考图3， 图3为本发明第二种外差光栅干涉仪位移测量系统示意图。 如图3所 示， 所述的两个接收器与电子信号处理部件 5 集成为一体化结构 6， 所述的两路测量光信号 和双频激光器输出的一路参考电信号输入至一体化结构 6 进行处理后， 输出水平向和垂直 向二自由度线性运动位移。测量系统采用这种一体化结构 6 可有效的减少系统部件数量， 提高系统的抗干扰能力， 提高系统集成性。 0037 请参考图 4， 图 4 为本发明第二种光栅干涉仪内部结构示意图。如图 4 所示， 光栅 干涉仪内部结构中的第一折光元件、 第。
24、二折光元件均采用两个反射镜 23b 组成。对比采用 直角棱镜 23a 方案， 该方案可消除光束通过直角棱镜所引起的测量非线性， 但反射镜的安 装占据更大的空间。 0038 请参考图 5， 图 5 为本发明第三种光栅干涉仪内部结构示意图。如图 5 所示， 光栅 干涉仪内部结构中的第一折光元件、 第二折光元件均采用截面为等腰梯形的折光棱镜 23c。 该折光棱镜 23c 将一组直角棱镜 23a 集成， 具有结构简洁、 便于安装等优点。 0039 请参考图 6， 图 6 为本发明第四种光栅干涉仪内部结构示意图。如图 6 所示， 光栅 干涉仪内部结构中的第一折光元件、 第二折光元件均采用透镜 23d 实。
25、现光束偏转， 对比折 光棱镜 23c， 采用透镜 23d， 占用空间小， 可使干涉仪结构更加紧凑、 简洁、 便于安装。 0040 上述实施方式中给出的测量系统及结构方案能够实现二个线性自由度位移的同 时测量 ； 且系统测量光路短、 环境敏感性低、 测量信号易于处理， 分辨率与精度可达亚纳米 甚至更高 ； 同时该光栅干涉仪测量系统还具有结构简洁、 体积小、 质量轻、 易于安装、 方便应 用等优点。 应用于光刻机超精密工件台的位移测量， 对比激光干涉仪测量系统， 在满足测量 需求的基础上， 可有效的降低工件台体积、 质量， 大大提高工件台的动态性能， 使工件台整 体性能综合提高。该三自由度外差光栅干涉仪位移测量系统还可应用于精密机床、 三坐标 测量机、 半导体检测设备等的工件台多自由度位移的精密测量中。 说 明 书 CN 103307986 A 6 1/4 页 7 图 1 图 2 说 明 书 附 图 CN 103307986 A 7 2/4 页 8 图 3 图 4 说 明 书 附 图 CN 103307986 A 8 3/4 页 9 图 5 说 明 书 附 图 CN 103307986 A 9 4/4 页 10 图 6 说 明 书 附 图 CN 103307986 A 10 。