偏振光膜、圆偏振光板及使用了它们的有机EL图像显示装置.pdf

提供一种在显示装置用部件中有用的、为薄膜且高偏振光性能的偏振光膜。一种偏振光膜，由含有2种以上的最大吸收波长不同的二色性色素的组合物形成，其具有单轴向的取向方向，且具有满足下述式（I）～（V）所示所有关系的吸收光谱。0.3≦A450/A550＜0.8（I）0.3≦A450/A650＜1.0（II）0.5≦A450≦2 （III）1≦A550≦3 （IV）1≦A650≦3 （V）（式中，A450表示波长450nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度、A550表示波长550nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度、A650表示波长650nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度。）

权利要求书一种偏振光膜，由含有2种以上的最大吸收波长不同的二色性色素的组合物形成，
其具有单轴向的取向方向，且具有满足下述式（I）～（V）所示所有关系的吸收光谱，

0.  3≦A450/A550＜0.8  （I）

0.  3≦A450/A650＜1.0  （II）

0.  5≦A450≦2         （III）
1≦A550≦3           （IV）
1≦A650≦3           （V）
式中，
A450表示波长450nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度、
A550表示波长550nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度、
A650表示波长650nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度。
根据权利要求1所述的偏振光膜，所述组合物为进一步含有聚合性近晶液晶化合物的组合物。
根据权利要求1或2所述的偏振光膜，所述2种以上的二色性色素均为下述式（1）所示的多偶氮系色素，

式（1）中，
n是1或2，
Ar1及Ar3各自独立地表示下述任意基团，

Ar2表示下述任意基团，

A1及A2各自独立地表示下述任意基团，
——H
——NH2
——CN  ——CF3
m为0～10的整数，当在同一基团中具有2个m时，该2个m相互间相同或不同。
根据权利要求1～3的任意一项所述的偏振光膜，其可见度补正单体透过率Ty在43％以上，可见度补正单体偏振度Py在90％以上。
一种圆偏振光板，具有权利要求1～4的任意一项所述的偏振光膜和λ/4层，且满足以下要件（A1）及（A2）。
（A1）上述偏振光膜的吸收轴与上述λ/4层的慢轴所成的角度大致为45°；
（A2）在波长550nm的光下测定的、上述λ/4层的正面延迟值为100～150nm的范围。
根据权利要求5所述的圆偏振光板，其具有上述λ/4层对于可见光的正面延迟值随波长变短而减小的特性。
一种圆偏振光板，依次具有权利要求1～4的任意一项所述的偏振光膜、λ/2层和λ/4层；
并满足以下要件（B1）～（B4）：
（B1）上述偏振光膜的吸收轴与上述λ/2层的慢轴所成的角度大致为15°；
（B2）上述λ/2层的慢轴与上述λ/4层的慢轴所成的角度大致为60°；
（B3）上述λ/2层在波长550nm的光下测定的上述λ/4层的正面延迟值为200～300nm的范围；
（B4）上述λ/4层在波长550nm的光下测定的上述λ/4层的正面延迟值为100～150nm的范围。
一种有机EL显示装置，具备权利要求5～7的任意一项所述的圆偏振光板和有机EL元件。
根据权利要求8所述的有机EL显示装置，在将由发光层发出的光之中波长450nm的光的强度设为I450、波长550nm的光的强度设为I550、波长650nm的光的强度设为I650时，具有满足下示所有关系的发光光谱
1≦I450/I550＜2    （X）
1≦A450/A650＜2    （XI）。

说明书偏振光膜、圆偏振光板及使用了它们的有机EL图像显示装置
技术领域
本发明涉及偏振光膜、圆偏振光板及使用了它们的有机EL图像显示装置。
背景技术
在有机EL图像显示装置中，为了防止亮处中的外来光线的反射，通常使用有圆偏振光板。作为像这样的圆偏振光板，已知的有含有例如将PVA(聚乙烯醇)用碘染色后的偏振光膜(碘‑PVA偏振光膜)的偏振光板(参照例如专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
【专利文献1】日本专利特开平7‑142170号公报
发明内容
但是，在具有含有现有偏振光膜的圆偏振光板的有机EL图像显示装置中，存在偏振光膜将有机EL发光元件发出的光的一半光量都吸收的问题。因此，就必须提高有机EL发光元件的发光强度，从而导致有机EL图像显示装置的短寿命化。尤其是对于寿命短的蓝光(波长450nm附近的发光元件)，其历时劣化更为显著。然而，至今也没有实现能解决上述问题的圆偏振光板及偏振光膜。
本发明包含以下发明。
〔1〕一种偏振光膜(以下根据情况称为“本偏振光膜”)，由含有2种以上的最大吸收波长不同的二色性色素的组合物(以下根据情况称为“偏振光膜形成用组合物”)形成，
其具有单轴向的取向方向，且具有满足下述式(I)～(V)所示所有关系的吸收光谱，
0.3≤A450/A550＜0.8    (I)
0.3≤A450/A650＜1.0    (II)
0.5≤A450≤2           (III)
1≤A550≤3             (IV)
1≤A650≤3        (V)
(式中，
A450表示波长450nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度、
A550表示波长550nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度、
A650表示波长650nm处的与上述取向方向平行的偏振光的吸光度。)
〔2〕上述〔1〕所述的偏振光膜，上述组合物是进一步含有聚合性近晶液晶化合物的组合物。
〔3〕上述〔1〕或〔2〕所述的偏振光膜，上述2种以上的二色性色素均为下述式(1)所示的多偶氮系色素。

[式(1)中，
n是1或2。
Ar1及Ar3各自独立地表示下述任意基团。

Ar2表示下述任意基团。

A1及A2各自独立地表示下述任意基团。

m是0～10的整数，在同一基团中具有2个m时，该2个m相互间相同或不同。]
〔4〕上述〔1〕～〔3〕的任意一项所述的偏振光膜，其可见度补正(視感度補正)单体透过率Ty在43％以上，可见度补正单体偏振度Py在90％以上。
〔5〕一种圆偏振光板(以下根据情况称为“本圆偏振光板”)，其具有上述〔1〕～〔4〕的任意一项所述的偏振光膜和λ/4层，且满足以下要件(A1)及(A2)。
(A1)上述偏振光膜的吸收轴，与上述λ/4层的慢轴所成的角度大致为45°；
(A2)在波长550nm的光下测定的、上述λ/4层的正面延迟值为100～150nm的范围。
〔6〕上述〔5〕所述的圆偏振光板，具有上述λ/4层对于可见光的正面延迟值随波长变短而减小的特性。
〔7〕一种圆偏振光板，依次具有上述〔1〕～〔4〕的任意一项所述的偏振光膜、λ/2层和λ/4层，且满足以下要件(B1)～(B4)。
(B1)上述偏振光膜的吸收轴与上述λ/2层的慢轴所成的角度大致为15°；
(B2)上述λ/2层的慢轴与上述λ/4层的慢轴所成的角度大致为60°；
(B3)上述λ/2层在波长550nm的光下测定的上述λ/4层的正面延迟值为200～300nm的范围；
(B4)上述λ/4层在波长550nm的光下测定的上述λ/4层的正面延迟值为100～150nm的范围。
〔8〕一种有机EL显示装置(以下根据情况称为“本有机EL显示装置”)，具备上述〔5〕～〔7〕的任意一项所述的圆偏振光板和有机EL元件。
〔9〕上述〔8〕所述的有机EL显示装置，在将由发光层发出的光之中波长450nm的光的强度设为I450、波长550nm的光的强度设为I550、波长650nm的光的强度设为I650时，具有满足下示所有关系的发光光谱。
1≤I450/I550＜2  (X)
1≤A450/A650＜2  (XI)
发明效果
根据本偏振光膜可提供一种用于有机EL图像显示装置时，减少了有机EL发光元件发出的光的吸收、尤其是波长450nm附近的光的吸收的圆偏振光板(本圆偏振光板)。
附图说明
【图1】是本偏振光膜的连续制造方法中的一个实施方式的截面示意图。
【图2】是本圆偏振光板的一个实施方式中，本偏振光膜的吸收轴与λ/4层的慢轴所成角度的投影示意图。
【图3】是本偏振光膜的连续制造方法中的一个实施方式的截面示意图。
【图4】是本有机EL显示装置的构成的截面示意图。
【图5】是本有机EL显示装置30的C部分的层积顺序的截面示意图。
【图6】是本有机EL显示装置的构成的截面示意图。
符号说明
1      透明基材
2      光取向膜
3      本偏振光膜
100    起偏器
101    第1层积体
102    第2层积体
103    第3层积体
210    第1滚筒    210A    卷芯
220    第2滚筒    220A    卷芯
211A，211B  涂布装置
212A，212B  干燥炉
213A 偏振光UV照射装置
213B 光照射装置
300  辅助滚筒
30  EL显示装置
31  偏振光膜
32  相位差膜
33  基板
34  层间绝缘膜
35  像素电极
36  发光层
37  阴极电极
38  干燥剂
39  封装盖
40  薄膜晶体管
41  肋状物
42  薄膜封止膜
44  EL显示装置
具体实施方式
通过将本偏振光膜作成后述的含有本偏振光膜的本圆偏振光板，可实现高寿命的本有机EL显示装置。
进一步优选式(I)中的A450/A550满足0.5≤A450/A550＜0.8的关系。
进一步优选式(II)中的A450/A650满足0.5≤A450/A650＜0.8的关系。
进一步优选式(III)中的A450满足0.5≤A450≤1.6的关系，进一步优选式(IV)中的A550满足1.0≤A550≤2.0的关系，进一步优选式(V)中的A650满足1.0≤A650≤2.0的关系。
本说明书中的附图尺寸权为便于观看。
<二色性色素>
偏振光膜形成用组合物含有2种以上的最大吸收波长不同的二色性色素。二色性色素是指，具有分子的长轴方向上的吸光度不同于短轴方向上的吸光度的性质的色素。二色性色素可以是染料或颜料。该染料可以多种使用，颜料同样可多种使用，也可将染料和颜料组合使用。
优选二色性色素在300～700nm的范围具有最大吸收波长(λMAX)。作为这样的二色性色素，可列举例如吖啶色素、恶嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素等。其中，二色性色素优选偶氮色素。作为偶氮色素，可列举单偶氮色素、二偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及芪偶氮色素等，优选二偶氮色素及三偶氮色素。
特别优选式(1)所示的二色性色素(以下根据情况称为“偶氮色素(1)”)。进一步优选在波长300～700nm的范围显示最大吸收波长(λMAX)的偶氮色素(1)。
优选偶氮色素(1)的偶氮苯部位的立体异构为反式。
作为偶氮色素(1)，可列举分别由例如式(1‑1)～式(1‑27)所表示的化合物等。


偶氮色素(1)的具体例中，更优选分别由式(1‑2)、式(1‑5)、式(1‑6)、式(1‑8)、式(1‑10)、式(1‑12)、式(1‑13)、式(1‑15)、式(1‑16)、式(1‑19)、式(1‑20)、式(1‑21)、式(1‑22)、式(1‑23)、式(1‑24)及式(1‑26)表示的化合物，特别优选分别由式(1‑2)、式(1‑5)、式(1‑8)、式(1‑10)、式(1‑15)、式(1‑21)、式(1‑22)及式(1‑26)表示的化合物。
作为蒽醌色素，优选式(1‑28)所示的化合物。

[式(1‑28)中，
R1～R8各自独立地表示氢原子、‑Rx、‑NH2、‑NHRx、‑NRx2、‑SRx或卤原子。
Rx表示碳数1～4的烷基或碳数6～12的芳基。]
作为恶嗪色素，优选式(1‑29)所示的化合物。

[式(1‑29)中，
R9～R15各自独立地表示氢原子、‑Rx、‑NH2、‑NHRx、‑NRx2、‑SRx或卤原子。
Rx表示碳数1～4的烷基或碳数6～12的芳基。]
作为吖啶色素，优选式(1‑30)所示的化合物。

[式(1‑30)中，
R16～R23各自独立地表示氢原子、‑Rx、‑NH2、‑NHRx、‑NRx 2、‑SRx或卤原子。
Rx表示碳数1～4的烷基或碳数6～12的芳基。]
在以上式(1‑28)、式(1‑29)及式(1‑30)中，Rx的碳数1～6的烷基是甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基等，碳数6～12的芳基是苯基、甲苯基、二甲苯基及萘基等。
作为花青色素，优选式(1‑31)所示的化合物及式(1‑32)所示的化合物。

[式(1‑31)中，
D1及D2各自独立地表示式(1‑31a)～式(1‑31d)的任意所示的基团。

n5表示1～3的整数。]

[式(1‑32)中，
D3及D4各自独立地表示式(1‑32a)～式(1‑32h)的任意所示的基团。

n6表示1～3的整数。]
偏振光膜形成用组合物中含有的二色性色素虽为2种以上，但进一步优选含有2种至3种的二色性色素，更优选含有2种至3种的偶氮色素(1)。该2种至3种的偶氮色素(1)的组合[以“第1色素”、“第2色素”及“第3色素”的名称表示。]中，合适的组合如下。
【表1】

【表2】

根据含有上表所示的偶氮色素(1)组合的偏振光膜形成用组合物，通过后述的本偏振光膜的制造方法，易于得到具有满足式(I)～式(V)所示所有关系的吸收光谱的本偏振光膜。
另，表中的标记对应于偶氮色素(1)的具体例的符号，例如，“1‑5”意指“式(1‑5)所示的偶氮色素(1)”。
偏振光膜形成用组合物中的二色性色素的含量，例如，相对于偏振光膜形成用组合物的总100质量份，优选1质量份以上90质量份以下，更优选1质量份以上50质量份以下，进一步优选3质量份以上10质量份以下。
偏振光膜形成用组合物中的二色性色素的含量，例如，相对于后述的聚合性液晶化合物的总100质量份，优选0.1质量份以上50质量份以下，更优选0.1质量份以上20质量份以下，进一步优选0.1质量份以上10质量份以下。当二色性色素的含量在该范围内时，可在不打乱聚合性液晶化合物的取向的情况下，使聚合性液晶化合物聚合。
<聚合性液晶化合物>
偏振光膜形成用组合物基于获得具有实用性强度的偏振光膜的点，优选含有聚合性液晶化合物。聚合性液晶化合物是指，具有聚合性基团，且显示液晶状态的化合物。聚合性基是指，参与聚合性液晶化合物的聚合反应的基团。
聚合性液晶化合物可列举，聚合性向列液晶化合物及聚合性近晶液晶化合物，基于偏振光性能的观点，优选聚合性近晶液晶化合物。
聚合性近晶液晶化合物所呈现的液晶状态，更优选为高次元近晶相。此处所述的高次元近晶相是近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相、近晶K相及近晶L相，其中，更优选近晶B相、近晶F相及近晶I相。
根据聚合性近晶液晶化合物所呈现的液晶状态，可获得取向有序度高的本偏振光膜。此外，这样的取向有序度高的本偏振光膜，在X射线衍射测定中能获得布拉格峰。
布拉格峰是指，由来于分子取向的面周期结构的峰，根据不同的偏振光膜形成用组合物，可获得周期间隔为的本偏振光膜。
优选的聚合性近晶液晶化合物可列举，例如式(2)所示的化合物(以下根据情况称为“化合物(2))。
U1‑V1‑W1‑X1‑Y1‑X2‑Y2‑X3‑W2‑V2‑U2    (2)
[式(2)中，
X1、X2及X3各自独立地表示可具有取代基的对亚苯基或可具有取代基的1，4‑环亚己基。其中，X1、X2及X3之中至少有1个是可具有取代基的对亚苯基。
Y1及Y2各自独立地表示‑CH2CH2‑、‑CH2O‑、‑COO‑、‑OCOO‑、单键、‑N＝N‑、‑CRa＝CRb‑、‑C≡C‑或‑CRa＝N‑。Ra及Rb各自独立地表示氢原子或碳数1～4的烷基。
U1表示氢原子或聚合性基团。
U2表示聚合性基团。
W1及W2各自独立地表示单键、‑O‑、‑S‑、‑COO‑或‑OCOO‑。
V1及V2各自独立地表示可具有取代基的碳数1～20的亚烷基，构成该亚烷基的‑CH2‑可被‑O‑、‑S‑或‑NH‑替换。]
X1、X2及X3之中虽至少1个是可具有取代基的1，4‑亚苯基，但优选至少有2个是可具有取代基的对亚苯基。
优选对亚苯基为无取代。优选1，4‑环亚己基为反式‑1，4‑环亚己基，更优选该反式‑1，4‑环亚己基也为无取代。
对亚苯基或1，4‑环亚己基所任意具有的取代基可列举，甲基、乙基及丁基等碳数1～4的烷基；氰基；卤原子等。另，构成1，4‑环亚己基的‑CH2‑可被‑O‑、‑S‑或‑NR‑替换。R为碳数1～6的烷基或苯基。
优选Y1为‑CH2CH2‑、‑COO‑或单键，优选Y2为‑CH2CH2‑或‑CH2O‑。
U2是聚合性基团。U1为氢原子或聚合性基团，优选聚合性基团。即，优选U1及U2均为聚合性基团。优选U1及U2均为光聚合性基团。光聚合性基团是指，能通过后述的光聚合引发剂产生的活性自由基或酸等参与聚合反应的基团。如果使用具有光聚合性基团的聚合性近晶液晶化合物，则可在更低温的条件下，使聚合性近晶液晶化合物聚合，在这一点上是有利的。
U1及U2聚合性基团相互之间可以不同，但优选为同种类的基团。作为聚合性基团可列举，乙烯基、乙烯基氧基、1‑氯乙烯基、异丙烯基、4‑乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙基、氧杂环丁基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基氧基、环氧乙基及氧杂环丁基，更优选丙烯酰氧基。U1及U2为同种类的聚合性基团是指，例如U1及U2均为丙烯酰氧基的情况等。
V1及V2的亚烷基可列举，亚甲基、亚乙基、1，3‑亚丙基、1，3‑亚丁基、1，4‑亚丁基、1，5‑亚戊基、1，6‑亚己基、1，7‑亚庚基、1，8‑亚辛基、1，10‑亚癸基、1，14‑亚十四烷基及1，20‑亚二十烷基等。V1及V2优选碳数2～12的亚烷基，更优选碳数6～12的亚烷基。
亚烷基任意具有的取代基可列举氰基及卤原子等，但亚烷基优选为无取代，更优选为无取代且直链状亚烷基。
W1及W2各自独立地优选为单键或‑O‑。
化合物(2)可列举分别由式(2‑1)～式(2‑24)表示的化合物等。当化合物(2)的具体例具有1，4‑环亚己基时，优选该1，4‑环亚己基为反式体。


聚合性近晶液晶化合物可单独或2种以上混合后，用于偏振光膜形成用组合物。此外，也可以是使用2种以上的聚合性近晶液晶化合物，该2种以上的聚合性近晶液晶化合物之中至少有1种为化合物(2)。
将聚合性近晶液晶化合物用于偏振光膜形成用组合物时，预先求得聚合性近晶液晶化合物的相转变温度，调整偏振光膜形成用组合物的聚合性近晶液晶化合物之外的成分，使聚合性近晶液晶化合物能够在低于该相转变温度的温度条件下聚合。作为能控制这样的聚合温度的成分，可列举后述的光聚合引发剂、光增敏剂及阻聚剂等。通过适当调整它们的种类及量，可控制聚合性近晶液晶化合物的聚合温度。另，在偏振光膜形成用组合物中使用2种以上的聚合性近晶液晶化合物时，也是求得该2种以上的聚合性近晶液晶化合物的混合物的相转变温度后，与上述同样地来控制聚合温度。
化合物(2)之中，优选选自分别由式(2‑2)、式(2‑3)、式(2‑4)、式(2‑6)、式(2‑7)、式(2‑8)、式(2‑13)、式(2‑14)、式(2‑15)及式(2‑24)表示的化合物中的至少1种。
通过混合2种以上聚合性近晶液晶化合物，或与同时使用的聚合引发剂的相互作用，可容易地在低于相转变温度的温度条件下，即可在充分保持高次元近晶相液晶状态的情况下，使之聚合。更具体地，聚合性近晶液晶化合物优选为，通过与聚合引发剂的相互作用，在70℃以下、优选60℃以下的温度条件下，可充分保持高次元近晶相液晶状态而聚合的化合物。
偏振光膜形成用组合物中含有的聚合性近晶液晶化合物可以是单独一种，或多种(2种以上)，但优选为多种。
在使用含有聚合性近晶液晶化合物的偏振光膜形成用组合物时，聚合性近晶液晶化合物的含有比例相对于偏振光膜形成用组合物的固体成分，优选70～99.9质量％，更优选90～99.9质量％。当聚合性近晶液晶化合物的含有比例在上述范围内时，具有聚合性近晶液晶化合物的取向性变高的倾向。此处，固体成分是指，从偏振光膜形成用组合物中除去溶剂等挥发性成分后的成分的总量。另，当偏振光膜形成用组合物中含有多种聚合性近晶液晶化合物时，其总含有比例在上述范围内即可。
<溶剂>
偏振光膜形成用组合物中也可含有溶剂。一般地，由于聚合性近晶液晶化合物的粘度高，故通过含有溶剂可使其易于涂布，其结果是偏振光膜易于形成的情况多。溶剂优选能溶解聚合性近晶液晶化合物以及二色性色素的溶剂。此外，优选对偏振光膜形成用组合物的聚合反应表现为惰性的溶剂。
溶剂可列举，甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚及丙二醇单甲基醚等醇溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ‑丁内酯或丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶剂；丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、2‑庚酮及甲基异丁基酮等酮溶剂；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烃溶剂；甲苯及二甲苯(二甲苯可以是o‑体、m‑体及p‑体中的任意，也可以是从中选出的2种以上的混合物)等芳香族烃溶剂、乙腈等腈溶剂；四氢呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶剂；氯仿及氯苯等含氯溶剂等。这些溶剂可单独一种或多种组合使用。
溶剂的含量相对于上述偏振光膜形成用组合物的总量，优选50～98质量％。换言之，偏振光膜形成用组合物中的固体成分优选2～50质量％。固体成分在2质量％以上时，具有更易获得薄型的本偏振光膜的倾向。另一方面，该固体成分在50质量％以下时，偏振光膜形成用组合物的粘度变低，使得偏振光膜的厚度大致为均一，由此具有该偏振光膜不易产生不均匀的倾向。此外，相关的固体成分可根据能形成后述偏振光膜的厚度来决定。
<聚合反应助剂>
偏振光膜形成用组合物优选含有聚合引发剂。该聚合引发剂是能开始聚合性近晶液晶化合物的聚合反应的化合物，基于能在更低温的条件下开始聚合反应的点，优选光聚合引发剂。具体地，将能通过光的作用产生活性自由基或酸的化合物用作光聚合引发剂。光聚合引发剂之中，更优选由光的作用产生自由基的引发剂。
聚合引发剂可列举，例如苯偶姻化合物、二苯甲酮化合物、苯烷基酮化合物、酰基氧化膦化合物、三嗪化合物、碘鎓盐及锍盐等。
苯偶姻化合物可列举，例如苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚及苯偶姻异丁基醚等。
二苯甲酮化合物可列举，例如二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4‑苯基二苯甲酮、4‑苯甲酰基‑4’‑甲基二苯硫醚、3，3’，4，4’‑四(叔丁基过氧基羰基)二苯甲酮及2，4，6‑三甲基二苯甲酮等。
苯烷基酮化合物可列举，例如二乙氧基苯乙酮、2‑甲基‑2‑吗啉代‑1‑(4‑甲基硫代苯基)‑1‑丙酮、2‑苄基‑2‑二甲基氨基‑1‑(4‑吗啉苯基)‑1‑丁酮、2‑羟基‑2‑甲基‑1‑苯基‑1‑丙酮、1，2‑二苯基‑2，2‑二甲氧基‑1‑乙酮、2‑羟基‑2‑甲基‑1‑〔4‑(2‑羟基乙氧基)苯基〕‑1‑丙酮、1‑羟基环己基苯基酮及2‑羟基‑2‑甲基‑1‑〔4‑(1‑甲基乙烯基)苯基〕‑1‑丙酮的低聚物等。
酰基氧化膦化合物可列举，2，4，6‑三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦及二(2，4，6‑三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等。
三嗪化合物可列举，例如2，4‑二(三氯甲基)‑6‑(4‑甲氧基苯基)‑1，3，5‑三嗪、2，4‑二(三氯甲基)‑6‑(4‑甲氧基萘基)‑1，3，5‑三嗪、2，4‑二(三氯甲基)‑6‑(4‑甲氧基苯乙烯基)‑1，3，5‑三嗪、2，4‑二(三氯甲基)‑6‑〔2‑(5‑甲基呋喃‑2‑基)乙烯基〕‑1，3，5‑三嗪、2，4‑二(三氯甲基)‑6‑〔2‑(呋喃‑2‑基)乙烯基〕‑1，3，5‑三嗪、2，4‑二(三氯甲基)‑6‑〔2‑(4‑二乙基氨基‑2‑甲基苯基)乙烯基〕‑1，3，5‑三嗪及2，4‑二(三氯甲基)‑6‑〔2‑(3，4‑二甲氧基苯基)乙烯基〕‑1，3，5‑三嗪等。
聚合引发剂可使用容易从市场购入的产品。市售的聚合引发剂可列举，“イルガキユア(Irgacure)907”、“イルガキユア184”、“イルガキユア651”、“イルガキユア819”、“イルガキユア250”、“イルガキユア369”(チバ·ジヤパン(株))；“セイクオ一ルBZ”、“セイクオ一ルZ”、“セイクオ一ルBEE”(精工化学(株))；“カヤキユア一(kayacure)BP100”(日本化药(株))；“カヤキユア一UVI‑6992”(ダウ社制)；“アデカオプトマ一SP‑152”、“アデカオプトマ一SP‑170”((株)ADEKA)；“TAZ‑A”、“TAZ‑PP”(日本シイベルヘグナ一社)；及“TAZ‑104”(三和ケミカル社)等。
当偏振光膜形成用组合物含有聚合引发剂时，其含量虽然可根据偏振光膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)的种类及其量适当地进行调节，但例如相对于聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)的总量100质量份，聚合引发剂的含量优选0.1～30质量份，更优选0.5～20质量份，进一步优选0.5～10质量份。当聚合性引发剂的含量在该范围内时，由于可在不打乱聚合性近晶液晶化合物的取向的情况下使之聚合，故可在聚合性近晶液晶化合物保持高次元近晶相液晶状态的情况下进行聚合。
当偏振光膜形成用组合物含有聚合引发剂时，该偏振光膜形成用组合物中也可含有增敏剂。增敏剂优选光增敏剂。增敏剂可列举，例如氧杂蒽酮及噻吨酮等氧杂蒽酮化合物(例如2，4‑二乙基噻吨酮、2‑异丙基噻吨酮等)；蒽及含有烷氧基的蒽(例如、二丁氧基蒽等)等蒽化合物；酚噻嗪及红荧烯等。
当偏振光膜形成用组合物含有聚合引发剂及增敏剂时，可进一步促进偏振光膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)的聚合反应。虽然增敏剂的使用量可根据并用的聚合引发剂及聚合性近晶液晶化合物的种类及其量适当地进行调节，但例如相对于聚合性近晶液晶化合物的总量100质量份，优选0.1～30质量份，更优选0.5～10质量份，进一步优选0.5～8质量份。
虽说明了通过使偏振光膜形成用组合物中含有增敏剂，可促进聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)的聚合反应，但为了使该聚合反应稳定地进行，偏振光膜形成用组合物中也可适度含有阻聚剂。通过含有阻聚剂，可控制聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)的聚合反应的进展。
阻聚剂可列举，例如对苯二酚、含烷氧基对苯二酚、含烷氧基邻苯二酚(例如、丁基邻苯二酚等)、连苯三酚、2，2，6，6‑四甲基‑1‑哌啶氧基自由基等自由基清除剂；苯硫酚类；β‑萘基胺类及β‑萘酚类等。
当偏振光膜形成用组合物含有阻聚剂时，虽然其含量可根据使用的聚合性近晶液晶化合物的种类及其量，以及增敏剂的使用量等适当地进行调节，但例如相对于聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)100质量份，阻聚剂的含量优选0.1～30质量份，更优选0.5～10质量份，进一步优选0.5～8质量份。当阻聚剂的含量在该范围内时，由于可在不打乱偏振光膜形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)的取向的情况下使之聚合，故聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)可更进一步在良好地保持高次元近晶相液晶状态的情况下进行聚合。
<流平剂(レベリング剤)>
优选偏振光膜形成用组合物含有流平剂。流平剂具有调整偏振光膜形成用组合物的流动性，使涂布偏振光膜形成用组合物而得的涂布膜更平坦的功能，可列举表面活性剂等。流平剂进一步优选从以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂及以含氟原子化合物为主成分的流平剂之中选出的至少1种。
以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂可列举，“BYK‑350”、“BYK‑352”、“BYK‑353”、“BYK‑354”、“BYK‑355”、“BYK‑358N”、“BYK‑361N”、“BYK‑380”、“BYK‑381”及“BYK‑392”[BYK Chemie社]等。
以含氟原子化合物为主成分的流平剂可列举，“Mega‑fac(メガフアツク)R‑08”、同“R‑30”、同“R‑90”、同“F‑410”、同“F‑411”、同“F‑443”、同“F‑445”、同“F‑470”、同“F‑471”、同“F‑477”、同“F‑479”、同“F‑482”及同“F‑483”[DIC(株)]；“Surflon(サ一フロン)S‑381”、同“S‑382”、同“S‑383”、同“S‑393”、同“SC‑101”、同“SC‑105”、“KH‑40”及“SA‑100”[AGCセイミケミカル(株)]；“E1830”、“E5844”[(株)Daikin Fine Chemical(ダイキンフアインケミカル)研究所]；“エフトツプEF301”、同“EF303”、同“EF351”及同“EF352”[三菱マテリアル电子化成(株)]等。
当偏振光膜形成用组合物含有流平剂时，其含量相对于聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)100质量份，优选0.3质量份以上5质量份以下、进一步优选0.5质量份以上3质量份以下。当流平剂的含量在上述范围内时，则易于使聚合性液晶化合物(聚合性近晶液晶化合物)水平取向，且具有使形成的偏振光层变得更平滑的倾向。若流平剂相对于聚合性近晶液晶化合物的含量超过上述范围，则具有使所获得的本偏振光层易于产生不均匀的倾向。另，偏振光膜形成用组合物可含有2种以上的流平剂。
<本偏振光膜的形成方法>
接着，对由偏振光膜形成用组合物形成本偏振光膜的方法进行说明。相关的方法中，优选将偏振光膜形成用组合物涂布在基材上、优选透明基材上来形成本偏振光膜。
<透明基材>
透明基材是指具有能透过光、尤其是可见光的透明性的基材。透明性是指对于在波长380～780nm范围内的光线，其透过率在80％以上的特性。具体地，透明基材可列举玻璃基材，或者塑料制透光性片及透光性膜。另，构成该透光性片或透光性膜的塑料可列举，例如聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等聚烯烃；环状烯烃系树脂；聚乙烯醇；聚对苯二甲酸乙二醇酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三醋酸纤维素、二醋酸纤维素及纤维素乙酸酯丙酸酯等纤维素酯；聚萘二甲酸乙二醇酯；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等塑料。透明基材的具体例当中，对于优选的塑料制透光性片及透光性膜，优选塑料制透光性膜，即高分子膜。高分子膜之中，基于容易从市场购入、透明性优异的点，尤其优选纤维素酯、环状烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚甲基丙烯酸酯构成的高分子膜。在使用透明基材制造本偏振光膜时，基于搬运、保管透明基材时不易发生破裂等破损，及容易操作的点，可在透明基材上贴附支持基材等。此外，如后所述，在由本偏振光膜制造圆偏振光板时，存在赋予透明基材以相位差性的情况。在这种情况下，准备好高分子膜作为透明基材，通过对高分子膜进行拉伸处理等，赋予高分子膜相位差性，作成相位差性膜后，将相位差性膜用作透明基材即可。另，对赋予透明基材(高分子膜)以相位差性的方法进行说明。
在高分子膜之中，赋予其相位差性时，基于容易控制该相位差值的点，优选纤维素酯、聚碳酸酯或或环状烯烃系树脂构成的膜(纤维素酯膜、聚碳酸酯膜、环状烯烃系树脂膜)。以下对这3种高分子膜进行详述。
对于构成纤维素酯膜的纤维素酯，其纤维素中所含有的至少一部分羟基被乙酸酯化。由这样的纤维素酯构成的纤维素酯膜可从市场容易地购入。市售的三醋酸纤维素膜有例如、“FUJITAC膜”(富士胶片(株))；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(柯尼卡美能达光电(株))等。这样的市售的三醋酸纤维素膜可直接或根据需要赋予相位差性后再用作透明基材。此外，也可对准备好的透明基材的表面实施防眩处理、硬涂层处理、防静电处理及防反射处理等表面处理后，再作为透明基材使用。
在赋予高分子膜以相位差性时，如上所述，采取将该高分子膜拉伸等的方法。对塑料、即热塑性树脂构成的高分子膜，均可进行拉伸处理，但基于容易控制相位差性的点，优选环状烯烃系树脂膜。构成环状烯烃系树脂膜的环状烯烃系树脂是指由例如降冰片烯或多环降冰片烯系单体等环状烯烃的聚合物或共聚物(环状烯烃系树脂)构成的树脂，该环状烯烃系树脂可含有部分开环结构。此外，也可对含有开环结构的环状烯烃系树脂进行加氢。进一步，基于不明显损害透明性的点，或不明显增大吸湿性的点，该环状烯烃系树脂可以是例如、环状烯烃与链状烯烃或乙烯化芳香族化合物(苯乙烯等)的共聚物。此外，对于环状烯烃系树脂，可向该分子内导入极性基团。
当环状烯烃系树脂是环状烯烃与链状烯烃或具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物时，该链状烯烃是乙烯或丙烯等，此外，乙烯化芳香族化合物是苯乙烯、α‑甲基苯乙烯及烷基取代苯乙烯等。在这样的共聚物中，来自于环状烯烃的结构单元的含有比例，相对于环状烯烃系树脂的总结构单元，在50摩尔％以下，例如在15～50摩尔％程度的范围。当环状烯烃系树脂是由环状烯烃与链状烯烃与乙烯化芳香族化合物获得的三元共聚物时，例如，来自于链状烯烃的结构单元的含有比例相对于环状烯烃系树脂的总结构单元，在5～80摩尔％的程度，来自于乙烯化芳香族化合物的结构单元的含有比例，在5～80摩尔％的程度。这样的三元共聚物的环状烯烃系树脂具有在制造环状烯烃系树脂时，能相对减少高价环状烯烃的使用量的优点。
能制造环状烯烃系树脂膜的环状烯烃系树脂可容易地从市场购入。市售的环状烯烃系树脂可列举，“Topas”[Ticona社(德国)]；“ア一トン”[JSR(株)]；“ゼオノア(ZEONOR)”及“ゼオネツクス(ZEONEX)”[日本ゼオン(株)]；“アペル”[三井化学(株)制]等。可将这样的环状烯烃系树脂通过例如溶剂铸塑法或溶融挤压法等公知的制膜方法制成膜(环状烯烃系树脂膜)。此外，也可使用已经以膜的形态出售的环状烯烃系树脂膜。这样的市售环状烯烃系树脂膜可列举，例如“エスシ一ナ”及“SCA40”[积水化学工业(株)]；“ゼオノアフイルム”[オプテス(株)]；“ア一トンフイルム”[JSR(株)]等。
此外，对于聚碳酸酯膜，也可以容易地从市场入手被赋予了相位差性的膜。这样的聚碳酸酯膜有单轴拉伸膜WRF‑S[(改性聚碳酸酯系树脂)帝人化成(株)制]等。
接着，对赋予高分子膜相位差性的方法进行简单地说明。高分子膜可通过公知的拉伸方法赋予相位差性。例如，准备好高分子膜被卷绕成滚筒状的滚筒(卷筒体)，从该卷筒体连续开卷输出膜，将开卷输出的膜运送到加热炉。加热炉的设定温度是在高分子膜的玻璃化转变温度附近(℃)～[玻璃化转变温度+100](℃)的范围，优选玻璃化转变温度附近(℃)～[玻璃化转变温度+50](℃)的范围。在加热炉中，向膜前行的方向，或与前行方向正交的方向进行拉伸时，调整搬运方向或张力使之以任意角度倾斜而进行单轴或双轴热拉伸处理。拉伸的倍率通常为1.1～6倍左右的范围，优选1.1～3.5倍左右的范围。此外，作为在倾斜方向进行拉伸的方法，只要是能连续地使取向轴沿期望角度进行倾斜的方法，即无特别限定，可采用公知的拉伸方法。这样的拉伸方法可列举，例如日本专利特开昭50‑83482号公报或日本专利特开平2‑113920号公报所记载的方法。)
作为透明基材使用时，基于具有能实际操作程度的重量的点，及能确保充分的透明性的点，高分子膜的厚度优选薄者，但若过薄，则具有强度下降，加工性差的趋势。因此，这些膜的适当厚度在例如大致5～300μm，优选20～200μm。在将本偏振光膜作为后述的圆偏振光板使用时，基于使用该圆偏振光板的显示装置的移动用途的设想，特别优选膜的厚度在大致20～100μm。
另，在通过拉伸赋予膜以相位差性时，拉伸后的厚度根据拉伸前的膜的厚度和拉伸倍率来决定。
<取向膜>
本偏振光膜的制造中使用的基材上，优选形成有取向膜。此时，偏振光膜形成用组合物涂布于取向膜上。因此，优选取向膜具有经由偏振光膜形成用组合物的涂布等而不溶解的程度的溶剂耐性。此外，还优选具有为除去溶剂或液晶取向而进行的加热处理中的耐热性。涉及的取向膜可使用取向性聚合物。
取向性聚合物可列举，例如分子内中具有酰胺键的聚酰胺或明胶类、分子内具有酰亚胺键的聚酰亚胺及其水解物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚恶唑、聚乙烯亚胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酸或聚丙烯酸酯类等聚合物。其中，优选聚乙烯醇。形成取向膜的这些取向性聚合物可单独使用或2种以上混合使用。
取向性聚合物可作为溶解于溶剂的取向性聚合物组合物(含有取向性聚合物的溶液)，通过涂布于基材上，在基材上形成取向膜。取向性聚合物组合物使用的溶剂无特别制限，具体地可列举，水；甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂及丙二醇单甲基醚等醇溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ‑丁内酯、丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶剂；丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮及甲基异丁基酮等酮溶剂；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烃溶剂；甲苯及二甲苯等芳香族烃溶剂；乙腈等腈溶剂；四氢呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶剂；氯仿及氯苯等氯取代烃溶剂等。这些有机溶剂可单独使用或多种组合使用。
此外用于形成取向膜的取向性聚合物组合物，可直接使用市售的取向膜材料。市售的取向膜材料可列举，サンエバ一(注册商标、日产化学工业(株)制)及オプトマ一(注册商标、JSR(株)制)等。
作为在基材上形成取向膜的方法，例如在基材上，涂布取向性聚合物组合物或市售的取向膜材料，之后通过退火处理，可在基材上形成取向膜。如上获得的取向膜的厚度在例如10nm～10000nm的范围，优选10nm～1000nm的范围。
为了对取向膜赋予锚定力，优选根据需要进行摩擦(摩擦法)。通过赋予锚定力，可使聚合性近晶液晶化合物沿所期望的方向(取向方向)取向。
作为通过摩擦法赋予锚定力的方法，可列举例如准备好卷绕有摩擦布的、旋转的摩擦滚筒，将在基材上形成了取向膜形成用涂布膜的层积体放在载物台上，向旋转着的摩擦滚筒运送，由此使取向膜形成用涂布膜与旋转着的摩擦滚筒相接触的方法。
此外，也可使用所谓的光取向膜。光取向膜也可形成光取向诱发层，通过照射偏振光(优选偏振光UV)赋予锚定力。在形成光取向诱发层时，首先，准备好含有具有光反应性基团的聚合物或单体及溶剂的组合物(以下根据情况也称为“光取向膜形成用组合物”)。光反应性基团是指通过照射光(光照射)产生液晶取向能力的基团。具体地是指通过光照射能发生生成物分子的诱发取向或异构化反应、二聚反应、光交联反应，或光分解反应那样的、引起液晶取向能力的光反应的基团。在光反应性基团之中，利用二聚反应或光交联反应的基团，基于取向性优异、保持偏振光膜形成时的近晶液晶状态的点而优选。作为能发生以上反应的光反应性基团，优选具有不饱和键、尤其是具有双键的基团，特别优选具有选自碳‑碳双键(C＝C键)、碳‑氮双键(C＝N键)、氮‑氮双键(N＝N键)及碳‑氧双键(C＝O键)之中的至少一个键的基团。
具有C＝C键的光反应性基团可列举，例如乙烯基、聚烯基、均二苯代乙烯基、苯乙烯基吡啶基、类杂芪基、查耳酮基及肉桂酰基等。具有C＝N键的光反应性基团可列举，具有芳香族希夫碱及芳香族腙等结构的基团。具有N＝N键的光反应性基团可列举，偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、二偶氮基及甲臜基等，或者以氧化偶氧苯为基本结构的基团。具有C＝O键的光反应性基团可列举，二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酰亚胺基等。这些基团可具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基及卤代烷基等取代基。
其中，优选能发生光二聚反应的光反应性基团，基于光取向所需要的偏振光照射量相对较少，且易于获得热稳定性或历时稳定性优异的光取向膜，优选肉桂酰基及查耳酮基。进一步地，作为具有光反应性基团的聚合物，特别优选该聚合物侧链的末端部位具有呈桂皮酸结构样的肉桂酰基。
作为具有光反应性基团的聚合物或单体溶解于溶剂的光取向膜形成用组合物，通过在透明基材上进行涂布，可在透明基材上形成光取向诱发层。对于组合物使用的溶剂无特别限定，可根据具有光反应性基团的聚合物或单体的溶解性，适当使用上述取向性聚合物组合物中使用的溶剂。
相对于光取向膜形成用组合物，具有光反应性基团的聚合物或单体的浓度，虽可根据具有该光反应性基团的聚合物或单体的种类或期望制得的光取向膜的厚度适当地进行调节，但以固体成分浓度来表示，优选至少为0.2质量％，特别优选0.3～10质量％的范围。此外，在不明显有损光取向膜的特性的范围内，光取向膜形成用组合物可以含有聚乙烯醇或聚酰亚胺等高分子材料或光增敏剂。
作为将取向性聚合物或具有光反应性基团的聚合物或单体涂布于透明基材上的方法，可采用旋涂法、挤压法、凹版涂层法、模涂法、棒涂法及涂敷法等涂布法，或柔性法等印刷法等公知的方法。另，在通过后述的卷对卷形式(Roll to Roll形式)的连续制造方法实施本偏振光膜的制造时，涂布方法通常采用凹版涂层法、模涂法或柔性法等印刷法。
<本偏振光膜的制造方法>
在基材上形成的取向膜上，涂布偏振光膜形成用组合物获得涂布膜。在取向膜上涂布偏振光膜形成用组合物的方法(涂布方法)可列举，例如与在透明基材上涂布取向性聚合物或具有光反应性基团的聚合物(单体)时例示的方法相同的方法。
接着，通过在涂布膜中含有的聚合性近晶液晶化合物不聚合的条件下干燥除去溶剂，形成干燥被膜。干燥方法可列举，例如自然干燥法、通风干燥法、加热干燥及减压干燥法等。此时，优选先使干燥被膜含有的聚合性近晶液晶化合物的液晶状态成为向列相(向列液晶状态)后，再使向列相转变为近晶相。为了如上所述的经由向列相形成近晶相，例如可采取如下方法：加热至干燥被膜中含有的聚合性近晶液晶化合物相变为向列相液晶状态的温度以上，接着冷却至聚合性近晶液晶化合物呈现近晶相液晶状态的温度。
在使干燥被膜中的聚合性近晶液晶化合物呈近晶液晶状态，或使聚合性近晶液晶化合物经由向列液晶状态呈现为近晶液晶状态时，通过测定使用的聚合性近晶液晶化合物的相转变温度，可容易地求得控制液晶状态的条件(加热条件)。测定相转变温度的测定条件通过本申请的实施例进行说明。
在使聚合性近晶液晶化合物聚合时，为了使其保持良好的近晶相液晶状态，作为聚合性近晶液晶化合物，优选使用含有2种以上的聚合性液晶近晶化合物的偏振光膜形成用组合物。若使用已调整了2种以上的聚合性近晶液晶化合物的含量比的偏振光膜形成用组合物，则在经由向列相形成近晶相液晶状态后，可暂时性形成过冷却状态，具有易于保持高次元近晶相液晶状态的优点。
接着，对聚合性近晶液晶化合物的聚合工序进行说明。此处，对使偏振光膜形成用组合物含有光聚合引发剂，干燥被膜中的聚合性近晶液晶化合物的液晶状态呈近晶相后，保持该近晶相液晶状态，使聚合性近晶液晶化合物光聚合的方法进行详述。在光聚合中，作为照射干燥被膜的光线，可根据该干燥被膜中含有的光聚合引发剂的种类，或聚合性近晶液晶化合物的种类(尤其是，聚合性近晶液晶化合物所具有的光聚合基团的种类)及其量，适当地从可见光、紫外光及激光构成的群组中选择光或通过活性电子束进行。其中，基于易于控制聚合反应的进度的点，或可使用该领域中广泛使用的装置作为光聚合所涉及的装置的点，优选紫外光。因此，优选选择偏振光膜形成用组合物中含有的聚合性近晶液晶化合物或光聚合引发剂的种类，以使其能通过紫外光进行光聚合。此外，使之进行聚合时，在照射紫外光的同时，也可通过适当的冷却方法，冷却干燥被膜以控制聚合温度。通过采用这样的冷却方法，于更低的温度下实施聚合性近晶液晶化合物的聚合，则具有上述透明基材即使使用耐热性相对较低之物，也能恰当地形成本偏振光膜的优点。
通过进行如上所述的光聚合，聚合性近晶液晶化合物在保持近晶相、优选已经列举的高次元近晶相液晶状态下进行聚合，形成本偏振光膜。聚合性近晶液晶化合物在保持近晶相的液晶状态而聚合所得的本偏振光膜，伴随着偶氮系色素(1)的作用，相比于现有的主客体型偏振光膜、即保持向列相液晶状态使聚合性液晶化合物等聚合而得的偏振光膜，其具有偏振光性能要远远高于该现有偏振光膜的优点。
本偏振光膜的厚度优选在0.5μm以上10μm以下的范围，进一步优选1μm以上5μm以下。因此，可考虑到获得的本偏振光膜的厚度来决定本偏振光膜形成用的涂布膜的厚度。另，本偏振光膜的厚度可通过干涉膜厚计或激光显微镜或触针式膜厚计测定求得。
如上形成的本偏振光膜，通过使用含有如下组合色素的偏振光膜形成用组合物，而具有满足式(I)～式(V)关系的吸收光谱，该组合具有至少2种最大吸收波长相互不同的二色性色素，优选至少2种偶氮色素(1)，特别优选表1所示的偶氮色素(1)的组合。特别地，若使用含有表1所示偶氮色素(1)的组合的组合物作为偏振光膜形成用组合物，则能进一步容易地获得具有满足式(I)～式(V)关系的吸收光谱的本偏振光膜。
此外，如上形成的本偏振光膜，特别优选在X射线衍射测定中获得布拉格峰的偏振光膜。作为获得这样的布拉格峰的偏振光膜，可列举例如、显示来源于六角相或晶体相的衍射峰的本偏振光膜。
进一步优选本偏振光膜的可见度补正单体透过率Ty在43％以上，可见度补正单体偏振度Py在90％以上。此处所述的可见度补正单体透过率Ty及可见度补正单体偏振度Py是指，在波长300～800nm的范围中，测定本偏振光膜的穿透轴方向的透过率(T1)及吸收轴方向的透过率(T2)，使用下述式(VI)及式(VII)，算出单体透过率及偏振度，通过JIS Z8701的2度视野(C光源)进行可见度补正后的值。
Ty(％)＝(T1+T2)/2                        式(VI)
Py(％)＝{(T1‑T2)/(T1+T2)}×100           式(VII)
<本偏振光膜(本圆偏振光板)的连续制造方法>
以上大致说明了本偏振光膜的制造方法，但在商业上制造本偏振光膜时，需要能连续制造本偏振光膜的方法。这样的连续制造方法是采取卷对卷形式的方法，根据情况将其称为“本制造方法”。另，在本制造方法中，以基材为赋予了相位差性的透明基材的情况为中心进行说明。
本制造方法例如具有如下工序：
准备好将透明基材卷绕于第1卷芯的第1滚筒的工序；
从第1滚筒连续送出透明基材的工序；
涂布含有具有光反应性基团的聚合物和溶剂的组合物，于透明基材上连续形成第1涂布膜的工序；
通过从第1涂布膜干燥除去溶剂，于透明基材上形成第1干燥被膜，连续获得第1层积体的工序；
通过对第1干燥被膜进行偏振光UV照射，形成光取向膜，连续获得第2层积体的工序；
在光取向膜上，涂布含有聚合性近晶液晶化合物、二色性色素及溶剂的组合物，于光取向膜上连续形成第2涂布膜的工序；
在第2涂布膜中含有的聚合性近晶液晶化合物不进行聚合的条件下，通过对第2涂布膜进行干燥，于光取向膜上形成第2干燥被膜，连续获得第3层积体的工序；
使第2干燥被膜中含有的聚合性近晶液晶化合物成为近晶液晶状态后，通过保持近晶液晶状态，使聚合性近晶液晶化合物聚合，连续获得偏振光膜的工序；
将连续获得的偏振光膜卷绕于第2卷芯，获得第2滚筒的工序。此处，参照图1，对本制造方法的主要部分进行说明。
透明基材被卷绕于第1卷芯210A的第1滚筒210可从例如、市场上容易地获得。作为这样的能以滚筒形态从市场购入的透明基材，在已经列举的透明基材之中，可列举纤维素酯、环状烯烃系树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸酯构成的膜等。此外，在以圆偏振光板的形式得到本偏振光膜时可使用的预先赋予了相位差性的透明基材也可从市场上容易地获得，可列举例如、纤维素酯、聚碳酸酯或环状烯烃系树脂构成的相位差膜等。
接着，从上述第1滚筒210开卷输出透明基材。开卷输出透明基材的方法可按如下进行：对第1滚筒210的卷芯210A设置合适的旋转装置，通过该旋转装置使第1滚筒210旋转。此外，也可采取以下形式：在从第1滚筒210搬运透明基材的方向上，设置合适的辅助滚筒300，通过该辅助滚筒300的旋转装置开卷输出透明基材。进一步，也可采取以下形式：通过同时对第1的卷芯210A及辅助滚筒300设置旋转装置，在赋予透明基材适当的张力的同时，开卷输出透明基材。
从第1滚筒210开卷输出的透明基材在通过涂布装置211A时，由该涂布装置211A向其表面上涂布取向膜形成用组合物。为了像如上所述那样连续涂布取向膜形成用组合物，该涂布装置211A采用凹版涂层法、模涂法、柔性法等印刷法。
经过涂布装置211A后的膜，相当于上述透明基材与第1涂布膜的层积体。如此形成(层积)了第1涂布膜的透明基材被搬运到干燥炉212A，通过该干燥炉212A进行加热，转化为由透明基材与第1干燥被膜构成的第1层积体。作为干燥炉212A，可使用例如热风式干燥炉等。干燥炉212A的设定温度，根据由涂布装置211A涂布的取向膜形成用组合物中含有的溶剂的种类等进行设定。此外干燥炉212A可采取被划分为合适的区段，划分的多个区段的设定温度各不相同的形式，也可采取串联配置多个干燥炉，各干燥炉相互之间设定为不同的温度进行运转，同时膜被依次搬运到该多个干燥炉的形式。
通过加热炉212A连续形成而得的第1层积体，接着经由偏振光UV照射装置213A，于层积体的第1干燥被膜侧的表面或透明基材侧的表面进行偏振光UV照射，由此第1干燥被膜转化为光偏振光膜。此时，使膜的搬运方向D1与形成的光取向膜的取向方向D2呈大致45°的角度。图2是偏振光UV照射后形成的光取向膜的取向方向D2，与膜的搬运方向D1的关系示意图。即，图1显示的是，对于通过偏振光UV照射装置213A后的第1层积体的表面，观察膜的搬运方向D1和光取向膜的取向方向D2时，它们之间形成的角度大致为45°。
如上连续形成的第1层积体，接着通过涂布装置211B，由此在第1层积体的光取向膜上涂布偏振光膜形成用组合物后，再通过干燥炉212B，进而成为第2层积体，或第2层积体的第2干燥被膜中含有的聚合性近晶液晶化合物形成了近晶液晶状态的层积体。干燥炉212B具有从光取向膜上涂布的偏振光膜形成用组合物中干燥除去溶剂的功能的同时，还具有给予第2干燥被膜热能量的作用，以使第2干燥被膜中含有的聚合性近晶液晶化合物成为近晶相液晶状态。此外，如上所述，为了使聚合性近晶液晶化合物呈近晶相液晶状态，先暂且使聚合性近晶液晶化合物呈向列相液晶状态，为此，需要施予上述第1层积体不同的加热条件，对上述第1层积体进行多阶段的加热处理。因此，干燥炉212B，如对干燥炉212A的说明那样，优选由相互间设置不同设定温度的多个区段构成，或者是准备多个相互间设定温度不同的干燥炉，串联设置多个干燥炉的形式。
经过了干燥炉212B的膜，偏振光膜形成用组合物中含有的溶剂被充分除去，第2干燥被膜中的聚合性近晶液晶化合物在保持近晶相液晶状态的形态下，被搬运到光照射装置213B。通过光照射装置213B进行光照射，聚合性近晶液晶化合物在保持液晶状态的形态下进行光聚合，最终本偏振光膜连续形成于取向膜上。
如上连续形成的本偏振光膜，以含有透明基材及取向膜的层积体的形态被卷绕于第2卷芯220A，得到第2滚筒220的形态。在卷绕形成的本偏振光膜获得第2滚筒时，也可使用适当的垫片(スペ一サ)进行共同卷绕。
如上所述，透明基材依次经过第1滚筒/涂布装置211A/干燥炉212A/偏振光UV照射装置213A/涂布装置211B/干燥炉212A/光照射装置213A，于透明基材的光取向膜上连续制得本偏振光膜。
此外，在图1所示的本制造方法中，虽例示了从透明基材到本偏振光膜的连续制造的方法，但也可按如下制得：例如透明基材依次经过第1滚筒/涂布装置21iA/干燥炉212A/偏振光UV照射装置213A，连续形成的第1层积体卷绕于卷芯上，制造出滚筒形态的第1层积体，从滚筒开卷输出第1层积体，将开卷输出的第1层积体按顺序经过涂布装置211B/干燥炉212A/光照射装置213A，制得本偏振光膜。
以上，以透明基材/光取向膜/本偏振光膜的层积体的形态为中心，对本偏振光膜的构成及制造方法进行了说明，但如上所述，本偏振光膜也可以是从该层积体剥离光取向膜或透明基材，也可以是在层积体上层积透明基材/光取向膜/本偏振光膜以外的层或膜的形态。作为这些层及膜，如上所述，本偏振光膜可进一步具备相位差膜，也可进一步具备防反射层或增亮膜。
此外，通过将透明基材本身作成相位差膜，可获得相位差膜/光取向膜/本偏振光膜形态的圆偏振光板或楕圆偏振光板。例如，在使用单轴拉伸得到的1/4波长板作为相位差膜时，通过将偏振光UV的照射方向设定为相对于透明基材的搬运方向成大致45°，可以以卷对卷的方法来制作圆偏振光板。在这样制造圆偏振光板时使用的1/4波长板，优选具有对于可见光的面内相位差值随波长变短而减小的特性。
此外，使用1/2波长板作为相位差膜，制作其慢轴与偏振光膜的吸收轴的角度设定为错开的直线偏振光板滚筒，通过在与形成偏振光膜的面相对的一侧进一步形成1/4波长板，可获得宽频带圆偏振光板。
在以上说明的本制造方法中，也可将透明基材替换为没有相位差性的基材。此时，制造本圆偏振光板时，首先，从实施本制造方法后得到的、基材(不具有相位差性)/光取向膜/本偏振光膜的层积体上，剥离本偏振光膜做成卷筒体225。另一方面，准备好卷绕有相位差膜的卷筒体230。接着，从卷筒体225连续开卷输出本偏振光膜、从卷筒体230连续开卷输出相位差膜，以合适的方法将它们贴合的话，则可制造本圆偏振光板。该方法的主要部分见图3。此时同样地，相对于本偏振光膜的取向方向，大致呈45°的角度贴合相位差膜即可。另，在贴合本偏振光膜和相位差膜时，也可使用合适的粘着剂，介由粘着剂形成的粘着层，贴合本偏振光膜和相位差膜。
此外，在使通过本制造方法制造而成的本偏振光膜具有满足式(I)～式(V)关系的吸收光谱时，剥离透明基材等获得本偏振光膜的单膜状态，通过常法测定该单膜的本偏振光膜的吸收光谱即可，但也可通过以下方法求得，例如预先测定透明基材等的吸收光谱，将该透明基材等的吸收光谱作为基线，再测定透明基材等上形成的本偏振光膜的吸收光谱的方法，或者预先测定透明基材等的吸收光谱，接着测定透明基材等上形成的本偏振光膜的吸收光谱，求透明基材等上形成的本偏振光膜的吸收光谱和透明基材等的吸收光谱的差的方法。通过使用这样预先测定透明基材等的吸收光谱的方法，可简便地在不剥离透明基材等的情况下求得本偏振光膜的吸收光谱。
<本偏振光膜的用途>
本偏振光膜可制造有机EL(电致发光)显示装置中极其有用的本圆偏振光板。另，该显示装置也可以是无机电致发光(EL)显示装置。
图4及图6是使用了本偏振光膜的EL显示装置(以下根据情况称为“本有机EL显示装置”)的截面构成的概略示意图。
对使用了本偏振光膜的本有机EL显示装置30，参照图4进行说明。在本有机EL显示装置中使用本偏振光膜时，优选将本偏振光膜做成圆偏振光板(以下根据情况称为“本圆偏振光板”)后使用。本圆偏振光板具有2个实施方式。因此，在说明本有机EL显示装置30的构成等之前，对本圆偏振光板的2个实施方式参照图5进行说明。
图5的(A)是本圆偏振光板110的第1实施方式的截面示意图。该第1实施方式是在偏振光膜3上进一步设置相位差层(相位差膜)4的本圆偏振光板110。图6的(B)是本圆偏振光板110的第2实施方式的截面示意图。该第2实施方式是如下本圆偏振光板110，其通过使用预先赋予了相位差性的透明基材(相位差膜)作为制造起偏器时使用的透明基材1，由此透明基材1自身兼具作为相位差层4的功能。
本有机EL显示装置30是在形成有像素电极35的基板33上，层积作为发光源的有机功能层36及阴极电极37而制得。在夹持基板33、有机功能层36的相反侧配置有圆偏振光板31，作为相关的圆偏振光板31，使用本圆偏振光板110。通过在像素电极35上施加正电压，在阴极电极37上施加负电压，于像素电极35及阴极电极37之间外加直流电流，有机功能层36开始发光。作为发光源的有机功能层36由电子输送层、发光层及空穴输送层等构成。从有机功能层36射出的光通过像素电极35、层间绝缘膜34、基板33、圆偏振光板31(本圆偏振光板110)。虽对具有有机功能层36的有机EL显示装置进行说明，但也适用于具有无机功能层的无机EL显示装置。
在制造本有机EL显示装置30时，首先，在基板33上形成期望形状的薄膜晶体管40。接着形成层间绝缘膜34，接着以溅镀法形成像素电极35，形成图案。之后，层积有机功能层36。
接着，在基板33的设置薄膜晶体管40的面的相反面，设置圆偏振光板31(本圆偏振光板110)。
在使用本圆偏振光板110作为圆偏振光板31时，参照图8中以虚线圈出的C部分的放大图对其层积顺序进行说明。在使用圆偏振光板110作为圆偏振光板31时，本圆偏振光板110上的相位差层4配置于基板33侧。图9的(C1)是本圆偏振光板110的第1实施方式的作为圆偏振光板31使用的放大图，图9的(C2)是本圆偏振光板110的第2实施方式的作为圆偏振光板31使用的放大图。
接着，对本有机EL显示装置30的本偏振光膜31(圆偏振光板110)以外的构件进行简单的说明。
基板33可列举，蓝宝石玻璃基板、石英玻璃基板、钠钙(ソ一ダ)玻璃基板及氧化铝等陶瓷基板；铜等金属基板；塑料基板等。
图虽未显示，但可在基板33上形成热传导性膜。热传导性膜可列举，金刚石薄膜(DLC等)等。当像素电极35为反射型时，光朝与基板33相反的方向射出。因此，不权可使用透明材料，也可使用不锈钢等非透明材料。基板可采取单一形式，也可采取用粘合剂贴合多个基板作成层积基板的形式。此外，这些基板不限定为板状，其也可为膜。
作为薄膜晶体管40，例如使用多晶硅晶体管等即可。薄膜晶体管40设置于像素电极35的端部，其大小为10～30μm的程度。另，像素电极35的大小为20μm×20μm～300μm×300μm的程度。
在基板33上，设置有薄膜晶体管40的布线电极。布线电极的电阻低，具有与像素电极35电连接，将电阻值抑制在低值的功能，一般地，布线电极使用含有Al、Al及过渡金属(但不包括Ti)、Ti或氮化钛(TiN)中的任意1种或2种以上之物。
在薄膜晶体管40与像素电极35之间设置有层间绝缘膜34。层间绝缘膜34可以是由SiO2等氧化硅、氮化硅等无机系材料通过溅射或真空蒸镀成膜而成，也可以是以SOG(スピン·オン·グヲス；旋涂式玻璃法)形成的氧化硅层、光刻胶、聚酰亚胺及丙烯酸树脂等树脂系材料涂膜等，具有绝缘性的物质的任意一种。
在层间绝缘膜34上，形成肋状物41。肋状物41配置于像素电极35的边缘部位(邻接像素间)。肋状物41的材料可列举，丙烯酸树脂及聚酰亚胺树脂等。肋状物41的厚度优选1.0μm以上3.5μm，更优选1.5μm以上2.5μm以下。
接着，对由作为透明电极的像素电极35、作为发光源的有机功能层36、阴极电极37构成的EL元件进行说明。有机功能层36具有空穴输送层及发光层中的至少各1层，例如，按顺序具备电子注入输送层、发光层、空穴输送层及空穴注入层。
像素电极35可列举，例如ITO(掺锡氧化铟)、IZO(掺锌氧化铟)、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等，特别优选ITO或IZO。像素电极35的厚度只要是具有能充分进行空穴注入的规定以上的厚度即可，优选10～500nm的程度。
像素电极35可通过蒸镀(优选溅镀法)形成。溅镀气体无特别限制，使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性气体，或它们的混合气体即可。
作为阴极电极37的构成材料，可使用例如K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金属元素，但考虑到提高电极的工作稳定性，优选使用选自例示金属元素的2种成分或3种成分的合金体。合金体优选例如Ag·Mg(Ag：1～20at％)、Al·Li(Li：0.3～14at％)、In·Mg(Mg：50～80at％)及Al·Ca(Ca：5～20at％)等。
阴极电极37可通过蒸镀及溅镀法等形成。优选阴极电极37的厚度在0.1nm以上，优选1～500nm以上。
空穴注入层具有使空穴容易从像素电极35注入的功能，空穴输送层具有输送空穴及阻碍电子的功能，也称为电荷注入层和电荷输送层。
发光层的厚度、空穴注入层与空穴输送层的总厚度以及电子注入输送层的厚度无特别限定，因形成方法不同而异，优选制成大致5～100nm的厚度。空穴注入层或空穴输送层中可使用各种有机化合物。在形成空穴注入输送层、发光层及电子注入输送层时，基于能形成均质薄膜的点，可使用真空蒸镀法。
作为发光源的有机功能层36，可以使用，利用来自于单线态激子发光(荧光)的材料、利用来自于三线态激子发光(磷光)的材料、含有利用来自于单线态激子发光(荧光)的材料和利用来自于三线态激子发光(磷光)的材料的材料、由有机物形成的材料、含有由有机物形成的材料和由无机物形成的材料的材料、高分子材料、低分子材料、含有高分子材料和低分子材料的材料等。但是，不限于此，使用了作为EL元件用的公知的各种材料的有机功能层36，可应用于本EL显示装置30。
在阴极电极37与封装盖39的空间之间配置干燥剂38。这是因为有机功能层36不耐湿。通过干燥剂38吸收水分，防止有机功能层36的劣化。
图6是表示本有机EL显示装置30的另一方式的截面构成的概略图。该本有机EL显示装置30具有使用薄膜封装膜41的封装结构，也可从阵列基板的相反面获得出射光。
作为薄膜封装膜41，优选使用在电解电容器膜上蒸镀有DLC(类金刚石碳)的DLC膜。DLC膜具有水分渗透性非常差的特性，其防湿性能高。此外，也可将DLC膜等直接蒸镀于阴极电极37表面而形成。此外，也可层积多层树脂薄膜和金属薄膜，形成薄膜封装膜41。
如上所述，提供一种本发明涉及的新型偏振光膜(本偏振光膜)及具备含有本偏光膜的本圆偏振光板的新型本有机EL显示装置。
本有机EL显示装置通过具备含有本偏振光膜的本圆偏振光板，将波长450nm的光的强度设为I450、波长550nm的光的强度设为I550、波长650nm的光的强度设为I650时的，具有满足以下所示所有关系的发光光谱。
1≤I450/I550＜2    (X)
1≤A450/A650＜2    (XI)
对于本有机EL显示装置，由于本偏振光膜几乎不吸收有机EL发光元件发散出来的光、尤其是寿命短的蓝光(波长450nm附近的发光元件)，故不需要提高有机EL发光元件的发光强度，可达成有机EL图像显示装置的高寿命化。因此，本偏振光膜及本圆偏振光板具有极高的产业上的价值。
实施例
以下通过实施例对本发明进行进一步详细的说明。例中的“％”及“份”若无特别声明，则为质量％及质量份。
在本实施例中，使用下述聚合性近晶液晶化合物。
化合物(2‑6)(下述式(2‑6)所示的化合物)
化合物(2‑6)通过Lub et al. Recl.Trav.Chim.Pays‑Bas，115，321‑328(1996)所述的方法合成。

〔相转变温度的测定〕
化合物(2‑6)的相转变温度通过求得由化合物(2‑6)构成的膜的相转变温度进行确认。其操作如下。
在形成了取向膜的玻璃基板上，形成由化合物(2‑6)构成的膜，加热的同时，使用偏振光显微镜(BX‑51、奥林巴斯社制)，通过观察结构(テクスチヤ一)来确认相转变温度。将化合物(2‑6)构成的膜升温至120℃后，在降温的过程中，确认到112℃下相转变为向列相，110℃下相转变为近晶A相，94℃下相转变为近晶B相。
化合物(2‑8)(下述式(2‑8)所示的化合物)
化合物(2‑8)参考上述化合物(2‑6)的合成而合成。

〔相转变温度的测定〕
按照与化合物(2‑6)的相转变温度测定相同的方法，对化合物(2‑8)的相转变温度进行确认。将化合物(2‑8)升温至140℃后，在降温的过程中，确认到131℃下相转变为向列相，80℃下相转变为近晶A相，68℃下相转变为近晶B相。
实施例1
〔偏振光膜形成用组合物的配制〕
混合表3所示的成分，通过在80℃下搅拌1小时，获得偏振光膜形成用组合物。另，各成分的结构及混合组成(二色性色素的组成参照表3)如下所示。
聚合性近晶液晶化合物：化合物(2‑6)    90份
                      化合物(2‑8)    10份
二色性色素：
化合物(1‑5)                          2.5份

化合物(1‑8)                          2.5份

化合物(1‑21)                         2.5份

聚合引发剂：
2‑二甲基氨基‑2‑苄基‑1‑(4‑吗啉苯基)‑1‑丁酮(イルガキユア369；汽巴精化有限公司制)                                    6份
流平剂：
聚丙烯酸酯化合物(BYK‑361N；BYK‑Chemie社制)1.2份
溶剂：二甲苯                              250份
〔相转变温度的测定〕
与化合物(2‑6)及化合物(2‑8)的情况相同，求得如上配制而成的偏振光膜形成用组合物中含有的化合物(2‑6)及化合物(2‑8)的混合物(化合物(2‑6)及化合物(2‑8)的混合比为90份：10份)的相转变温度。将该聚合性液晶化合物升温至140℃后，在降温的过程中，确认到116℃下相转变为向列相，107℃下相转变为近晶A相，76℃下相转变为近晶B相。
〔本偏振光膜的制造及评价〕
1.取向膜的形成
使用玻璃基板作为透明基材。
通过旋涂法将聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型、和光纯药工业株式会社制)的2质量％水溶液(取向性聚合物组合物)涂布于玻璃基板上，干燥后，形成厚度100nm的膜。接着，通过对获得的膜的表面实施摩擦处理形成取向膜。摩擦处理使用半自动摩擦装置(商品名：LQ‑008型、常阳工学株式会社制)，通过布(商品名：YA‑20‑RW、吉川化工株式会社制)，在压距0.15mm、转速500rpm、16.7mm/s的条件下进行。通过该摩擦处理，获得了在玻璃基板上形成有取向膜的层积体1。
2.偏振光膜的形成
通过旋涂法将偏振光膜形成用组合物涂布于层积体1的取向膜上，在120℃的加热板上加热干燥1分钟后，快速冷却至室温，于取向膜上形成干燥被膜。在该干燥被膜中，含有的聚合性近晶液晶化合物的液晶状态为近晶B相。接着，使用UV照射装置(SPOTCURE  SP‑7：ウシオ电机株式会社制)，在氮环境气体下以曝光量2000mJ/cm2(365nm基准)对干燥被膜进行紫外线照射，至此干燥被膜中含有的聚合性近晶液晶化合物保持液晶状态而聚合，由干燥被膜形成为偏振光膜。通过激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定此时的偏振光膜的厚度，为1.8μm。
3.测定吸光度以及透过率
为了确定本起偏器的有用性，如下进行吸光度的测定。对于穿透轴方向的吸光度(A1)及吸收轴方向的吸光度(A2)，使用在分光光度计(岛津制作所株式会社制UV‑3150)上设置有附带起偏器折叠器的装置，通过双射线法在波长300至800nm的范围下进行光谱测定。折叠器的参比侧设置有将光量减少50％的网筛(メツシユ)。求得波长450nm、550nm、650nm下的吸收轴方向的吸光度A450、A550、A650、吸光度比A450/A550及A450/A650的值。另，在该光谱测定中，预先测定用于形成本偏振光膜的层积体1的吸收光谱，以吸收光谱为基线进行校正求得。
此外，求得从同一光谱结果计算出的可见度补正偏振度(Py)、可见度补正透过率(Ty)。这些测定结果见表2。另，可见度补正偏振度(Py)、可见度补正透过率(Ty)是在波长300～800nm的范围下测定穿透轴方向的透过率(T1)及吸收轴方向的透过率(T2)，使用下述式(VI)及式(VII)算出单体透过率及偏振度，根据JIS Z8701的2度视野(C光源)进行可见度补正后的值。
Ty(％)＝(T1+T2)/2                式(VI)
Py(％)＝{(T1‑T2)/(T1+T2)}×100   式(VII)
实施例2～8中，除了改变二色性色素的种类以外，与实施例1相同地制得偏振光膜。二色性色素的添加量与制作的偏振光膜的膜厚的结果见表1。此外，同样地测定吸光光谱。测定波长450nm、550nm、650nm下的吸收轴方向的吸光度A450、A550、A650、吸光度比A450/A550、A450/A650的值。此外，同样地，可见度补正偏振度(Py)、可见度补正透过率(Ty)的测定结果见表4。
参考例1
〔碘PVA偏振光板的制作〕
将平均聚合度约2400、皂化度99.9摩尔％以上的厚度75μm的聚乙烯醇膜，通过干式单轴拉伸约5.5倍，进一步在保持拉伸的状态下，于60℃的纯水中浸没60秒之后，再在碘/碘化钾/水的重量比为0.05/5/100的水溶液中28℃下浸没20秒。之后，再于碘化钾/硼酸/水的重量比为8.5/8.5/100的水溶液中72℃下浸没300秒。然后用26℃的纯水清洗20秒后，65℃下干燥，获得聚乙烯醇树脂上吸附碘取向而得的偏振光膜。
在如上所得的起偏器的双面上，介由通过羧基改性聚乙烯醇〔クヲレ株式会社制クヲレポバ一ルKL318〕3份和水溶性聚酰胺环氧树脂〔住化ケムテツクス株式会社制スミレ一ズレジン650(固体成分浓度30％的水溶液)〕1.5份制作而得的聚乙烯醇系粘合剂，制得双面被实施了皂化处理的三醋酸纤维素膜〔柯尼卡美能达光电株式会社制KC8UX2MW〕保护的偏振光膜。
参考例2
除了在碘/碘化钾/水的重量比为0.05/5/100的水溶液中28℃下浸泡35秒以外，同比较例1制得偏振光膜。
对于如上制得的偏振光膜，与实施例1相同地实施光谱测定。波长450nm、550nm、650nm下的吸收轴方向的吸光度A450、A550、A650、吸光度比A450/A550、A450/A650的值以及可见度补正偏振度(Py)、可见度补正透过率(Ty)的测定结果见表4。
【表3】

【表4】

实施例9
〔在相位差膜上制作光取向膜〕
使用相位差膜(单轴拉伸膜WRF‑S(改性聚碳酸酯系树脂)、相位差值137.5nm、厚50μm、帝人化成(株)制)作为透明基材，通过棒涂法涂布下述式(3)的光取向聚合物5％溶解于二甲苯所得的溶液，在120℃下干燥，获得干燥被膜。在干燥被膜上，以相对于相位差膜的慢轴呈45°的方向照射偏振光UV获得光取向膜。偏振光UV处理使用UV照射装置(SPOT CURE SP‑7；ウシオ电机株式会社制)，在波长365nm下测定的强度为100mJ的条件下进行。

〔圆偏振光板的制作〕
通过棒涂法将实施例1中配制的偏振光膜形成用组合物涂布于光取向膜上，用120℃的干燥烘箱加热干燥1分钟后，冷却至室温。在该干燥被膜中，所含的聚合性近晶液晶化合物的液晶状态为近晶B相。接着，使用UV照射装置(SPOT CURE SP‑7；ウシオ电机株式会社制)，以曝光量2000mJ/cm2(365nm基准)对由偏振光膜形成用组合物形成的层进行紫外线照射，至此干燥被膜中含有的聚合性近晶液晶化合物保持聚合性近晶液晶化合物的液晶状态而聚合，由干燥被膜形成为偏振光膜。
通过激光显微镜(奥林巴斯株式会社社制OLS3000)测定此时的偏振光膜的厚度，为1.8μm。
实施例10
使用实施例2中配制的偏振光膜形成用组合物代替实施例1中配制的偏振光膜形成用组合物，除此之外进行与实施例9相同的实验，制得圆偏振光板。
实施例11
使用实施例8中配制的偏振光膜形成用组合物代替实施例1中配制的偏振光膜形成用组合物，除此之外进行与实施例9相同的实验，制得圆偏振光板。
参考例3
介由粘着剂进行贴合，使参考例1中作成的偏振光膜的吸收轴，与相位差膜(单轴拉伸膜WRF‑S(改性聚碳酸酯系树脂)、相位差值137.5nm、厚50μm、帝人化成(株)制)的慢轴所成的角度为45°，制得圆偏振光板。
参考例4
使用参考例2中作成的偏振光膜代替参考例1中作成的偏振光膜，除此之外进行与参考例3相同的实验，制得圆偏振光板。
<光学特性的测定>
介由粘着剂，将分别由实施例9～10及参考例3～4获得的圆偏振光板的相位差膜与金属铝板贴合，通过与上述透过率测定相同的方法测定波长450nm、550nm、650nm下的反射率。此外，根据JIS Z8701的2度视野(C光源)进行可见度补正算出可见度补正反射率。结果见表4。
可知由本偏振光膜制造而成的圆偏振光板，对于人类的光谱光视效率具有良好的防反射特性。
【表5】

产业上的利用可能性
本偏振光膜在制造液晶显示装置、(有机)EL显示装置及投射型液晶显示装置上非常有用。